磁共振梯度校正补偿因子的确定方法、校正方法和装置制造方法及图纸

技术编号:33953670 阅读:20 留言:0更新日期:2022-06-29 23:00
本申请涉及一种磁共振梯度校正补偿因子的确定方法、校正方法和装置。所述方法包括:获取模体在梯度线圈施加弥散梯度时的各轴向磁共振信号以及在所述梯度线圈未施加弥散梯度时的参考磁共振信号;并根据各所述轴向磁共振信号和所述参考磁共振信号,确定所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值;以及根据所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值和参考弥散系数,确定相应轴的梯度校正补偿因子;其中,所述模体为填充液体的模体,所述液体各向同性。采用本方法能够提高获得的校正参数的准确性以及提高梯度校正的准确性,同时可以提高梯度校正的效率。正的效率。正的效率。

【技术实现步骤摘要】
磁共振梯度校正补偿因子的确定方法、校正方法和装置


[0001]本申请涉及磁共振设备
,特别是涉及一种磁共振梯度校正补偿因子的确定方法、校正方法和装置。

技术介绍

[0002]目前,磁共振成像主要是采用磁共振系统进行,磁共振系统中一般包括主磁体和梯度线圈、射频线圈、图像重建模块等器件。其中主磁体可以在成像空间产生主磁场,梯度线圈可以在成像空间产生梯度磁场,射频线圈可以在成像空间中产生射频脉冲,图像重建模块主要对接收的磁共振信号进行图像重建,获得磁共振图像。
[0003]在实际进行磁共振成像过程中,通常都要对梯度线圈产生的梯度磁场强度进行校正,保证其实际下发梯度的准确性,简称对梯度进行校正。相关技术中在进行梯度磁场强度校正时,一般是将完全球形的水模严格放置在主磁体的中心,之后对水模进行成像,并通过对获得的水模的图像进行数据分析,包括几何形状等,获得校正的参数,以实现对梯度磁场强度的校正。
[0004]然而,上述技术中对水模的几何形状以及摆位等要求非常严格,但是实际成像过程中难以保证如此高的精度,这就会使得获得的水模的图像不够准本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁共振梯度校正补偿因子的确定方法,其特征在于,所述方法包括:获取模体在梯度线圈施加弥散梯度时的各轴向磁共振信号以及在所述梯度线圈未施加弥散梯度时的参考磁共振信号;其中,所述模体为填充液体的模体,所述液体各向同性;根据各所述轴向磁共振信号和所述参考磁共振信号,确定所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值;根据所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值和参考弥散系数,确定相应轴的梯度校正补偿因子。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述参考弥散系数为各个轴向上的弥散系数计算值中的任意一个;所述根据所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值和参考弥散系数,确定相应轴的梯度校正补偿因子,包括:将其他弥散系数计算值分别和所述参考弥散系数进行计算,获得相应轴的梯度校正补偿因子;所述其他弥散系数计算值为所述各个轴向上的弥散系数计算值中除所述参考弥散系数之外的弥散系数计算值。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述参考弥散系数为所述液体的固有弥散系数。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述梯度线圈上所施加的弥散梯度分别作用于正交x、y、z三个轴向。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述模体放置在磁体中线性工作区任意位置上。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述液体在各个轴向上的弥散系数计算值和参考弥散系数,确定相应轴的梯度校正补偿因子,包括:根据公式计算相应轴的梯度校正补偿因子;其中,i指的是各个轴向;k
i
指的是对应轴向上的梯度校正补偿因子;D
i
指的是对应轴向上的弥散系数计...

【专利技术属性】
技术研发人员:纪美伶翟人宽
申请(专利权)人:武汉联影生命科学仪器有限公司
类型:发明
国别省市:

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