一种温和不刺激泥浆面膜及其制备方法技术

技术编号:33841693 阅读:18 留言:0更新日期:2022-06-18 10:24
本发明专利技术公开了一种温和不刺激泥浆面膜及其制备方法,该泥浆面膜包括如下质量百分比的组分:填充剂0.1

【技术实现步骤摘要】
一种温和不刺激泥浆面膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及化妆品领域,具体而言,涉及一种温和不刺激泥浆面膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]由于现代生活和工作压力不断增大,还有环境污染的日益严重,人们的皮肤亦变得越发敏感,时常遇到痒、痛、肿等问题,给生活和美观带来很多负面影响。而随生活水平的提高,人们对于这些皮肤问题的关注也越来越多。
[0003]皮肤敏感和容易出现特应性皮炎的人容易产生皮肤炎症,表皮释放炎症介质并处于发炎状态,血管扩张导致泛红和发热的症状出现,细胞的过度增殖使得皮肤变得比往常更厚,皮肤内部组织结构的紊乱改变了皮肤的外在状,使皮肤失去光泽和清透感。
[0004]炎症和过敏反应是皮肤自我保护的一种应激反应,其发生通常需要一种细胞介质的传输,这就是炎症介质。抗敏成分作用机理主要是通过抑制炎症介质的传递作用而发挥效果。炎症介质是炎症过程中由细胞释放或由体液产生、参与或引起炎症反应的化学物质。常见的炎症介质有组胺(HIS)、基质金属蛋白酶(MMP)、白细胞介素1(IL -1)、白细胞介素6(IL-6)、肿瘤坏死因子(TNF

α)、缓激肽 (BK)、5

羟色胺(5

HT)、白三烯B4(LTB4)等。
[0005]有鉴于此,特提出本专利技术,制备一种温和不刺激泥浆面膜及其制备方法。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是在于提供一种温和不刺激的泥浆面膜及其制备方法,从产生刺激和过敏的机理出发,选择了不同的抗敏舒缓成分进行搭配组合,并运用于泥浆面膜,人们通过使用泥浆面膜来改善肌肤敏感的问题,同时帮助修复肌肤屏障。
[0007]本专利技术还提供了一种温和不刺激泥浆面膜,按重量百分比计包括:填充剂0.1

30%、润肤剂1

20%、保湿剂5

20%、增稠剂0.1

5%、乳化剂2

5%、防腐剂0.1

2.0%、抗敏组合0.05

5%、余量为水;其中所述抗敏组合物按占泥浆面膜总质量百分比计包括:甘草酸二钾 0.01

0.2%、卡瓦胡椒叶/根/茎提取物0.05

1.0%、乳酸杆菌/豆浆发酵产物滤液0.05

2.0%、夜花叶提取物0.01

1.0%、扭刺仙人掌茎提取物0.05

2%、泛醇0.01

2.0%。
[0008]优选的,所述填充剂包括高岭土、钛白粉、色粉、淀粉中的至少一种。
[0009]优选的,所述润肤剂包括辛酸/癸酸甘油三酯、环五聚二甲基硅氧烷/环己硅氧烷、霍霍巴油、矿油、聚二甲基硅氧烷、C12

15醇苯甲酸酯中的至少一种。
[0010]优选的,所述保湿剂包括丁二醇、甘油、丙二醇、甜菜碱、海藻糖中的至少一种。
[0011]优选的,所述的温和不刺激泥浆面膜,其特征在于,所述增稠剂包括水辉石、黄原胶、水解小核菌胶、卡波姆、鲸蜡硬酯醇、硬脂酸中的至少一种。
[0012]优选的,所述乳化剂包括PEG

20甲基葡糖倍半硬脂酸酯、甲基葡糖倍半硬脂酸酯、硬脂酰谷氨酸钠、聚丙烯酰胺、水、C13

14异链烷烃、月桂醇聚醚

7、C14

22醇、C12

20烷基葡糖苷中的至少一种。
[0013]优选的,所述防腐剂包括对羟基苯乙酮、1,2

己二醇、苯氧乙醇、羟苯甲酯、羟苯丙
酯中的至少一种,优选苯氧乙醇为0.5%、羟苯甲酯为0.2%,及羟苯丙酯为0.1%。
[0014]优选的,所述温和不刺激泥浆面膜的制备方法,包括如下步骤:
[0015]步骤S1、将配方量的油相组分加入油相锅,加热至80~82℃,搅拌溶解均匀;
[0016]步骤S2、将配方量的水相组分加入真空乳化锅内,加热至80~85℃,搅拌均质溶解分散均匀,再缓慢抽入溶解好的油相组分,均质 10~15min,保温搅拌一段时间,然后抽真空,降温冷却;
[0017]步骤S3、降温至30~45℃时,加入低温组分,搅拌均匀。
[0018]优选的,步骤S2中,保温搅拌的时间为10

