一种点扫描图案化液晶光取向系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种点扫描图案化液晶光取向系统，包括依次连接的光源模块、光学整形及微缩子系统、成像检测组件、功率检测子系统、聚焦检测及校正子系统、偏振态调制子系统、运动控制子系统；本发明专利技术还公开了上述点扫描图案化液晶光取向方法；本发明专利技术实现在每个区域都能将干涉图案精确聚焦投影在感光材料表面进而高质量大幅面图案化液晶光取向，且具有光效利用率高、偏振态调控精确且线性的优点。偏振态调控精确且线性的优点。偏振态调控精确且线性的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种点扫描图案化液晶光取向系统及方法


[0001]本专利技术涉及液晶取向排列控制领域，尤其涉及一种点扫描图案化液晶光取向系统及方法。

技术介绍

[0002]液晶在信息显示、光学及光子学器件等领域具有广泛应用；液晶能够按照设计的取向排列进一步实现对光的振幅、相位以及偏振调制，在这些应用中发挥着重要的作用，因此液晶的取向排列控制方式成为了学术和工业生产的研究热点，目前公开的现有技术主要是摩擦取向技术和光控取向技术：
[0003]光控取向是新近发展起来的一种非接触式的液晶取向方法，它利用光敏材料在紫外或蓝光偏光照射下发生定向光交联、异构化或光裂解反应而得到所需的排列，目前光控取向技术分为四种：掩模套刻偏振图案技术、利用全息干涉的方法获得的周期性的液晶取向技术、基于DMD的动态掩模光取向技术，还有基于空间调制器的偏振取向技术。
[0004]基于液晶空间调制器的偏振取向技术是一种能够对入射光的相位和振幅进行调制的可编程控制器件，单次投影取向可以实现不同选区液晶不同取向排列的图案记录。
[0005]专利申请号CN2018208812本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述系统包括依次连接的光源模块、光学整形及微缩子系统、成像检测组件、功率检测子系统、聚焦检测及校正子系统、偏振态调制子系统、运动控制子系统；所述光源模块，用于提供激光光源且将所述激光光源发出的光调制为均匀的偏振光；所述偏振态调制子系统，用于将所述光源模块的偏振光调整为任意角度的偏振光；所述成像检测组件，用于对输出到工件上的偏振图案的成像进行检测；所述光学整形及微缩系统，用于将所述光源模块发出的光源整形为固定形状的光斑，并微缩至指定倍率；所述功率检测子系统，用于实时检测光源能量的变化；所述聚焦检测及校正子系统，用于检测微缩光斑的聚焦位置，并调整显微物镜与待曝光的载有光偏振敏感材料的平台的距离，使所述平台的当前位置处于所述显微物镜聚焦清晰位置；所述运动控制子系统，与所述微缩组件相连，用于调整载有光偏振敏感材料的平台的空间位置，且用于将微缩后的偏振图案光场进行拼接。2.根据权利要求1所述的点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述光源模块包括激光光源、光束匀光器、四分之一波片，所述激光光源为线偏振的光源；所述光束匀光器，用于将呈高斯分布的激光光源调制为近矩形分布；所述四分之一波片，用于将线偏振光源调制为圆偏振光。3.根据权利要求1所述的点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述光源模块包括激光光源、光束匀光器、偏振片，所述激光光源为非偏振的光源；所述偏振片用于将非偏振光调制为单一偏振光源；所述光束匀光器用于将呈高斯分布的所述激光光源调制为近矩形分布。4.根据权利要求1所述的点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述光学整形及微缩子系统，包括光源整形部件和微缩部件，所述光源整形部件用于将所述激光光源形成可更换的、具有镂空形状的掩模；所述微缩部件包括用于对偏振态调制子系统输出的偏振图案进行微缩，并写入到光偏振敏感材料中；所述微缩成像部件包括一组筒镜和显微物镜；所述筒镜构造为无限远矫正远心形式，所述显微物镜的光路的主轴方向垂直于所述平台，电机驱动所述显微物镜作竖直方向的上下移动，在所述平台上形成聚焦面。5.根据权利要求1所述的点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述功率检测子系统包括分光元件和功率探测器，所述分光元件构造为分光平片或分光棱镜；所述分光元件用于将整形后的光源分成两路，一路进入所述微缩部件进行微缩曝光，一路进入所述功率探测器以记录光源的功率变化。6.根据权利要求5所述的点扫描图案化液晶光取向系统，其特征在于，所述聚焦检测及校正子系统包括依次连接的检测光源、第二透镜、第二分光片、成像物镜组、第二成像CCD、电机；所述检测光源位于所述第二透镜的前焦面；所述第二分光片位于所述第二透镜的后焦面；所述第二成像CCD的成像面位于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘泉，王蓓，李文杰，
申请(专利权)人：昆山暨扬光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：