一种高光泽度胶带基膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种高光泽度胶带基膜，涉及胶带基膜技术领域，包括基膜主体，所述基膜主体长度方向两侧均等距设有多个易撕豁口，所述基膜主体长度方向两侧且靠近易撕豁口处均设有撕拉块；所述基膜主体包括基材层，所述基材层上方依次设有防水层、耐高温层、抗静电层、增透层和耐磨层。本实用新型专利技术通过基膜主体、易撕豁口、撕拉块、黏连块和粘胶层之间的相互配合，在基膜主体的两侧设置易撕豁口，无需借助工具也可快速将基膜主体撕断，而靠近易撕豁口设置的撕拉块则方便快速找到基膜主体的断裂处，给基膜主体的后续使用提供便利，而两端黏连块和粘胶层的设置则便于将基膜主体紧密地缠绕收卷，防止基膜主体松散。防止基膜主体松散。防止基膜主体松散。

【技术实现步骤摘要】
一种高光泽度胶带基膜


[0001]本技术涉及胶带基膜
，尤其涉及一种高光泽度胶带基膜。

技术介绍

[0002]胶带是由基材和胶黏剂两部分组成的物品，通过粘接能使两个或多个不相连的物体连接在一起，胶带按它的功效可分为高温胶带、双面胶带、绝缘胶带、特种胶带、压敏胶带、模切胶带，不同的功效适合不同的行业需求，随着现代生活的发展，胶带已经被运用到各行各业以及人们的日常生活领域中。
[0003]胶带基膜是胶带的重要组成部分，然而，现有的胶带基膜在实际使用过程中，由于其多为卷状的整体设置，在使用时，人们往往需要借助工具才能将其撕开，且在利用工具撕开后，又由于其整体较薄且较为透明，导致其撕开的一端不便找寻，往往需要耗费较长的时间才能找到其被撕开的自由端，这些问题均给胶带基膜使用带来不便，基于上述问题，我们提出了一种高光泽度胶带基膜。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中胶带基膜在实际使用时不便被撕开，且被撕开后其自由端不易被发现，给胶带基膜的使用带来了极大不便的问题，而提出的一种高光泽度胶带基膜。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种高光泽度胶带基膜，包括基膜主体，所述基膜主体长度方向两侧均等距设有多个易撕豁口，所述基膜主体长度方向两侧且靠近易撕豁口处均设有撕拉块；所述基膜主体包括基材层，所述基材层上方依次设有防水层、耐高温层、抗静电层、增透层和耐磨层。
[0006]作为上述技术方案的进一步描述：
[0007]所述基膜主体两端均设有黏连块，所述黏连块下表面设有粘胶层。
[0008]作为上述技术方案的进一步描述：
[0009]所述耐高温层为聚酰亚胺薄膜。
[0010]作为上述技术方案的进一步描述：
[0011]所述抗静电层为纳米聚氨酯防静电薄膜。
[0012]作为上述技术方案的进一步描述：
[0013]所述耐高温层与抗静电层厚度均为1
‑
15微米。
[0014]作为上述技术方案的进一步描述：
[0015]所述抗静电层与增透层之间还设有阻燃层和抗紫外线层。
[0016]本技术具有如下有益效果：
[0017]1、与现有技术相比，该高光泽度胶带基膜，通过基膜主体、易撕豁口、撕拉块、黏连块和粘胶层之间的相互配合，在基膜主体的两侧设置易撕豁口，无需借助工具也可快速将基膜主体撕断，而靠近易撕豁口设置的撕拉块则方便快速找到基膜主体的断裂处，给基膜
主体的后续使用提供便利，而两端黏连块和粘胶层的设置则便于将基膜主体紧密地缠绕收卷，防止基膜主体松散。
[0018]2、与现有技术相比，该高光泽度胶带基膜，通过防水层、耐高温层、抗静电层、耐磨层、阻燃层和抗紫外线层的设置，可有效提升该基膜主体的防水、耐高温、耐磨以及抗静电和防晒等性能，从而提高该基膜主体的实用性和耐使用性。
附图说明
