一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用，属于聚酰亚胺技术领域，解决了现有技术中聚酰亚胺薄膜在高温下透明性变差、浊度与黄度变大的问题。本发明专利技术聚酰亚胺薄膜的制备原料包括：二胺、二酐和端基保护剂；端基保护剂与二胺单体的摩尔比为(0.02～0.24):1；二胺单体与二酐单体的摩尔比为1:(0.90～0.99)；所述聚酰亚胺的分子主链中含有端基保护基团。本发明专利技术提供的聚酰亚胺薄膜制备方法实现了对分子链中活性端基的有效保护，并使薄膜的聚集态结构更趋稳定，有效改善了聚酰亚胺薄膜在高温环境下的光学稳定性，在电子、微电子、光学显示、光通信等领域具有重要应用。光通信等领域具有重要应用。光通信等领域具有重要应用。

【技术实现步骤摘要】
一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及聚酰亚胺
，尤其涉及一种聚酰亚胺薄膜及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]光电技术的飞速发展对高性能光学膜材料提出了迫切的应用需求，具有良好透明性、质轻、韧性等优点的聚合物光学材料受到越来越多的重视。在众多的聚合物材料中，透明聚酰亚胺材料因其突出的耐热性能同时兼具优异机械性能、化学稳定性等特性，已成为柔性光电领域首选的聚合物基板材料。特别是在新型显示领域，国内外显示企业开发了基于透明聚酰亚胺为盖板和基板的新型柔性显示器件。三星、华为等公司也发布了以透明聚酰亚胺薄膜为盖板材料的折叠手机，展现出了巨大的市场应用前景。此外，透明聚酰亚胺材料在柔性电子、微电子、信息通讯等其他领域也具有极为广泛应用。
[0003]在显示器件的制备过程中，基板材料通常需要经历一系列高温处理工艺。以OLED显示技术为代表，作为显示驱动的关键组件TFT的制备工艺温度很高，高温处理温度超过350℃，短时活化及去氢工艺甚至高达450～500℃。因此，作为显示应用最有希望的透明聚合物基板材料，聚酰亚胺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚酰亚胺薄膜，其特征在于，制备原料包括：二胺、二酐和端基保护剂；所述端基保护剂与二胺单体的摩尔比为(0.02～0.24):1；二胺单体与二酐单体的摩尔比为1:(0.90～0.99)；所述聚酰亚胺的分子主链中含有端基保护基团。2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述端基保护剂包括单酐类化合物，所述单酐类化合物包括邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢苯酐、3
‑
氟邻苯二甲酸酐、4
‑
氟邻苯二甲酸酐、3,4,5,6
‑
四氟邻苯二甲酸酐和萘二甲酸酐的一种或多种。3.根据权利要求1或2所述的聚酰亚胺薄膜，其特征在于，所述二胺为1,4
‑
对苯二胺、4,4'
‑
二氨基二苯醚、4,4'
‑
二氨基二苯砜、3,4'
‑
二氨基二苯砜、9,9
‑
双(4
‑
氨基苯基)芴、9,9
‑
双(3
‑
氟
‑4‑
氨基苯基)芴、9,9
‑
双(3
‑
甲基
‑4‑
氨基苯基)芴、1,1
‑
双(4
‑
氨基苯基)环己烷、1,4
‑
环己烷二胺、4,4'
‑
二氨基苯酰替苯胺、N,N'
‑
双(2
‑
三氟甲基
‑4‑
氨基苯基)
‑
对苯二甲酰胺、N,N'
‑
双(3
‑
三氟甲基
‑4‑
氨基苯基)
‑
对苯二甲酰胺、N,N'
‑
3,3'
‑
双(三氟甲基)
‑
(1,1
‑
联苯)
‑
4,4'
‑
二氨基苯甲酰胺、N,N'
‑
2,2'
‑
双(三氟甲基)
‑
(1,1
‑
联苯)
‑
4,4'
‑
二氨基苯甲酰胺、N,N'
‑
2,6
‑
双(三氟甲基)
‑
(1,1
‑
联苯)
‑
4,4'
‑
二氨基苯甲酰胺、2,2'
‑
双(三氟甲基)
‑
4,4'
‑
二氨基联苯、2,2'
‑
双(甲基)
‑
4,4'
‑
二氨基联苯、2,2'
‑
双氟
‑
4,4'
‑
二氨基
‑
联苯、2,2'
‑
双(三氟甲基)
‑
4,4'
‑
二氨基苯基醚、1,4
‑
双(2'
‑
三氟甲基
‑
4'
‑
氨基苯氧基)苯、1,4
‑...

【专利技术属性】
技术研发人员：范琳，王畅鸥，翟磊，何民辉，莫松，
申请(专利权)人：中国科学院化学研究所，
类型：发明
国别省市：