一种微结构排布方法及扩散板技术

本申请实施例提供了一种微结构排布方法及扩散板，涉及光学元件设计技术领域，以解决在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定的问题。所述微结构排布方法包括：基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点；基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构。在所述待排布微结构的表面排布微结构。在所述待排布微结构的表面排布微结构。

【技术实现步骤摘要】
一种微结构排布方法及扩散板


[0001]本申请涉及光学元件设计
，尤其涉及一种微结构排布方法及扩散板。

技术介绍

[0002]在光学元件的设计过程中，经常需要为光学元件设置磨砂面。在相关技术中，一般采用磨砂工艺加工磨砂面，采用磨砂工艺加工磨砂面，存在磨砂面的构造不稳定的问题。示例性地，对于两个设置有磨砂面的光学元件，若其中一个光学元件的磨砂面加工效果较好，另一个光学元件的磨砂面加工效果较差，这样会使得两个光学元件呈现不同的光学效果。由于可知，在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供了一种微结构排布方法及扩散板，以解决在光学元件上设置磨砂面，磨砂面会使得光学元件的光学效果不稳定的问题。
[0004]第一方面，本申请实施例提供了一种微结构排布方法。
[0005]本申请实施例提供的微结构排布方法包括：
[0006]基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；
[0007]以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；
[0008]在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点；
[0009]基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构。
[0010]可选地，所述预设的排布方式为斐波那契额数列式排布方式。
[0011]可选地，所述预设的排布方式为阵列式排布方式。
[0012]可选地，所述在参考面构建多个第一样点包括：在所述参考面以目标密度构建多个所述第一样点。
[0013]可选地，构建的所述封闭图形为泰森多边形。
[0014]可选地，所构建的所有所述封闭图形的形状均相同。
[0015]可选地，所述封闭图形为圆形，所述封闭图形的尺寸均相等，所述第一样点为所述封闭图形的圆心。
[0016]可选地，所述在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点包括：在每个所述封闭图形内，以与所述封闭图形对应的所述第一样点作为偏移点，以目标方向和目标距离对所述偏移点进行偏移，其中，偏移后的所述偏移点位于所述封闭图形内；将偏移后的所述偏移点作为所述第二样点。
[0017]可选地，所述基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构包括：将每个所述第二样点映射至所述待排布微结构的表面；在所述第二样点映射至所述待排布微结构的表面的位置构建第三样点；以所述第三样点为基准点，一一对应地在所述待排布微结构的表面排布所述微结构。
[0018]可选地，所述参考面为待排布微结构的表面。
[0019]第二方面，本申请实施例提供了一种扩散板。
[0020]本申请实施例提供的所述扩散板包括入光面和出光面，所述入光面和所述出光面中的至少一者上按照第一方面提供的任意一种微结构排布方法排布有微结构。
[0021]本申请实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：
[0022]在本申请的实施例中，可以基于微结构排布方法在光学元件的三维模型上构建微结构，可以基于构建有微结构光学元件的三维模型加工出光学元件的实物，这样，可以使得光学元件的实物与光学元件的三维模型基本一致。进一步，可以使得所加工出的各光学元件的微结构的构造基本一致，从而可以解决因磨砂面的构造不稳定所导致的光学元件的磨砂面所存在的、光学效果不稳定的问题。
[0023]此外，在本申请的实施例中，可以使得第一样点的排布较为规则，通过在基于第一样点构建的封闭图形中随机获取第二样点的方式，可以使得第二样点在第一样点的基础上具备一定的离散度。这样，可以使得第二样点不至于过于随机，也不至于过于规则。从而可以使得基于第二样点的排布方式排布的微结构不至于过于随机，也不至于过于规则，进而可以使得光学元件的具备较好的光学效果。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本申请实施例提供的一种微结构排布方法的流程图；
[0026]图2为本申请实施例提供的一种第一样点的排布示意图；
[0027]图3为本申请实施例提供的另一种第一样点的排布示意图；
[0028]图4为本申请实施例提供的一种第二样点的排布示意图。
具体实施方式
[0029]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0030]尽管本申请中所使用的术语是从公知公用的术语中选择的，但是本申请说明书中所提及的一些术语可能是申请人按他或她的判断来选择的，其详细含义在本文的描述的相关部分中说明。此外，要求不仅仅通过所使用的实际术语，而是还要通过每个术语所蕴含的意义来理解本申请。
[0031]以下结合附图，详细说明本申请各实施例提供的技术方案。
[0032]本申请实施例提供了一种微结构排布方法。参考图1，本申请实施例提供的微结构排布方法可包括：
[0033]步骤110，基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点。
[0034]在本申请的实施例中，预设的排布方式可以为规格排布方式。参考图2，示例性地，
预设的排布方式可为斐波那契额数列式排布方式。这样，在本申请的实施例中，可以基于斐波那契额数列式排布方式在参考面210构建多个第一样点220。
[0035]参考图3，在本申请的实施例中，预设的排布方式可为阵列式排布方式。示例性地，预设的排布方式可以为矩形阵列式排布方式。这样，在本申请的实施例中，可以基于阵列式排布方式在参考面210构建多个第一样点220。在本申请的实施例中，还可以通过其它的排布方式在参考面构建多个第一样点，这里不一一列举。
[0036]需说明的是，在本申请的实施例中，参考面可以为待排布微结构的表面，参考面也可以为基于待排布微结构的表面所构建的面。在参考面为基于待排布微结构的表面所构建的面的情况下，待排布微结构的表面的投影可以落入参考面中。即，参考面的区域可以大于待排布微结构的表面。
[0037]还需说明的是，在本申请的实施例中，在参考面构建多个第一样点包括：在参考面以目标密度构建多个第一样点。示例性地，可以通过调整构建的第一样点的数量的方式，控制第一样点的密度。例如，可以在参考面构建2000个第一样点，也可以在参考面构建4000个第一样点，从而可以通过调整构建的第一样点的数量的方式，控制第一样点的密度。在本申请的实施例中，还可以采用其它方式控制第一样点的密度，这里不一一列举。
[0038本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微结构排布方法，其特征在于，包括：基于预设的排布方式，在参考面构建多个第一样点；以每个所述第一样点为基准点，分别构建一个封闭图形；在每个所述封闭图形内随机获取一个第二样点；基于获取的所述第二样点，在所述待排布微结构的表面排布微结构。2.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所述预设的排布方式为斐波那契额数列式排布方式或阵列式排布方式。3.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所述在参考面构建多个第一样点包括：在所述参考面以目标密度构建多个所述第一样点。4.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，构建的所述封闭图形为泰森多边形。5.根据权利要求1所述的微结构排布方法，其特征在于，所构建的所有所述封闭图形的形状均相同。6.根据权利要求5所述的微结构排布方法，其特征在于，所述封闭图形为圆形，所述封闭图形的尺寸均相等，所述第一样点为所述封闭图形的圆心。7.根据权利要求1所述的微结构排...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐子沛，王兆文，郭丹阳，
申请(专利权)人：苏州欧普照明有限公司，
类型：发明
国别省市：