一种量子点扩散板及其制备方法和应用技术

本发明专利技术属于量子点扩散板技术领域，具体涉及一种量子点扩散板及其制备方法和应用。该量子点扩散板包括扩散层、量子点层和透明层，量子点层设于扩散层和透明层之间。一方面，上下扩散层和透明层的设计，在保证扩散板光效的同时，还能确保量子点处于上下两层的保护中，避免使用和存储时因外界因素的影响而失活，提高了亮度保持率；并且本发明专利技术上中下三层均为同一种基材，三层的线性膨胀系数一致，有效避免了使用和存储过程中因为环境温度的变化导致不同层间尺寸差异出现图像失真的问题。同层间尺寸差异出现图像失真的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种量子点扩散板及其制备方法和应用


[0001]本专利技术属于量子点扩散板
更具体地，涉及一种量子点扩散板及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]量子点是把激子在三个空间方向上束缚住的一种纳米级别的半导体，通过对这种纳米半导体材料施加一定的电场或光压，便会发出特定频率的光，并且发出的光频率会随半导体尺寸的改变而变化，因而通过调节纳米半导体的尺寸就可以控制其发出光的颜色；由于这种纳米半导体拥有限制电子和电子空穴的特性，类似于自然界中的原子或分子，因而被称为量子点。量子点除了发射光谱可以通过改变其尺寸的大小来控制外，还具有光稳定性好、寿命长、宽激发窄发射及较大斯托克斯位移等特点，因此，将量子点技术应用于显示领域，色域更广，颜色更接近物体本征颜色；将量子点应用于照明行业，光线更接近于阳光。
[0003]现有技术常将量子点技术与光扩散板结合，制成量子点扩散板，主要应用于显示行业。但是由于量子点对热、氧和水很敏感，主要以
①
量子点膜粘合普通扩散板、
②
挤出扩散板时覆膜、
③
采用印刷的方法将量子点印刷在扩散板上来将量子点和光扩散板结合。其中，量子点防水隔氧材料膜目前主要靠进口，成本高，并且工艺复杂，大尺寸的显示设备还会存在量子点膜和扩散板因线性膨胀系数不一致导致显示失真的问题；而印刷方法工艺复杂，涉及一系列封装等后处理过程，成本高，不利于连续生产。中国专利申请公开了一种量子点扩散板，将除量子点之外的其他助剂制备成母粒，再将量子点和母粒及基料通过混合设备混合均匀后挤出成板材；这种方法虽然方便，但是，在机械力作用下混合时，难免会造成量子点表面的配体或保护层发生不同程度的破坏，造成量子点和空气中的氧气和水接触，导致量子点失活，影响发光效率和稳定性，并且该方案制备的量子点扩散板，量子点分布在基材中，使用过程中，氧气、水难免会对表层的量子点进行侵蚀，容易导致表层的量子点失活而导致亮度衰减。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是克服现有量子点扩散板工艺复杂、成本高，且容易造成量子点和空气中的氧气和水接触，导致量子点失活，影响发光效率和稳定性的缺陷和不足，提供一种具有较好的发光效率、可以稳定发光，且制备方法简单、成本低的量子点扩散板。
[0005]本专利技术的目的是提供一种所述量子点扩散板的制备方法。
[0006]本专利技术另一目的是提供所述量子点扩散板的应用。
[0007]本专利技术上述目的通过以下技术方案实现：
[0008]一种量子点扩散板，包括扩散层、量子点层和透明层，量子点层设于扩散层和透明层之间；
[0009]其中，所述量子点层包括以下组分及其重量份数：
[0010]基材100份、润滑剂1～2份、抗氧剂0.3～3份、耐候剂0.3～3份、量子点0.05～3份。
[0011]本专利技术的量子点扩散板利用三层共挤技术制得，为三明治结构，中间为量子点层，上下两层分别为扩散层和透明层，其中，透明层经过压辊后还可以形成磨砂效果。上下扩散层和透明层的设计，在保证扩散板光效的同时，还能确保量子点处于上下两层的保护中，避免使用和存储时因外界因素的影响而失活，提高了亮度保持率。
[0012]优选地，所述量子点层的厚度控制在0.1～0.5mm；所述扩散层和透明层的厚度不低于0.3mm。
[0013]进一步地，所述量子点为由Cd、Zn、Se、S、In、P中的两种或两种以上组成的合金材料。
[0014]优选地，所述量子点选自CdZnSeS、CdZnSe、CdZnS中的一种或多种。