[0019]图1为本技术提出的一种高光泽度胶带基膜的结构示意图；
[0020]图2为本技术提出的一种高光泽度胶带基膜中黏连块与粘胶层的连接结构示意图；
[0021]图3为本技术提出的一种高光泽度胶带基膜中基膜主体的分层结构示意图。
[0022]图例说明：
[0023]1、基膜主体；101、基材层；102、防水层；103、耐高温层；104、抗静电层；105、增透层；106、耐磨层；107、阻燃层；108、抗紫外线层；2、易撕豁口；3、撕拉块；4、黏连块；5、粘胶层。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]参照图1
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图3，本技术提供的一种高光泽度胶带基膜：包括基膜主体1，基膜主体1长度方向两侧均等距设有多个易撕豁口2，基膜主体1长度方向两侧且靠近易撕豁口2处均设有撕拉块3；基膜主体1两端均设有黏连块4，黏连块4下表面设有粘胶层5，通过设置易撕豁口2方便在无工具使用时也可将基膜主体1按需撕裂，而撕拉块3靠近易撕豁口2设置，这样在一次撕裂后，方便下次快速找寻撕裂口位置，其中一端的黏连块4可通过粘胶层5粘接在收卷棒或收卷辊等位置，待全部收卷结束后，再将另一端的黏连块4通过粘胶层5粘在基膜主体1自身的外表面，可有效防止收卷后的基膜主体1松散。
[0026]基膜主体1包括基材层101，基材层101上方依次设有防水层102、耐高温层103、抗静电层104、增透层105和耐磨层106，抗静电层104与增透层105之间还设有阻燃层107和抗紫外线层108，其中增透层105包括茂金属催化层、添加有成核剂的聚乙烯层和荧光粉层的一种或多种复合层，可有效增加该基膜主体1的通透性。
[0027]进一步地，耐高温层103为聚酰亚胺薄膜，抗静电层104为纳米聚氨酯防静电薄膜，耐高温层103与抗静电层104厚度均为1
‑
15微米，聚酰亚胺是一种有机高分子材料，具有良好的耐高温性能，通过增设耐高温层103可有效提高该基膜主体1的抗热性能，可保证基膜主体1在一定高温条件下较长的使用寿命，通过设置抗静电层104可有利于消除基膜主体1上的静电。
[0028]本技术可通过以下操作方式阐述其功能原理：
[0029]将基膜主体1其中一端的黏连块4可通过粘胶层5粘接在收卷棒或收卷辊等位置，
转动收卷棒或收卷辊，将基膜主体1收成卷状，待全部收卷结束后，再将基膜主体1另一端的黏连块4通过粘胶层5粘在基膜主体1自身的外表面，防止其松散。
[0030]需要撕裂基膜主体1时，只需沿着临近的易撕豁口2即可将基膜主体1撕裂，再使用时，只需沿着撕拉块3就可快速找到撕裂口，给基膜主体1使用提供便利。
[0031]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高光泽度胶带基膜，包括基膜主体(1)，其特征在于：所述基膜主体(1)长度方向两侧均等距设有多个易撕豁口(2)，所述基膜主体(1)长度方向两侧且靠近易撕豁口(2)处均设有撕拉块(3)；所述基膜主体(1)包括基材层(101)，所述基材层(101)上方依次设有防水层(102)、耐高温层(103)、抗静电层(104)、增透层(105)和耐磨层(106)。2.根据权利要求1所述的一种高光泽度胶带基膜，其特征在于：所述基膜主体(1)两端均设有黏连块(4)，所述黏连块(4)下表面设有粘胶层(5)。3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘素荣，尹望林，龚玉林，谢帆，
申请(专利权)人：江苏丰远新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：