一种一次场补偿式电磁探测装置制造方法及图纸

本申请公开了一种一次场补偿式电磁探测装置，该装置中发射线圈和补偿线圈的形状相同，均为规则形状，补偿线圈为多个，多个补偿线圈中的每个线圈的物理参数和电学参数均相同；发射线圈包围补偿线圈，补偿线圈包围接收传感器；发射线圈、补偿线圈和接收传感器在垂直方向共轴心；发射线圈和接收传感器位于第一平面上，补偿线圈位于与第一平面不同的平面上。通过本申请解决了现有电磁探测装置所存在的问题，从而克服时间域一次场掺杂在二次场响应曲线的早期时刻，造成浅部信息“湮没”，产生浅部探测“盲区”的缺点，解决了接收传感器相对发射线圈和补偿线圈位置的严格要求，提高了测量稳定性和精度。定性和精度。定性和精度。

【技术实现步骤摘要】
一种一次场补偿式电磁探测装置


[0001]本申请涉及到电磁探测领域，具体而言，涉及一种一次场补偿式电磁探测装置。

技术介绍

[0002]随着工程施工、资源勘探的进行，一些浅层、超浅层的地质问题也暴露出来。为了解决这些地质问题，近几年开发出了一些新的浅层物探方法来解决这些问题。基于电磁法探测的方法其中重要的一种方法手段。
[0003]各种介质及物体的电学特性(包括电阻率、电化学特性、介电性、导磁系数等)具有一定的差异，能形成一定规律的天然和人工电磁场。探测并研究天然的或人工建立的电磁场的分布规律来达到研究地质构造、寻找矿藏、探测地下目的物的目的。基于电磁法探测的浅层、超浅层物探可以有效的解决工程上很多其他方法难以解决的难题，并有快速、便捷、经济的特点，随着城市化进程的加速，其方法技术、应用领域不断拓展。
[0004]基于电磁法探测的方法是向目标介质发射一定能量的电流(一般称为一次场)，对目标介质产生激励，然后快速关断电流源，通过电或磁传感器感应并记录目标介质的激励响应(一般称为二次场)曲线，分析不同介质的响应曲线特征，进而表征目标本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种一次场补偿式电磁探测装置，其特征在于，包括：发射线圈、补偿线圈和接收传感器，其中，所述发射线圈和所述补偿线圈的形状相同，均为规则形状，所述补偿线圈为多个，所述多个补偿线圈中的每个线圈的物理参数和电学参数均相同；所述发射线圈包围所述补偿线圈，所述补偿线圈包围所述接收传感器；所述发射线圈、所述补偿线圈和所述接收传感器在垂直方向共轴心；所述发射线圈和所述接收传感器位于第一平面上，所述补偿线圈位于与所述第一平面不同的平面上。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述物理参数包括以下至少之一：形状、尺寸、绕线工艺、材质、直径、匝数；和/或，所述电学参数包括以下至少之一：电阻、电容、电感。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述补偿线圈为两个。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述补偿线圈中的第一线圈所在的平面为第二平面，所述补偿线圈中的第二线圈所在的平面为第三平面，所述第二平面与所述第三平面以及所述第一平面平行，所述第二平面和所述第三平面之间的距离为所述补偿线圈的直径的N倍，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永兵，何继善，李芳书，张磊，
申请(专利权)人：湖南继善高科技有限公司，
类型：发明
国别省市：