【技术实现步骤摘要】
一种扫查式电容成像探头
[0001]本技术涉及电容成像
,尤其涉及一种扫查式电容成像探头。
技术介绍
[0002]电容成像技术是一种新型的非接触式、非侵入式无损检测技术,它利用一对共面极板间形成的边缘静电场对试块的缺陷进行检测。电容成像技术的关键在于电容成像探头的设计,合理的设计使得电容成像技术可以用于检测绝缘体表面和内部的缺陷以及导体表面的缺陷。
[0003]目前用于电容成像的探头广泛存在,绝大多数成像探头基于电容层析成像原理,探头有多个激励电极和感应电极,激励电极和感应电极分布于不同的平面上,会造成电场之间的相互干扰,且激励电极和感应电极直接暴露于空气中,外部噪声信号对测量结果产生较大的影响,降低了测量装置的灵敏度和准确性,传统的矩形形状的激励电极和感应电极也减少了探头的探测深度和测量信号的强度,在实际应用中,电容成像探头需要配备夹持机构和驱动设备,这会增大现场装配难度,且常规检测方式的管道扫查方向和提离高度难以精准控制,检测时可能会产生较大的测量误差。
技术实现思路
[0004]针对上述现 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种扫查式电容成像探头,其特征在于,包括中空的金属壳,所述金属壳对称设有滚轮,所述金属壳的底面开设有扫查口,所述扫查口内嵌设有平面电容探测板;所述金属壳上且位于所述电容成像探测板的下方设有绝缘保护层,所述绝缘保护层能够覆盖所述扫查口。2.根据权利要求1所述的扫查式电容成像探头,其特征在于,所述电容成像探测板包括层叠的绝缘基板和印刷电路板,所述印刷电路板上蚀刻有激励电极和感应电极,所述激励电极和感应电极之间具有间隔,所述印刷电路板上且位于所述间隔内蚀刻有屏蔽电极;所述激励电极和感应电极朝向所述绝缘保护层。3.根据权利要求2所述的扫查式电容成像探头,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:王强,齐光峰,王安泉,刘延峰,赵杰,田旺,王凯,
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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