一种自清洁岩土勘察杆制造技术

本实用新型专利技术提供了一种自清洁岩土勘察杆，包括底座、可升降勘察杆、探测线以及设置在底座上用于固定勘察杆和探测线的支架；还包括固定座、设置在固定座上的限位件和位于勘察杆两侧的瓣状结构；固定座设置在底座上且位于勘察杆的一侧，瓣状结构为横截面呈半圆弧的弧片，瓣状结构的外壁设有滑块；滑块沿着固定座外壁面上设置的滑槽移动从而瓣状结构可相互靠近或远离；当瓣状结构彼此贴合时形成包裹并贴合勘察杆端部的清理环，同时述限位件对瓣状结构起限制作用防止瓣状结构滑移彼此分离。本技术方案不仅可以方便清理而且不易残留污垢，方便实用。实用。实用。

【技术实现步骤摘要】
一种自清洁岩土勘察杆


[0001]本技术涉及一种岩土勘察杆。

技术介绍

[0002]岩土工程勘察是指根据建设工程的要求，查明、分析、评价建设场地的地质、环境特征和岩土工程条件，编制勘察文件的活动。
[0003]目前大多数的勘察设备都是通过水管水流对勘察杆进行清理冲刷，但是在使用时由于冲刷的水流强度不够强，就会导致勘察杆的表面残留有剩余的泥渣，随即泥渣会逐渐腐蚀勘察杆，最终导致勘察杆老化加速并损坏，致使勘察杆的使用寿命缩短。因此，需要对此作改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服现有技术中存在的缺点，提供一种方便清理且不易残留污垢的自清洁岩土勘察杆。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：
[0006]一种自清洁岩土勘察杆，包括底座、可升降勘察杆、探测线以及设置在所述底座上用于固定所述勘察杆和探测线的支架；还包括固定座、设置在所述固定座上的限位件和位于所述勘察杆两侧的瓣状结构；所述固定座设置在所述底座上且位于所述勘察杆的一侧，所述瓣状结构为横截面呈半圆弧的弧片，所述瓣状结构的外壁本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自清洁岩土勘察杆，包括底座、可升降勘察杆、探测线以及设置在所述底座上用于固定所述勘察杆和探测线的支架；其特征在于还包括固定座、设置在所述固定座上的限位件和位于所述勘察杆两侧的瓣状结构；所述固定座设置在所述底座上且位于所述勘察杆的一侧，所述瓣状结构为横截面呈半圆弧的弧片，所述瓣状结构的外壁设有滑块；所述滑块沿着所述固定座外壁面上设置的滑槽移动从而所述瓣状结构可相互靠近或远离；当所述瓣状结构彼此贴合时形成包裹并贴合勘察杆端部的清理环，同时所述限位件对所述瓣状结构起限制作用防止所述瓣状结构滑移彼此分离。2.如权利要求1所述的一种自清洁岩土勘察杆，其特征在于所述限位件包括处于同一平面且依次平行排列的第一竖杆、第二竖杆、第三竖杆、第四竖杆以及分别将所述第一竖杆和所述第二竖杆连接的第一横杆、将所述第二竖杆和所述第三竖杆连接的第二横杆、将所述第三竖杆和所述第四竖杆连接的第三横杆；所述第二横杆用于将所述限位件悬挂在所述固定座上；当所述第二横杆失去束缚所述限位件掉落后所述第一横杆和所述第三横杆遮蔽所述滑槽从而将所述滑块限制在所述第二竖杆和第三竖杆之间所述瓣状结构无法...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕阳洋，王振红，孙淼军，周春宏，彭鹏，
申请(专利权)人：浙江华东建设工程有限公司，
类型：新型
国别省市：