[0015]更进一步地，所述量子点与有机溶剂制成量子点混悬液加入，所述有机溶剂选自苯乙烯、甲苯、二甲苯、环己烷、正己烷、乙醇、甲醇、异丙醇、丙酮、乙酸乙酯、苯甲醚、四氢呋喃中的一种或多种。本专利技术将量子点溶于疏水的有机溶剂中，再将量子点混悬液精准的加入到量子点层混料中，在保证扩散板中量子点均匀分布的同时，还可以减少加工过程中量子点和水氧接触的机会，避免量子点在加工过程中因接触水氧导致量子点的失活，提高稳定性。优选地，所述有机溶剂选自苯乙烯、甲苯、环己烷、正己烷等非极性有机溶剂中的一种或多种；更优选地，所述有机溶剂为苯乙烯或正己烷。
[0016]优选地，所述量子点混悬液中量子点浓度为5～20wt％。更优选地，所述量子点混悬液中量子点浓度为10～20wt％。
[0017]进一步地，所述扩散层包括以下组分及其重量份数：
[0018]基材100份、光扩散母粒5～15份、润滑剂1～2份、抗氧剂0.3～3份、耐候剂0.3～3份。
[0019]更进一步地，所述光扩散母粒包括以下组分及其重量份数：基材88～93份、光扩散剂6～10份、抗氧剂0.5～1份、润滑剂0.5～1份。
[0020]优选地，将所述光扩散母粒组分混合均匀后，160～200℃挤出、造粒，即得。
[0021]其中，所述光扩散剂为丙烯酸酯类、有机硅类光扩散剂中的一种或多种。优选地，所述光扩散剂为有机硅类光扩散剂，选自甲基硅树脂微球扩散剂、苯基硅树脂微球扩散剂、甲基苯基硅树脂光扩散剂等中的一种或几种。
[0022]进一步地，所述透明层包括以下组分及其重量份数：
[0023]基材100份、润滑剂1～2份、抗氧剂0.3～3份、耐候剂0.3～3份。
[0024]更进一步地，所述基材选自聚丙烯(PP)、环烃聚合物(COP)、环烯烃类共聚物(COC)、聚苯乙烯(GPPS)、聚甲基丙烯酸酯(PMMA)、苯乙烯
‑
丙烯腈共聚物(AS)、苯乙烯马来酸酐共聚物(SMA)共聚酯(PETG/PCTG)材料中的一种或多种。材料优选200℃以下可以挤出的材料。
[0025]本专利技术扩散层、量子点层和透明层优选为同一种基材，三层的线性膨胀系数一致，有效避免了使用和存储过程中因为环境温度的变化导致不同层间尺寸差异出现图像失真的问题。
[0026]更优选地，所述基材为GPPS，优选熔指(200℃/5KG)2～5g/10min，残单含量不高于
0.05％。
[0027]更进一步地，所述耐候剂选自受阻胺类光稳定剂、苯并三唑类、二苯甲酮类、三嗪类、水杨酸酯类耐候剂中的一种或多种。
[0028]进一步地，所述抗氧剂选自受阻酚类、亚磷酸脂类、金属烷基硫代磷酸类、氨基甲酸类、有机硫类抗氧剂中的一种或多种。优选地，所述抗氧剂为磷酸酯类抗氧剂。
[0029]更进一步地，所述润滑剂选自乙烯基双硬脂酰胺、聚硅氧烷、硬脂酸盐、PE蜡、PP蜡、乙撑双硬脂酰胺中的一种或多种。
[0030]另外的，本专利技术还提供了所述量子点扩散板的制备方法，包括以下步骤：
[0031]S1、扩散层混料的制备：将基材、光扩散母粒、润滑剂、抗氧剂及耐候剂混合均匀，得扩散层混料；
[0032]S2、量子点层混料的制备：将基材、润滑剂、抗氧剂及耐候剂混合均匀，得量子点层混料；
[0033]S3、透明层混料的制备：将基材、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种量子点扩散板，其特征在于，包括扩散层、量子点层和透明层，量子点层设于扩散层和透明层之间；其中，所述量子点层包括以下组分及其重量份数：基材100份、润滑剂1～2份、抗氧剂0.3～3份、耐候剂0.3～3份、量子点0.05～3份。2.根据权利要求1所述量子点扩散板，其特征在于，所述量子点为由Cd、Zn、Se、S、In、P中的两种或两种以上组成的合金材料。3.根据权利要求2所述量子点扩散板，其特征在于，所述量子点选自CdZnSeS、CdZnSe、CdZnS中的一种或多种。4.根据权利要求1所述量子点扩散板，其特征在于，所述量子点与有机溶剂制成量子点混悬液加入，所述有机溶剂选自苯乙烯、甲苯、二甲苯、环己烷、正己烷、乙醇、甲醇、异丙醇、丙酮、乙酸乙酯、苯甲醚、四氢呋喃中的一种或多种。5.根据权利要求1所述量子点扩散板，其特征在于，所述扩散层包括以下组分及其重量份数：基材100份、光扩散母粒5～15份、润滑剂1～2份、抗氧剂0.3～3份、耐候剂0.3～3份。6.根据权利要求5所述量子点扩散板，其特征在于，所述光扩散母粒包括以下组分及其重量份数：基材88～93份、光扩散剂6...

【专利技术属性】
技术研发人员：官焕祥，黄宝奎，陈平绪，叶南飚，付锦锋，杨霄云，
申请(专利权)人：金发科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：