一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达制造方法及图纸

技术编号:34005026 阅读:27 留言:0更新日期:2022-07-02 13:08
本申请公开一种刻蚀深度获取方法、装置、存储介质及激光雷达,其中方法包括:获取目标刻蚀深度在光信号的中心波长下对应的目标耦合长度比值,所述目标刻蚀深度为在多个刻蚀深度中选取的对波导进行刻蚀的任一度量值;当所述目标耦合长度比值为比值集合中数值最小的耦合长度比值时,将所述目标刻蚀深度确定为对波导进行刻蚀处理的波导刻蚀深度;所述比值集合包括多个刻蚀深度中各刻蚀深度对应的耦合长度比值,所述耦合长度比值为通过各刻蚀深度对应的光折射率以及所述光折射率随所述中心波长的偏移变化的敏感程度值得到的。采用本申请,可以保证光耦合器的工作稳定性,进而保证激光雷达系统的稳定性。激光雷达系统的稳定性。激光雷达系统的稳定性。激光雷达系统的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱琳任亚林汪敬牛犇篠原磊磊
申请(专利权)人:深圳市速腾聚创科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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