制备合成石英玻璃的工艺制造技术

本发明专利技术描述一种用于生产合成石英玻璃的工艺，其中原料蒸气由有机硅起始化合物和任何可燃的燃烧器辅助气体在小于或等于1.00的燃烧器中的空气系数下反应而成。此外，本发明专利技术涉及一种相应设备。及一种相应设备。及一种相应设备。

【技术实现步骤摘要】
制备合成石英玻璃的工艺


[0001]本专利技术涉及一种用于生产合成石英玻璃的工艺和一种用于进行根据本专利技术的工艺的对应设备。

技术介绍

[0002]为了生产合成石英玻璃，在CVD工艺中通过水解或氧化从含硅起始物质中生成SiO2粒子，并且将其沉积于移动载体上。外部沉积工艺与内部沉积工艺之间可能存在差异。在外部沉积工艺中，SiO2粒子沉积于旋转载体的外部。此类外部沉积工艺的实例是所谓的OVD工艺(外部气相沉积)、VAD工艺(气相轴向沉积)或PECVD工艺(等离子体增强化学气相沉积)。内部沉积工艺的众所周知的实例是MCVD工艺(改性化学气相沉积)，其中SiO2粒子沉积在从外部加热的管的内壁上。
[0003]在载体表面区域内足够高的温度下，SiO2粒子直接玻璃化，这也称为“直接玻璃化(direct vitrification)”。相比之下，在所谓的“烟灰工艺(soot process)”中，SiO2粒子沉积期间的温度非常低，以致获得多孔SiO2烟灰层，然后在单独的工艺步骤中将所述烟灰层烧结成透明的石英玻璃。直接玻璃化和烟灰工艺都产生致密、透明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于生产合成石英玻璃的工艺，其特征在于以下工艺步骤：(1)蒸发含有至少一种有机硅起始化合物的原料以形成原料蒸气；(2)将所述原料蒸气馈送到反应区，在所述反应区中所述原料蒸气在火焰中在氧气存在下燃烧并且通过氧化和/或通过水解转化成SiO2烟灰粒子；(3)将由工艺步骤(2)产生的所述SiO2烟灰粒子沉积在沉积表面上以形成烟灰体；以及(4)必要时，对由工艺步骤(3)产生的所述SiO2粒子进行干燥和玻璃化以形成合成熔融二氧化硅；所述工艺的特征在于欲在工艺步骤(2)中进行的所述原料蒸气的所述转化在小于或等于1.00的燃烧器中的空气系数下进行。2.根据权利要求1所述的工艺，其特征在于工艺步骤(2)中使用的用于所述原料蒸气的燃烧的所述火焰具有0.95或更小的空气系数。3.根据权利要求1或2所述的工艺，其特征在于工艺步骤(2)中使用的用于所述原料蒸气的燃烧的所述火焰具有0.85或更小的空气系数。4.根据权利要求1或2所述的工艺，其特征在于所述有机硅起始化合物在进料中与氧气一起馈送到所述燃烧器中。5.根据权利要求1或2所述的工艺，其特征在于所述工艺步骤(2)通过具有同心横截面的燃烧器进行，其中在所述同心横截面内部，将所述原料蒸气与氧气一起作为进料混合物引入燃烧器火焰中，并且通过非氧化分离气体将所述进料混合物与含氧氧化气体分离。6.根据权利要求5所述的工艺，其特征在于所述分离气体含有按体积计超过5％的氢气。7.根据权利要求1或2所述的工艺，其特征在于所述有机硅起始化合物选自由以下组成的群组：六甲基环三硅氧烷(D3)、八甲基环四硅氧烷(D4)、十甲基环五硅氧烷(D5)、十二甲基环六硅氧烷(D6)、十四甲基环七硅氧烷(D7)、十六甲基环八硅氧烷(D8)、其线性同系物和以上化合物的任何混合物。8.根据权利要求1或2所述的工艺，其特征在于用于使所述有机硅起始化合物和任选地可燃辅助气体在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：贺利氏石英玻璃有限两合公司，
类型：发明
国别省市：