一种电化学水处理装置用排垢机构制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种电化学水处理装置用排垢机构，包括水箱以及横向安装在水箱下方并与水箱相连通的排垢管道，水箱下方、排垢管道上方均具有开口，水箱以及排垢管道在开口处固定连接并通过开口相连通；排垢管道内部安装有螺旋输送件，排垢管道底部设置有排垢口；在水箱的箱壁上设置有溢流口，溢流口位于排垢管道的上方。本实用新型专利技术的电化学水处理装置用排垢机构能够使电化学水处理装置在排垢时将水垢固液分离而不再以泥浆的状态直接排放，从溢流口排出的水分可以重新排入循环水系统中、避免了水资源浪费；从排垢口排出的低含水量水垢便于处理，可以进行后续的回收再利用。可以进行后续的回收再利用。可以进行后续的回收再利用。

【技术实现步骤摘要】
一种电化学水处理装置用排垢机构


[0001]本技术涉及电化学水处理
，尤其涉及一种电化学水处理装置用排垢机构。

技术介绍

[0002]电化学水处理技术能够能够将水中的Ca
2+
、Mg
2+
离子以固体形式取出，降低循环水硬度，减少补充的新水量和排污量，节约水资源，同时还具有杀菌灭藻的功能，减少了化学药剂的投加。电化学水处理技术所采用的水处理装置具有阴极和阳极，形成的难溶性物质附着在阴极，形成结垢以达到除垢效果，阳极表面则发生氧化反应，产生活性氧化物质以进行杀菌、灭藻、除垢。
[0003]现有技术中的电化学水处理装置通常采用除垢机构将阴极上的结垢清除，在排垢时将水垢连同装置箱体内的水同时排出，造成了水资源的浪费，且排出的水垢呈泥浆状，后续处理难度高；此外，还需要建造排污池来收集和排放从电化学水处理装置排出的水垢和水，增加了处理成本。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种电化学水处理装置用排垢机构，以解决目前现有电化学水处理装置在排垢时会造成水资源浪费、排出的水垢处理难度高的技术问题。
[0005]本技术所解决的技术问题可以采取以下方案来实现：一种电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：包括水箱以及横向安装在水箱下方并与水箱相连通的排垢管道，水箱下方、排垢管道上方均具有开口，水箱以及排垢管道在开口处固定连接并通过开口相连通；排垢管道内部安装有螺旋输送件，排垢管道上设置有排垢口；在水箱的箱壁上设置有溢流口，所述溢流口位于排垢管道的上方。/>[0006]进一步的：所述水箱底部具有从上至下口径渐缩的沉积斗，沉积斗的下方敞口形成所述水箱的下方开口。
[0007]进一步的：所述沉积斗由前壁、后壁及侧壁围成，所述前壁及后壁倾斜设置，所述侧壁竖直设置。
[0008]进一步的：所述溢流口设置在所述沉积斗的侧壁上。
[0009]进一步的：所述排垢管道与所述沉积斗的侧壁相垂直。
[0010]进一步的：所述螺旋输送件由减速机驱动。
[0011]进一步的：所述排垢口位于排垢管道的中部。
[0012]进一步的：所述水箱的下方开口处具有上法兰盘，所述排垢管道的上方开口处具有与上法兰盘相对应的下法兰盘，通过上法兰盘和下法兰盘之间的固定连接将水箱与排垢管道固定连接。
[0013]进一步的：所述螺旋输送件包括主轴以及固定安装在主轴上的叶片。
[0014]进一步的：在排垢管道的端部安装有用于架设所述主轴的轴座，所述主轴与所述
轴座转动连接。
[0015]电化学水处理装置的除垢机构将阴极上的结垢刮除后，被刮除的水垢经由水箱下方开口、排垢管道上方开口逐渐沉积到排垢管道中，在除垢阶段以及沉积阶段，溢流口均处在封闭状态。水垢沉积一段时间后将溢流口打开，位于排垢管道上方去除水垢后的清液从溢流口排出，重新进入循环水系统中；之后螺旋输送件动作将排垢管道内的垢体输送至排垢口排出。
[0016]本技术的电化学水处理装置用排垢机构在使用时，被刮除的水垢经由水箱下方开口、排垢管道上方开口逐渐沉积到排垢管道中，在该沉积阶段，使溢流口处在封闭状态；水垢沉积一段时间后将溢流口打开，位于排垢管道上方的去除水垢后的清液从溢流口排出，重新排入循环水系统中；经溢流口排水后排垢管道内水垢的含水量降低，之后螺旋输送件动作将排垢管道内的低含水量水垢输送至排垢口排出。本技术的电化学水处理装置用排垢机构能够使水处理装置在排垢时将水垢固液分离而不再以泥浆的状态直接排放，从溢流口排出的水分可以重新排入循环水系统中、避免了水资源浪费，从排垢口排出的低含水量水垢便于处理，可以进行后续的回收再利用。此外，无需再建造用于收集和排放水垢及水的排污池、节约了水垢处理成本。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1是本技术实施例电化学水处理装置用排垢机构的结构示意图；
