【技术实现步骤摘要】
一种真空大功率低PIM射频连接器
[0001]本申请涉及连接器的
,特别是一种真空大功率低PIM射频连接器。
技术介绍
[0002]现有低PIM射频连接器,主要为三元合金传统绝缘支撑结构,连接器接触件采用了两瓣开槽结构,产品只可用于地面环境,功率耐受能力差,高功率下PIM抑制性能差,装配调试复杂,降低了整个产品的可靠性,不能满足空间环境等复杂情况下的使用要求。
技术实现思路
[0003]本专利技术的技术解决问题是:克服现有技术的不足,提供了一种真空高功率耐受性能的低PIM射频连接器,克服产品在高低温环境下工作时性能的不稳定性,提高在真空环境下耐高功率抑制放电的能力,同时抑制高电平无源互调效应的产生。
[0004]本专利技术的技术解决方案是:
[0005]一种真空大功率低PIM射频连接器,包括壳体;
[0006]绝缘子Ⅰ、绝缘子Ⅱ、绝缘子Ⅲ,位于壳体内且沿着壳体轴线依次设置;
[0007]插针,穿过绝缘子Ⅰ、绝缘子Ⅱ、绝缘子Ⅲ,两端用于与公头电器互联;
[0008] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空大功率低PIM射频连接器,其特征在于:包括壳体1,壳体1内部中空;绝缘子Ⅰ3、绝缘子Ⅱ5、绝缘子Ⅲ6,位于壳体1内且沿着壳体1轴线依次设置;插针7,穿过绝缘子Ⅰ3、绝缘子Ⅱ5、绝缘子Ⅲ6,两端用于与公头电气互联;连接件Ⅰ和连接件Ⅱ,设置于壳体1的两端,用于将绝缘子Ⅰ3、绝缘子Ⅱ5、绝缘子Ⅲ6固定在壳体1内,且与公头配合连接;插针7的周向开设有环形的凹陷台阶72,绝缘子Ⅱ5卡设于凹陷台阶72,绝缘子Ⅱ5的两个端面开设有环槽51,绝缘子Ⅰ3和绝缘子Ⅲ6抵接于绝缘子Ⅱ5的端面与环槽51相适配。2.根据权利要求1所述的一种真空大功率低PIM射频连接器,其特征在于:所述绝缘子Ⅱ5开设有装配槽52,装配槽52沿着绝缘子Ⅱ5的轴线方向贯穿绝缘子Ⅱ5,装配槽52从绝缘子Ⅱ5的边缘贯穿绝缘子直径的四分之三至五分之四。3.根据权利要求1所述的一种真空大功率低PIM射频连接器,其特征在于:所述绝缘子Ⅰ3和绝缘子Ⅲ6的材料为聚四氟乙烯,绝缘子Ⅱ5的材料为聚醚酰亚胺。4.根据权利要求1所述的一种真空大功率低PIM射频连接器,其特征在于:所述壳体1内腔包括顺序布置的第一腔171、第二腔172、第五腔、第三腔173和第四腔174,第一腔171、第二腔172、第五腔的内径逐渐减小,第一腔171和第四腔174内径相等,第二腔172和第三腔173内径相等;第一腔171、第二腔172、第五腔、第三腔173和第四腔174的5个腔室中,相邻两个腔室之间依次形第一台阶13、第二台阶14、第三台阶15及第四台阶16;绝缘子Ⅱ5的端面与第二台阶14抵接;绝缘子Ⅰ3位于绝...
【专利技术属性】
技术研发人员:童利君,孙永生,李翔,蔡立兵,谢乾,
申请(专利权)人:中国航天时代电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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