清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备，晶圆传输设备包括晶圆支撑臂，清洗装置包括第一清洗块和第二清洗块；其中：第一清洗块和第二清洗块中的至少一者开设有介质入口，第一清洗块和第二清洗块均设有多个介质出口；第一清洗块和第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，清洗空间用于容纳晶圆支撑臂，且第一清洗块和第二清洗块形成的结构用于环绕晶圆支撑臂，多个介质出口沿清洗空间的内壁设置，以用于环绕晶圆支撑臂。上述方案可以解决清洗装置只能从一侧对晶圆支撑臂进行清洗，而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。

【技术实现步骤摘要】
清洗装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备清洗
，尤其涉及一种清洗装置。

技术介绍

[0002]晶圆是一种精密的半导体器件，为了防止晶圆在传输过程中被污染或损坏，在对晶圆传输前，需要对晶圆传输设备的用于承载晶圆的晶圆支撑臂进行清洗，以防止晶圆支撑臂在承载晶圆时，由于晶圆支撑臂的脏污造成晶圆的污染或损坏。
[0003]在相关技术中，对晶圆支撑臂进行清洗的装置通常包括清洗喷淋杆和干燥吹扫杆。干燥吹扫杆和清洗喷淋杆上下分布，由于晶圆支撑臂比较长，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆成排设置。在对晶圆支撑臂进行清洗时，晶圆支撑臂依次移动至靠近清洗喷淋杆和干燥吹扫杆处进行清洗。在移动至靠近清洗喷淋杆处时，清洗喷淋杆分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，清洗喷淋杆只能在一侧对晶圆支撑臂进行喷淋清洗，在移动至靠近干燥吹扫杆处时，干燥吹扫杆也分布在晶圆支撑臂的轴线的侧方，干燥吹扫杆也只能对晶圆支撑臂的一侧进行干燥和吹扫，因此，清洗喷淋杆和干燥吹扫杆对晶圆支撑臂进行清洗时只能对晶圆支撑臂的一侧进行清洗，而对晶圆支撑臂的背离清洗喷淋杆和干燥吹扫杆的一侧无法清洗，从而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题，而且清洗喷淋杆和干燥吹扫杆为多根杆件、且成排设置，从而导致清洗喷淋杆和干燥吹扫杆整体的占用空间较大。

