应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统，应用于光学成像系统的视场控制装置包括：基体，所述基体可透光；多个遮光部，多个所述遮光部均设于所述基体且相互平行，多个所述遮光部在所述基体的第一方向依次设置，且多个所述遮光部中至少相邻的两个所述遮光部间隔开以在相邻两个所述遮光部间形成透光区。由此，通过基体和多个遮光部配合，可以减少光学成像系统的视场角大小，从而可以抑制光学成像系统中浮空实像两侧残像的产生，能够提高用户的观看体验。能够提高用户的观看体验。能够提高用户的观看体验。

【技术实现步骤摘要】
应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统


[0001]本专利技术涉及光学制造领域，尤其是涉及一种应用于光学成像系统的视场控制装置以及光学成像系统。

技术介绍

[0002]平板透镜全称为等效负折射率平板透镜，其利用两层周期性分布的阵列光波导相互正交，使光线在两层阵列光波导中各发生一次全反射，由于是相互正交的矩形结构，所以会使第一次全反射时的入射角和第二次全反射时的出射角相同。在光源光线发散角内的所有光线在经过平板透镜后会相应的收敛到以平板透镜为面对称的三维空间中，从而得到一个1：1的浮空实像。目前市面上大部分用于作为像源的显示器视场角较大，接近180度可视，在这种情况下，平板透镜成像特点为观察者观察到浮空实像的同时，会看到实像两侧各出现一个斜置的残像，当人眼位置偏离正视位置且偏离角度逐渐变大时，浮空实像会越来越模糊，而实像左右两侧的残像一个变得更加清晰，另一个变得模糊，残像的出现会严重影响用户对浮空实像的观看。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种应用于光学成像系统的视场控制装置，该应用于光学成像系统的视场控制装置可以减少光学成像系统的视场角大小，从而可以抑制光学成像系统中浮空实像两侧残像的产生，能够提高用户的观看体验。
[0004]本专利技术进一步地提出了一种光学成像系统。
[0005]根据本专利技术的应用于光学成像系统的视场控制装置包括：基体，所述基体可透光；多个遮光部，多个所述遮光部均设于所述基体且相互平行，多个所述遮光部在所述基体的第一方向依次设置，且多个所述遮光部中至少相邻的两个所述遮光部间隔开以在相邻两个所述遮光部间形成透光区。
[0006]根据本专利技术的应用于光学成像系统的视场控制装置，通过基体和多个遮光部配合，可以减少光学成像系统的视场角大小，从而可以抑制光学成像系统中浮空实像两侧残像的产生，能够提高用户的观看体验。
[0007]在本专利技术的一些示例中，所述基体内设有用于安装所述遮光部的多个安装部，多个所述遮光部和多个所述安装部一一对应。
[0008]在本专利技术的一些示例中，所述安装部构造为安装槽，所述安装槽在所述基体的厚度方向延伸。
[0009]在本专利技术的一些示例中，在所述基体的厚度方向，所述遮光部垂直于所述基体。
[0010]在本专利技术的一些示例中，在所述基体的厚度方向，所述遮光部倾斜延伸。
[0011]在本专利技术的一些示例中，所述的应用于光学成像系统的视场控制装置还包括：第一保护片和第二保护片，在所述基体的厚度方向所述基体具有相对的第一表面和第二表
面，所述第一保护片、所述第二保护片分别设于所述第一表面和所述第二表面，其中，所述第一保护片和所述第二保护片均可透光。
[0012]在本专利技术的一些示例中，所述遮光部构造为不透光结构。
[0013]在本专利技术的一些示例中，所述的应用于光学成像系统的视场控制装置还包括：背光源，所述背光源选择性地照射所述遮光部以使所述遮光部在遮光状态和未遮光状态间转换。
[0014]在本专利技术的一些示例中，所述的应用于光学成像系统的视场控制装置还包括：导光板，所述导光板用于将所述背光源发出光线导向至所述遮光部。
[0015]在本专利技术的一些示例中，至少一个所述遮光部包括：第一遮光部和第二遮光部，所述第一遮光部和所述第二遮光部在所述基体的厚度方向层叠设置，所述背光源包括第一背光源和第二背光源，所述第一背光源用于选择性地照射所述第一遮光部，所述第二背光源用于选择性地照射所述第二遮光部。
[0016]在本专利技术的一些示例中，所述的应用于光学成像系统的视场控制装置还包括：导光板，所述导光板用于将所述背光源发出光线导向至与其对应的所述遮光部，所述第一背光源和所述第二背光源设于所述导光板的径向外侧。
[0017]根据本专利技术的光学成像系统包括：平板透镜；显示器，所述显示器用于朝向所述平板透镜发射光线；视场控制装置，所述平板透镜和/或所述显示器设有所述视场控制装置，且所述显示器朝向所述平板透镜发射的光线通过所述视场控制装置，其中，所述视场控制装置为上述的应用于光学成像系统的视场控制装置。
