一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法技术

本发明专利技术属于光学技术领域，具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法,该方法将将锌粉或铝粉大致均匀地撒在镀有ITO薄膜的光学基底表面；用软性耐腐蚀物蘸取盐酸对ITO薄膜表面反复均匀擦拭，然后将擦拭好的光学基底放在清水槽中用超声波清洗，去除表面水分。该方法对于光学基底表面镀制的ITO薄膜，能够有效、快速地实现去除ITO薄膜，不易损伤光学基底表面。该方法不仅适用于化学稳定性较好的k9玻璃、石英玻璃等光学材料，同时也适用于ZnS、ZnSe、蓝宝石、CaF2、BaF2等易腐蚀易损伤光学基底。底。底。

【技术实现步骤摘要】
一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法


[0001]本专利技术属于光学
，具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法。

技术介绍

[0002]ITO(氧化铟锡)是一种复合材料，具有良好的导电性和透光性而常被用于制造光电器件。常用磁控溅射、离子束溅射、射频溅射以及离子辅助沉积等真空镀膜方式，在光学器件表面制备兼具良好导电性和良好透光性的薄膜，以实现光电器件所需的功能。然而，当在光学基底表面制备的ITO薄膜未达到指标或出现质量问题时，就需要将ITO薄膜去除掉，同时又不能损伤光学基底表面。
[0003]现有的去除ITO薄膜技术，主要有两大类，一是采用物理磨抛的方式，直接将ITO薄膜通过磨抛而去除；二是将光学器件浸泡在酸、碱等化学溶剂中，利用化学反应的方法使ITO薄膜被分解，再通过清洗的方式将ITO薄膜彻底清洁。目前，这两大类方式都存在一定的不足，其中，物理磨抛方式退膜效率低，而且磨抛可能会损伤光学基底表面、破坏基底的面型；而利用化学溶剂浸泡的方式，由于化学反应需要一定的时间，可能会腐蚀光学基底，破坏光学表面，尤其是对于ZnS、Z本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：步骤1：给将要去除的ITO薄膜表面撒适量的金属粉；步骤2：使用柔性且耐酸的工具，蘸取盐酸液，在撒有金属粉的ITO薄膜表面反复轻擦，使ITO薄膜被快速分解，同时不损伤光学基底表面；步骤3：使用清水超声波清洗去膜后的光学基底，并做脱水处理。2.如权利要求1所述的光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述步骤1中，所述金属粉为易与盐酸反应的金属粉材料。3.如权利要求2所述的光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述步骤1中，所述金属粉为铝粉或锌粉。4.如权利要求3所述的光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述铝粉或锌粉的颗粒小于0.1mm。5.如权利要求1所述的光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述光学基底包括石英、k9玻璃在内的各种耐酸碱腐蚀的光学基底。6.如权利要求1所述的光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述光学基底包括ZnS、ZnSe、CaF2、BaF2、蓝宝石在内的各种易被酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：王松林，张建付，杨崇民，刘青龙，米高园，昌明，李明伟，陶忠，
申请(专利权)人：西安应用光学研究所，
类型：发明
国别省市：