一种微结构排布方法及扩散板技术

本申请实施例提供了一种微结构排布方法及扩散板，涉及光学元件设计技术领域，以解决在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定的问题。所述微结构排布方法包括：基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点；基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构。在所述待排布微结构的表面排布微结构。在所述待排布微结构的表面排布微结构。

【技术实现步骤摘要】
一种微结构排布方法及扩散板


[0001]本申请涉及光学元件设计
，尤其涉及一种微结构排布方法及扩散板。

技术介绍

[0002]在光学元件的设计过程中，经常需要为光学元件设置磨砂面。在相关技术中，一般采用磨砂工艺加工磨砂面，采用磨砂工艺加工磨砂面，存在磨砂面的构造不稳定的问题。示例性地，对于两个设置有磨砂面的光学元件，若其中一个光学元件的磨砂面加工效果较好，另一个光学元件的磨砂面加工效果较差，这样会使得两个光学元件呈现不同的光学效果。由于可知，在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供了一种微结构排布方法及扩散板，以解决在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定的问题。
[0004]第一方面，本申请实施例提供了一种微结构排布方法。
[0005]本申请实施例提供的微结构排布方法包括：
[0006]基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；
[0007]以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微结构排布方法，其特征在于，包括：基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点；基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构。2.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所述预设的排布方式为斐波那契额数列式排布方式或阵列式排布方式。3.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所述在参考面构建多个第一样点包括：在所述参考面以目标密度构建多个所述第一样点。4.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，构建的所述封闭图形为泰森多边形。5.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所构建的所有所述封闭图形的形状均相同。6.根据权利要求5所述的微结构排布方法，其特征在于，所述封闭图形为圆形，所述封闭图形的尺寸均相等，所述第一样点为所述封闭图形的圆心。7.根据权利要求1所述的微结构排...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐子沛，王兆文，郭丹阳，
申请(专利权)人：苏州欧普照明有限公司，
类型：发明
国别省市：