技术实现思路

[0004]本专利技术公开了一种清洗装置，以解决清洗装置只能从一侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在对晶圆支撑臂清洗不完全的问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术是这样实现的：
[0006]本专利技术公开一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备，所述晶圆传输设备包括晶圆支撑臂，所述清洗装置包括第一清洗块和第二清洗块；其中：
[0007]所述第一清洗块和所述第二清洗块中的至少一者开设有介质入口，所述第一清洗块和所述第二清洗块均设有多个介质出口；
[0008]所述第一清洗块和所述第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，所述清洗空间用于容纳所述晶圆支撑臂，且所述第一清洗块和所述第二清洗块形成的结构用于环绕所述晶圆支撑臂，所述多个介质出口沿所述清洗空间的内壁设置，以用于环绕所述晶圆支撑臂。
[0009]本专利技术采用的技术方案能够达到以下技术效果：
[0010]本申请实施例通过将清洗装置设置为包括第一清洗块和第二清洗块，第一清洗块和第二清洗块可相对运动以对接形成清洗空间，使得清洗装置对晶圆支撑臂进行清洗时，清洗空间可容纳晶圆支撑臂，以为晶圆支撑臂提供清洗场所，通过第一清洗块和第二清洗块中的至少一者开设介质入口，第一清洗块和第二清洗块均开设有多个介质出口，使得清洗介质可通过介质入口进入，从介质出口喷出以用于对晶圆支撑臂进行清洗，通过将多个
介质出口沿清洗空间的内壁设置，且用于环绕晶圆支撑臂，使得清洗空间容纳晶圆支撑臂时，多个介质出口环绕晶圆支撑臂，进而使得从介质出口喷出的清洗介质可环绕的喷向晶圆支撑臂，从而有效地解决了在对晶圆支撑臂进行清洗时，由于只能从单侧对晶圆支撑臂进行清洗而存在清洗不完全的问题，最终有效地提高了清洗装置对晶圆支撑臂的清洗能力。
附图说明
[0011]图1为清洗装置与晶圆支撑臂在第一清洗块与第二清洗块处在第一配合状态下的配合示意图；
[0012]图2为清洗装置在第一清洗块与第二清洗块处在第二配合状态下的结构示意图；
[0013]图3为图1在第一视角下的示意图；
[0014]图4为清洗装置与晶圆传输设备在第一视角下、且在第一清洗块与第二清洗块处在第二配合状态下的示意图；
[0015]图5为导向连接件和第二驱动机构的配合结构示意图；
[0016]图6为第二驱动机构在一视角下的结构示意图；
[0017]图7为第二驱动机构在另一视角下的结构示意图(图7中的空心箭头为滑块830的滑动方向示意)；
[0018]图8为第一清洗块和第二清洗块处在第一配合状态下的局部剖视图；
[0019]图9为导向连接件、第一连接杆和第二连接杆的配合结构示意图；
[0020]图10为导向连接件、第一连接杆和第二连接杆的配合结构的局部剖视图；
[0021]图11为导向连接件与第一连接杆配合示意图。
[0022]附图标记说明：
[0023]100
‑
晶圆传输设备、110
‑
晶圆支撑臂、111
‑
支撑子臂、120
‑
连接支架、
[0024]200
‑
第一清洗块、
[0025]300
‑
第二清洗块、
[0026]410
‑
介质出口、420
‑
介质通道、430
‑
隔离凸起、440
‑
清洗接头、
[0027]500
‑
清洗空间、510
‑
子清洗空间、
[0028]600
‑
第一驱动机构、610
‑
第一驱动件、620
‑
第二驱动件、630
‑
第一连接杆、640
‑
第二连接杆、650
‑
条形孔、
[0029]700
‑
导向连接件、710
‑
支撑底板、720
‑
导向块、730
‑
导向间隙、740
‑
固定螺栓、750
‑
轴套、
[0030]800
‑
第二驱动机构、810
‑
底座、820
‑
滑轨、830
‑
滑块、840
‑
第三驱动件。
具体实施方式
[0031]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术具体实施例及相应的附图对本专利技术技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0032]以下结合附图，详细说明本专利技术各个实施例公开的技术方案。
[0033]请参考图1至图11，本专利技术实施例公开一种清洗装置，所公开的清洗装置用于清洗晶圆传输设备100，晶圆传输设备100包括晶圆支撑臂110，晶圆支撑臂110是用于夹持晶圆，并对晶圆进行传输的构件。例如，在槽式清洗设备中，晶圆传输设备100每次传输晶圆的数量为多个(例如50片)，多个晶圆可以沿晶圆支撑臂110的延伸方向被夹持在晶圆支撑臂110上。晶圆传输设备100还可以包括连接支架120，连接支架120为晶圆支撑臂110提供安装基础，晶圆支撑臂110可以安装在连接支架120上。
[0034]清洗装置用于对晶圆支撑臂110进行清洗，以防止晶圆支撑臂110在夹持晶圆时，由于晶圆支撑臂110的脏污对晶圆造成污染或损伤。清洗装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，用于清洗晶圆传输设备(100)，所述晶圆传输设备(100)包括晶圆支撑臂(110)，其特征在于，所述清洗装置包括第一清洗块(200)和第二清洗块(300)；其中：所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)中的至少一者开设有介质入口，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)均设有多个介质出口(410)；所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)可相对运动以对接形成清洗空间(500)，所述清洗空间(500)用于容纳所述晶圆支撑臂(110)，且所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)形成的结构用于环绕所述晶圆支撑臂(110)，所述多个介质出口(410)沿所述清洗空间(500)的内壁设置，以用于环绕所述晶圆支撑臂(110)。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括第一驱动机构(600)，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)均与所述第一驱动机构(600)连接，所述第一驱动机构(600)用于驱动所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)运动，以使所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)在第一配合状态和第二配合状态之间切换；在所述第一配合状态下，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)通过相对运动对接形成所述清洗空间(500)；在所述第二配合状态下，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)分离，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)之间形成用于供所述晶圆支撑臂(110)通过的进出口。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)均为多个，且一一对应，多个所述第一清洗块(200)和多个所述第二清洗块(300)均沿第一方向排列，多个所述第一清洗块(200)和多个所述第二清洗块(300)形成多个所述清洗空间(500)，多个所述清洗空间(500)沿与所述清洗空间(500)的贯通方向相垂直的方向间隔分布。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述第一驱动机构(600)包括第一驱动件(610)、第二驱动件(620)、第一连接杆(630)和第二连接杆(640)，其中：所述第一驱动件(610)通过所述第一连接杆(630)与多个所述第一清洗块(200)连接，以用于驱动多个所述第一清洗块(200)移动；所述第二驱动件(620)通过所述第二连接杆(640)与多个所述第二清洗块(300)连接，以用于驱动多个所述第二清洗块(300)移动；所述第一驱动件(610)用于驱动多个所述第一清洗块(200)沿第一方向和第二方向中的一者移动，以及所述第二驱动件(620)用于驱动多个所述第二清洗块(300)沿所述第一方向和所述第二方向中的另一者移动，以使所述第一清洗块(200)和所述第二清洗块(300)处于所述第一配合状态或所述第二配合状态，所述第一方向与所述第二方向互为反向，且均与所述贯通方向相垂直。5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括导向连接件(700)，所述导向连接件(700)包括支撑底板(710)和多个导向块(720)，所述多个导向块(720)均连接于所述支撑底板(710)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李圆晨，王广永，王昭，廖伟，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：