一种阵列天线辐射副瓣降低方法技术

本发明专利技术公开了一种阵列天线辐射副瓣降低方法，该方法包括以下步骤：获取阵列天线的单元阵列天线结构、馈电点数和工作频率，录入电磁仿真软件中；通过仿真软件确定阵列天线同幅等相激励时的主瓣波束宽度；对阵列天线进行全波仿真，获取该辐射方向的每一个阵列单元远场辐射区的主瓣中心点以及偏离主瓣中心点一定度数点处的电场与磁场的幅度与相位；通过增大阵列天线的主瓣方向上的辐射功率分布以产生降低副瓣的效果，并求得此功率分布下辐射效率达到最大时的激励分布，获得阵列低副瓣性能的激励分布。本发明专利技术通过将降低天线阵列副瓣问题转化为增加主瓣辐射方向功率占比的问题，使主瓣方向辐射能量增加，进而达到减小副瓣的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列天线辐射副瓣降低方法


[0001]本专利技术涉及通讯
，具体而言涉及一种阵列天线辐射副瓣降低方法。

技术介绍

[0002]传统的基于幅度加权法减小副瓣的解析法(切比雪夫综合法，泰勒综合法，二项式法)仅适用于等距排列以及的正向辐射的天线阵列，不具有更高的通用性与快捷性，局限于幅度调节，目前缺少一款具有更高的通用性与便捷性，不局限于天线排布方式的降低阵列天线幅瓣的方法。本专利技术利用最大传输效率法，通过增大主瓣边缘处的辐射功率，使更大的功率集中在主瓣方向辐射，达到减小阵列副瓣的效果。

技术实现思路

[0003]本专利技术针对现有技术中的不足，提供一种具有更高的通用性与便捷性，不局限于天线的形式、排列方式与辐射模式，具有更高的自由度与通用性的降低阵列天线副瓣的方法。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0005]第一方面，本专利技术实施例提出了一种阵列天线辐射副瓣降低方法，所述降低方法包括以下步骤：
[0006]S1，获取阵列天线的单元阵列天线排布结构、馈电点数n和工作频率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列天线辐射副瓣降低方法，其特征在于，所述降低方法包括以下步骤：S1，获取阵列天线的单元阵列天线排布结构、馈电点数n和工作频率f0；S2，通过仿真软件添加频率f0处的场监视器，获取阵列天线频率f0初始辐射方向图(未降低副瓣前)的不同平面主瓣波束宽度θ
i
；S3，对阵列天线进行全波仿真，获取每一个阵列单元的远场主瓣中心点O处与偏离主瓣中心点k
i
度的点P
i
处的电场与磁场的幅度与相位；S4，赋予点O与点P
i
权重函数W
p
(r)，结合天线阵列单元的辐射特性，由最大功率传输效率法理论求出此功率分布情况下达到最大辐射效率时的激励分布，以增大主瓣方向辐射能量。2.根据权利要求1所述的阵列天线辐射副瓣降低方法，其特征在于，步骤S2中，如果阵列天线为一维阵列天线结构，则获取f0辐射方向图的E面主瓣波束宽度θ1；反之，如阵列天线为非一维的阵列天线，则获取f0辐射方向图的E面，H面以及与E面和H面分别呈45
°
夹角的两个平面四个主瓣波束宽度θ1‑
θ4。3.根据权利要求1所述的阵列天线辐射副瓣降低方法，其特征在于，步骤S3中，如阵列天线为一维阵列天线结构，则获取主瓣中心点O与E面上偏离主瓣中心点k度两个平面端点P1与P2的值，如果阵列天线为非一维的阵列天线，则获取主瓣中心点O、E面、H面以及与E面和H面分别呈45
°
夹角平面,共计4个平面上的偏离主瓣中心点k度8个平面端点P1‑
P8的值。4.根据权利要求1所述的阵列天线辐射副瓣降低方法，其特征在于，步骤S4中，由最大功率传输效率法理论求出此功率分布情况下阵列天线达...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵晨，张世炯，
申请(专利权)人：南京信息工程大学，
类型：发明
国别省市：