30min,温度控制在80~85 ℃。
[0019]甘草酸二钾:阻止组胺的释放,解毒、消毒、抗过敏。
[0020]卡瓦胡椒(PIPER METHYSTICUM)叶/根/茎提取物:能够即时镇静、抗炎症、抗菌,减少刺痛和瘙痒、发红、灼热症状。其作用点是在神经末梢,通过醉椒素占据GABAA受体抑制前列腺素PGE2来阻断神经元传递信息,可抑制敏感性的传递。
[0021]乳酸杆菌/豆浆发酵产物滤液:其为LF16

35益生菌的代谢物,从发酵的豆浆中获得,能够加强皮肤屏障、抑菌、抑制免疫蛋白E (lgE)、抑制前列腺素、抑制组胺。
[0022]夜花(NYCTANTHES ARBOR

TRISTIS)叶提取物:抗组胺抗过敏原料,从夜花藤植物提取,能有效消除或缓解由某些功能性原料(如祛斑剂、防晒剂、祛痘剂、美白剂、祛皱剂、减肥剂、丰乳剂、促渗剂、染发剂等),以及紫外线,高温,细菌等引起的对人体皮肤的刺激、过敏作用而导致的发红,发痒等症状。本原料作用机理为直接抑制皮肤T

淋巴细胞受到外界不良作用(如抗原氧化,细菌感染)时产生的一类发炎物质,如淋巴因子,并对组胺有非常好的抑制功效。
[0023]扭刺仙人掌(Opuntia Streptacantha)茎提取物:能有效抑制三大致敏原(表面活性剂、防腐剂、香料香精)引起的刺激,保护修复细胞膜,同时能够抑制细胞DNA损伤和泄露。抑制胞液型磷脂酶A2 (cPLA2),cPLA2是炎症反应的关键酶,主要引发花生四烯酸的释放。
[0024]泛醇:在化妆品行业,皮肤上的护理作用表现为深入渗透的保湿剂,刺激上皮细胞的生长,促进伤口愈合,起消炎作用;头发上的护理作用表现为持久的保湿功能,防止头发开叉,受损,增加头发的密度,提高发质的光泽;指甲的护理上表现为改善指甲的水合性,赋予指甲柔韧性。
[0025]与现有技术相比,本专利技术的有益效果:(1)本专利技术从产生刺激和过敏的机理出发,选择了不同的抗敏舒缓成分进行搭配组合,并运用于泥浆面膜,人们通过使用泥浆面膜来改善肌肤敏感的问题,同时帮助修复肌肤屏障;
[0026](2)本专利技术的泥浆面膜安全无刺激,敏感肌患者使用也无不良反应;过敏症状明显好转,且明显感觉皮肤屏障得到修复,皮肤耐受性得到一定的提升;还可明显改善脓泡、发红症状,有效率高。
附图说明
[0027]图1为志愿者1使用本专利技术产品前后拍照示意图;
[0028]图2为志愿者1使用本专利技术前后红斑面本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种温和不刺激泥浆面膜,其特征在于,按重量百分比计包括:填充剂0.1

30%、润肤剂1

20%、保湿剂5

20%、增稠剂0.1

5%、乳化剂2

5%、防腐剂0.1

2.0%、抗敏组合0.05

5%、余量为水;其中所述抗敏组合物按占泥浆面膜总质量百分比计包括:甘草酸二钾0.01

0.2%、卡瓦胡椒叶/根/茎提取物0.05

1.0%、乳酸杆菌/豆浆发酵产物滤液0.05

2.0%、夜花叶提取物0.01

1.0%、扭刺仙人掌茎提取物0.05

2%、泛醇0.01

2.0%。2.根据权利要求1所述的温和不刺激泥浆面膜,其特征在于,所述填充剂包括高岭土、钛白粉、色粉、淀粉中的至少一种。3.根据权利要求1所述的温和不刺激泥浆面膜,其特征在于,所述润肤剂包括辛酸/癸酸甘油三酯、环五聚二甲基硅氧烷、环己硅氧烷、霍霍巴油、矿油、聚二甲基硅氧烷、C12

15醇苯甲酸酯中的至少一种。4.根据权利要求1所述的温和不刺激泥浆面膜,其特征在于,所述保湿剂包括丁二醇、甘油、丙二醇、甜菜碱、海藻糖中的至少一种。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:赵海龙徐志军
申请(专利权)人:江西初芙化妆品有限公司
类型:发明
国别省市:

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