[0018]根据本专利技术的光学成像系统，通过基体和多个遮光部配合，可以减少光学成像系统的视场角大小，从而可以抑制光学成像系统中浮空实像两侧残像的产生，能够提高用户的观看体验。
[0019]在本专利技术的一些示例中，所述视场控制装置设于所述平板透镜远离和/或靠近所述显示器的表面。
[0020]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0021]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0022]图1是根据本专利技术实施例的平面透镜的结构总图；
[0023]图2是图1中K处在侧视方向的局部放大图；
[0024]图3是根据本专利技术实施例的平面透镜的分解图；
[0025]图4是根据本专利技术实施例的平面透镜的两层正交的光波导阵列沿Z方向的结构示意图；
[0026]图5是根据本专利技术实施例的平面透镜的两层正交的光波导阵列的成像示意图；
[0027]图6是根据本专利技术实施例的平面透镜的光源影像经单层光波导阵列时在X方向的成像示意图；
[0028]图7是图6所示的光源影像经单层光波导阵列时在立体方向的成像示意图；
[0029]图8是根据本专利技术实施例的平面透镜的光源影像经两层正交的光波导阵列时成像光路原理图；
[0030]图9a是光线正入射和斜入射到平面透镜的反射面上时的光线方向路线示意图；
[0031]图9b是光线正入射到平面透镜的反射面上时的光线方向路线示意图；
[0032]图10是光线斜入射到平面透镜的反射面上时的光线方向路线示意图；
[0033]图11是根据本专利技术实施例的视场控制装置示意图；
[0034]图12是根据本专利技术实施例的视场控制装置的遮光部不透光时的示意图；
[0035]图13是根据本专利技术实施例的视场控制装置的遮光部不透光时的示意图；
[0036]图14是根据本专利技术另一个实施例的视场控制装置示意图；
[0037]图15是根据本专利技术另一个实施例的视场控制装置的遮光部不透光时的示意图；
[0038]图16是根据本专利技术另一个实施例的视场控制装置的遮光部不透光时的示意图；
[0039]图17是根据本专利技术实施例的视场控制装置的第一保护片、基体、遮光部和第二保护片装配示意图；
[0040]图18是根据本专利技术实施例的视场控制装置的遮光部截面为梯形时的示意图；
[0041]图19是根据本专利技术实施例的光学成像系统的平板透镜和显示器示意图；
[0042]图20是根据本专利技术实施例的光学成像系统的示意图；
[0043]图21是根据本专利技术另一个实施例的光学成像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，包括：基体，所述基体可透光；多个遮光部，多个所述遮光部均设于所述基体且相互平行，多个所述遮光部在所述基体的第一方向依次设置，且多个所述遮光部中至少相邻的两个所述遮光部间隔开以在相邻两个所述遮光部间形成透光区。2.根据权利要求1所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，所述基体内设有用于安装所述遮光部的多个安装部，多个所述遮光部和多个所述安装部一一对应。3.根据权利要求2所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，所述安装部构造为安装槽，所述安装槽在所述基体的厚度方向延伸。4.根据权利要求2所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，在所述基体的厚度方向，所述遮光部垂直于所述基体。5.根据权利要求2所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，在所述基体的厚度方向，所述遮光部倾斜延伸。6.根据权利要求2所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，还包括：第一保护片和第二保护片，在所述基体的厚度方向所述基体具有相对的第一表面和第二表面，所述第一保护片、所述第二保护片分别设于所述第一表面和所述第二表面，其中，所述第一保护片和所述第二保护片均可透光。7.根据权利要求1
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6中任一项所述的应用于光学成像系统的视场控制装置，其特征在于，所述遮光部构造为不透光结构。8.根据权利要求1
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6中任一项所述的应用于光...

【专利技术属性】
技术研发人员：张亮亮，韩东成，范超，
申请(专利权)人：安徽省东超科技有限公司，
类型：发明
国别省市：