[0019]图2是本技术实施例电化学水处理装置用排垢机构的左视图；
[0020]图3是本技术实施例电化学水处理装置用排垢机构的主视剖视图；
[0021]图4是本技术实施例电化学水处理装置用排垢机构的俯视图；
[0022]主要标件与标号：
[0023]水箱：10；溢流口：11；沉积斗：12；上法兰盘：13；前壁：121；后壁：122；侧壁：123；
[0024]排垢管道：20；排垢口：21；下法兰盘：22；
[0025]螺旋输送件：30；主轴：31；叶片：32；轴座：33；
[0026]减速机：40。
具体实施方式
[0027]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚地展示，下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
[0028]实施例
[0029]请参阅图1至图4，本实施例的电化学水处理装置用排垢机构包括水箱10以及横向安装在水箱10下方并与水箱10相连通的排垢管道20，水箱10下方、排垢管道20上方均具有开口，水箱10以及排垢管道20在开口处固定连接并通过开口相连通；排垢管道20内部安装有螺旋输送件30，排垢管道20上设置有排垢口21；在水箱10的箱壁上设置有可封闭可敞开
的溢流口11，所述溢流口11位于排垢管道20的上方。
[0030]电化学水处理装置的除垢机构将阴极上的结垢刮除后，被刮除的水垢经由水箱下方开口、排垢管道上方开口逐渐沉积到排垢管道中，在除垢阶段以及沉积阶段，溢流口均处在封闭状态。水垢沉积一段时间后将溢流口打开，位于排垢管道上方去除水垢后的清液从溢流口排出，重新进入循环水系统中；之后螺旋输送件动作将排垢管道内的垢体输送至排垢口排出。
[0031]为了使水箱内的水垢易从水箱向排垢管道沉积，进一步的，所述水箱10底部具有从上至下口径渐缩的沉积斗12，沉积斗12的下方敞口形成所述水箱10的下方开口。水箱内的水垢先沉积到沉积斗，之后由沉积斗向排垢管道沉积。
[0032]进一步的，如图1、2所示，所述沉积斗12由前壁121、后壁122及两块侧壁123围成，所述前壁121及后壁122倾斜设置，所述侧壁123竖直设置。所述前壁121及后壁122从箱体外侧向箱体中部倾斜，以形成从上至下口径渐缩的沉积斗。
[0033]进一步的，如图1、2所示，所述溢流口11设置在所述沉积斗12的侧壁123上。进一步的，溢流口靠近沉积斗侧壁下方设置。
[0034]进一步的，如图1
‑
4所示，所述排垢管道20与所述沉积斗12的侧壁123相垂直，即排垢管道20水平安装在沉积斗12下方。
[0035]进一步的，如图1
‑
4所示，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：包括水箱(10)以及横向安装在水箱(10)下方并与水箱(10)相连通的排垢管道(20)，水箱(10)下方、排垢管道(20)上方均具有开口，水箱(10)以及排垢管道(20)在开口处固定连接并通过开口相连通；排垢管道(20)内部安装有螺旋输送件(30)，排垢管道(20)上设置有排垢口(21)；在水箱(10)的箱壁上设置有溢流口(11)，所述溢流口(11)位于排垢管道(20)的上方。2.根据权利要求1所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述水箱(10)底部具有从上至下口径渐缩的沉积斗(12)，沉积斗(12)的下方敞口形成所述水箱(10)的下方开口。3.根据权利要求2所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述沉积斗(12)由前壁(121)、后壁(122)及侧壁(123)围成，所述前壁(121)及后壁(122)倾斜设置，所述侧壁(123)竖直设置。4.根据权利要求3所述的电化学水处理装置用排垢机构，其特征在于：所述溢流口(11)设置在所述沉积斗(12)的侧壁(123)上。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王利军，
申请(专利权)人：鄂尔多斯市泓源环保设备有限公司，
类型：新型
国别省市：