一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法制造方法及图纸

本申请实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底，以及层叠设置在衬底一侧的至少两个电极层，在衬底指向电极层的方向上，各电极层的刻蚀速率依次增大；其中，至少两个电极层包括相邻的第一电极层和第二电极层，第二电极层位于第一电极层背离衬底的一侧，第二电极层相对于第一电极层朝向第一方向缩进，以在第一电极层上形成第一台阶区域，第一台阶区域在衬底上的正投影与第二电极层在衬底上的正投影无交叠。通过本申请实施例提供的一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，可以提高PDL成膜的均匀性。提高PDL成膜的均匀性。提高PDL成膜的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法


[0001]本申请实施例涉及显示
，具体而言，涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。

技术介绍

[0002]有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Display，OLED)是近年来逐渐发展起来的显示照明技术，尤其在显示行业，由于其具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，被视为拥有广泛的应用前景。
[0003]在大尺寸OLED制作工艺中，通常使用有机PR胶制作像素界定层(pixeldefinitionlayer,PDL)，为了使旋涂或狭缝涂覆工艺成膜更加均匀，一般在制作PDL前，需要先制作平坦层来优化成膜条件，但是制作平坦层增加了掩膜板的使用，导致制作资金和制作时间增加，不利于成本压缩。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，旨在提高PDL成膜的均匀性。
[0005]本申请实施例第一方面提供一种显示基板，包括：
[0006]衬底，以及层叠设置在所述衬底一侧的至少两个电极层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底，以及层叠设置在所述衬底一侧的至少两个电极层；其中，所述至少两个电极层包括相邻的第一电极层和第二电极层，所述第二电极层位于所述第一电极层背离所述衬底的一侧，所述第二电极层相对于所述第一电极层朝向第一方向缩进，以在所述第一电极层上形成第一台阶区域，所述第一台阶区域在所述衬底上的正投影与所述第二电极层在所述衬底上的正投影无交叠。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于：所述至少两个电极层还包括：第三电极层，设置在所述第二电极层背离所述衬底的一侧，与所述第二电极层相邻；所述第三电极层相对于所述第二电极层朝所述第一方向缩进，以在所述第二电极层上形成第二台阶区域，所述第二台阶区域在所述衬底上的正投影与所述第三电极层在所述衬底上的正投影无交叠；第四电极层，设置在所述第三电极层背离所述衬底的一侧，与所述第三电极层相邻；所述第四电极层相对于所述第三电极层朝所述第一方向缩进，以在所述第三电极层上形成第三台阶区域，所述第三台阶区域在所述衬底上的正投影与所述第四电极层在所述衬底上的正投影无交叠。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于：所述第一电极层的材料包括：ITO；所述第二电极层的材料包括以下至少之一：Mo和Ti；所述第三电极层的材料包括以下至少之一：Al和Nd；所述第四电极层的材料包括：Cu。4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于：在所述第一方向上，所述第一台阶区域的尺寸大于或等于500nm，所述第二台阶区域的尺寸大于或等于200nm，所述第三台阶区域的尺寸大于或等于200nm。5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于：在所述衬底靠近所述电极层的一侧表面设置有第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽，所述第一凹槽、所述第二凹槽和所述第三凹槽沿所述第一方向依次排布；其中，所述第一凹槽位于所述第一台阶区域在所述衬底上的正投影范围内，所述第二凹槽位于所述第二台阶区域在所述衬底上的正投影范围内，所述第三凹槽位于所述第三台阶区域在所述衬底上的正投影范围内。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于：在所述第一台阶区域背离所述衬底的一侧形成有与所述第一凹槽相对应的第一子凹槽，在所述第二台阶区域背离所述衬底的一侧形成有所述第二凹槽相对应的第二子凹槽，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗程远，徐攀，张大成，韩影，张星，赵冬辉，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：