色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件技术

本发明专利技术中公开了一种色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件，该色转换基板由色转换基板包括：衬底基板、包括黑矩阵层和反光涂层的复合涂层、设于所述复合涂层所在的衬底基板表面且贯通所述复合涂层的凹槽阵列、以及填充于所述凹槽阵列内且与所述衬底基板表面贴合的色转换膜层。该色转换基板具有挡墙膜厚高、反光率高、出光效率高，工艺及设备成本低的优点。优点。优点。

【技术实现步骤摘要】
色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件


[0001]本专利技术属于显示器件领域，具体涉及一种色转换基板及其制作方法，还涉及一种包含该色转换基板的颜色转换显示器件。

技术介绍

[0002]LED显示具有高亮度、高能效、高色域、高对比度等优点，Mini
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LED及Micro
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LED将作为下一代显示技术的焦点，其都是基于微小的LED晶体颗粒作为像素发光点，而区别在于：Micro
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LED是采用的1
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10μm的LED芯片，实现0.05mm或更小尺寸像素颗粒的显示屏，Mini
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LED则是采用数十微米级的LED芯片，实现0.5
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1.2mm像素颗粒的显示屏。
[0003]但目前Mini
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LED和Micro
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LED的量产存在众多难点，比如众所周知的红光芯片成本高及巨量转移困难等。因此，目前研究较多的是蓝光LED配合量子点色转换层实现三原色的技术方案，其中凹槽方案一般是使用黑色光刻胶材料配合光刻工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种色转换基板，其特征在于，其包括：衬底基板；复合涂层，其包括黑矩阵层和反光涂层，所述黑矩阵层、反光涂层依次设于所述衬底基板的表面；凹槽阵列，其设于所述复合涂层所在的衬底基板表面且贯通所述复合涂层；色转换膜层，其填充于所述凹槽阵列内且与所述衬底基板表面贴合。2.如权利要求1所述的色转换基板，其特征在于，所述衬底基板选自玻璃基板，其尺寸10
×
10cm～30
×
30cm，厚度0.2mm～1.0mm。3.如权利要求1所述的色转换基板，其特征在于，所述黑矩阵层的厚度控制在0.2～20μm，光学密度OD控制在4.0～4.5；所述反光涂层的厚度在20
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150μm；所述凹槽阵列的厚度＞20μm；所述色转换膜层的厚度在0.2～100μm。4.如权利要求1所述的色转换基板，其特征在于，所述色转换膜层包括第一量子点发光单元和第二量子点发光单元，所述第一量子点发光单元和所述第二量子点发光单元分别独立的选自绿光量子点或红光量子点。5.一种如权利要求1
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4任一项所述的色转换基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一衬底基板；形成复合涂层：在所述衬底基板的其中一面涂覆黑矩阵材料，形成黑矩阵层，在所述黑矩阵层表面涂覆反光涂层浆料，形成反光涂层；刻蚀所述复合涂层，在所述衬底基板上形成凹槽阵列；将量子点胶液填充在所述凹槽阵列中，待胶液溶剂挥发后，形成色转换膜层。6.如权利要求5所述的色转换基板的制作方法，其特征在于，所述反光涂层浆料的组成为：1～30％wt反光组分、4～60％wt聚丙烯酸酯、0.1～3％wt固化剂和余量的正丁醚溶剂，所述反光涂层浆料的固含量在2～80％，粘度在5000～10000...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩登宝，钟海政，蒋盛超，
申请(专利权)人：北京航空航天大学合肥创新研究院，
类型：发明
国别省市：