用于平底水钻生产的抛光机制造技术

本发明专利技术公开了一种用于平底水钻生产的抛光机，属于水钻加工技术领域。包括机架、两个夹具平转结构和两条抛光生产线，两条抛光生产线反向设置且通过两个夹具平转结构构成环形，抛光生产线包括上粉工位、上料工位、磨抛工位、加热工位和卸钻工位；夹具的夹具针在磨抛工位进行60

【技术实现步骤摘要】
用于平底水钻生产的抛光机


[0001]本专利技术属于水钻加工
，特别涉及一种用于平底水钻生产的抛光机，用于一种特定平底水钻的磨抛加工。

技术介绍

[0002]水钻是一种非常重要的饰品和服饰的配件，其通常通过抛光机对其进行加工。水钻的加工过程具体可以参见申请号为CN201410452669.4，该专利公开了一种水钻加工方法，包括如下步骤 ：(1)将待加工的水钻坯件粘接固定在一个夹具的夹具针上，水钻坯件的上半球暴露在外。(2)对水钻坯件的上半球进行斜面磨削加工和斜面抛光加工，从而在水钻坯件的上半球形成多个斜面 A。(3)将完成上半球磨抛加工的水钻坯件对接固定在另一个夹具的夹具针上，水钻坯件的下半球暴露在外。
[0003](4)对水钻坯件的下半球进行顶端面磨削加工和圆锥面磨削加工，从而将水钻坯件的下半球加工形成圆台。
[0004](5)对圆台的顶部进行顶端面抛光加工，从而形成顶端面；对圆台的腰部进行斜面磨削加工和斜面抛光加工，从而在水钻坯件的下半球形成多个斜面B。
[0005]其中，所述圆锥面磨削加工是指：固定有水钻坯件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于平底水钻生产的抛光机，包括沿左右向设置的机架、机架两端的两个夹具平转结构和机架前后两侧的两条抛光生产线，两条抛光生产线反向设置且通过两个夹具平转结构构成环形，所述抛光生产线包括在左右向依次设置的上粉工位(7)、上料工位(8)、磨抛工位、加热工位(15)和卸钻工位(16)，所述夹具平转结构位于卸钻工位(16)与另一侧的上粉工位(7)之间；其特征在于，所述夹具(17)的夹具针在磨抛工位进行60
°
分度旋转；所述磨抛工位包括沿夹具(17)的输送方向依次设置的大刻面粗磨工位(9)、大刻面细磨工位(10)、大刻面第一抛光工位(11)、大刻面第二抛光工位(12)、小刻面磨削工位(13)和小刻面抛光工位(14)；在大刻面粗磨工位(9)、大刻面细磨工位(10)、大刻面第一抛光工位(11)和大刻面第二抛光工位(12)处，所述夹具(17)的进给角度为46
±
0.5
°
；在小刻面磨削工位(13)和小刻面抛光工位(14)处，所述夹具(17)的进给角度为51.7
±
0.5
°
。2.根据权利要求1所述的用于平底水钻生产的抛光机，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：周志炎，叶卫，
申请(专利权)人：湖北宇星水钻饰品有限公司，
类型：发明
国别省市：