一种显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例公开了一种显示装置。显示装置包括显示屏幕和光催化清洁层；显示屏幕包括阵列基板和在阵列基板上阵列排布的像素单元，像素单元包括多个子像素单元；在像素单元中，每个子像素单元均包括一个第一发光器件，至少一个子像素单元包括一个第二发光器件；光催化清洁层位于显示屏幕的出光侧并覆盖显示屏幕；第一发光器件响应阵列基板的驱动实现显示屏幕的画面显示；第二发光器件响应阵列基板的驱动使紫外光照射光催化清洁层，以使光催化清洁层清除附着于显示屏幕上的脏污。本实用新型专利技术实施例的技术方案，实现了显示屏幕的自清洁功能，保证显示屏幕的洁净，提升了用户的屏幕使用体验。屏幕使用体验。屏幕使用体验。

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置


[0001]本技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示装置多样化需求日趋增多，多功能显示装置受到越来越多关注，如可穿戴显示装置、指纹触控显示装置等。
[0003]然而，由于显示屏幕触控频率较高，致使显示屏幕很容易附着上指纹油脂或者脏污，进而影响用户的使用体验，因此如何做好显示屏幕清洁成为一个亟待解决的问题。

技术实现思路

[0004]本技术实施例提供一种显示装置，以实现显示装置中显示屏幕的自清洁功能，从而通过显示屏幕自身来清除附着于显示屏幕上的脏污，保证用户的良好使用体验。
[0005]本技术实施例提供的显示装置，包括：显示屏幕和光催化清洁层；
[0006]所述显示屏幕包括阵列基板和在所述阵列基板上阵列排布的像素单元，所述像素单元包括多个子像素单元；所述像素单元中，每个所述子像素单元均包括一个第一发光器件，至少一个所述子像素单元包括一个第二发光器件；
[0007]所述光催化清洁层位于所述显示屏幕的出光侧并覆盖所述显示屏幕；所述第一发光器件响应所述阵列基板的驱动实现所述显示屏幕的画面显示；所述第二发光器件响应所述阵列基板的驱动使紫外光照射所述光催化清洁层，以使所述光催化清洁层清除附着于所述显示屏幕上的脏污。
[0008]可选地，所述第一发光器件包括红光发光二极管、绿光发光二极管或者蓝光发光二极管；所述第二发光器件包括紫外光发光二极管。
[0009]可选地，包括所述绿光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述红光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述蓝光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管。
[0010]可选地，所述像素单元中每个所述子像素单元均包括一个所述第二发光器件。
[0011]可选地，所述光催化清洁层的厚度为50nm至80nm。
[0012]可选地，所述显示屏幕还包括触控模组和玻璃盖板；所述触控模组位于所述像素单元与所述玻璃盖板之间；
[0013]所述光催化清洁层位于所述玻璃盖板远离所述触控模组的一侧并覆盖所述玻璃盖板，所述光催化清洁层在所述第二发光器件的紫外光照射下去除附着于所述玻璃盖板上的脏污。
[0014]可选地，所述阵列基板上设置有呈阵列排布的驱动电路；一个所述第一发光器件和一个所述第二发光器件分别对应一个所述驱动电路；所述第一发光器件和所述第二发光器件分别与对应的所述驱动电路电连接。
[0015]可选地，一个所述第一发光器件和对应的所述驱动电路构成一个所述子像素单
元；或者，一个所述第一发光器件和一个所述第二发光器件以及其分别对应的所述驱动电路构成一个所述子像素单元；所述子像素单元的平面尺寸为30um
×
100um～80um
×
200um。
[0016]可选地，所述第一发光器件和/或所述第二发光器件的平面尺寸为3um
×
3um～10um
×
10um。
[0017]可选地，所述光催化清洁层的材质包括二氧化钛。
[0018]本技术实施例提供的显示装置包括显示屏幕；显示屏幕包括阵列基板和在阵列基板上阵列排布的像素单元，像素单元包括多个子像素单元。在此基础上，通过设置像素单元中每个子像素单元均包括一个第一发光器件且至少一个子像素单元包括一个第二发光器件，以及设置显示装置还包括光催化清洁层，光催化清洁层位于显示屏幕的出光侧并覆盖显示屏幕，从而可以在第一发光器件响应阵列基板的驱动处于开启状态时，实现显示屏幕的正常画面显示，在第二发光器件响应阵列基板的驱动处于开启状态时，第二发光器件紫外光照射光催化清洁层，光催化清洁层在紫外光照射下将附着于显示屏幕上的脏污清除，实现显示屏幕的自清洁功能，保证显示屏幕的洁净，从而保证用户的良好使用体验。
附图说明
[0019]图1是本技术实施例提供的一种显示装置的俯视结构示意图；
[0020]图2是本技术实施例提供的一种显示屏幕的局部俯视结构示意图；
[0021]图3是本技术实施例提供的另一种显示屏幕的局部俯视结构示意图；
[0022]图4是本技术实施例提供的一种子像素单元的结构示意图；
[0023]图5是本技术实施例提供的另一种显示装置的剖面结构示意图。
具体实施方式
[0024]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0025]图1是本技术实施例提供的一种显示装置的俯视结构示意图，图2是本技术实施例提供的一种显示屏幕的局部俯视结构示意图。结合图1至图2，显示装置100包括显示屏幕110和光催化清洁层120；显示屏幕110包括阵列基板1110和在阵列基板1110上阵列排布的像素单元200，像素单元200包括多个子像素单元210；在像素单元200中，每个子像素单元210均包括一个第一发光器件211，至少一个子像素单元210包括一个第二发光器件212；光催化清洁层120位于显示屏幕110的出光侧并覆盖显示屏幕110；第一发光器件211响应阵列基板1110的驱动实现显示屏幕110的画面显示；第二发光器件212响应阵列基板1110的驱动紫外光照射光催化清洁层120，以使光催化清洁层120清除附着于显示屏幕110上的脏污。
[0026]其中，显示装置100可以是微发光二极管显示装置(Micro Light Emitting Diode，Micro LED)。显示屏幕110可以是具有触控功能的显示屏幕。光催化清洁层120由光催化材料形成，具有光催化性能，且可以是透明的膜层。光催化材料的光催化性能是指光催化材料在光的作用下将有机物转换为无机物；例如，光催化材料在吸收了紫外光的能量之后，在自身基本无损耗的情况下将有机物最终降解为二氧化碳和水。
[0027]具体地，阵列基板1110用于控制第一发光器件211和第二发光器件212的工作状态；第一发光器件211因阵列基板1110的驱动处于开启状态时，可实现显示屏幕110的正常画面显示，第一发光器件211例如可以由砷化镓(GaAs)、磷化镓(GaP)或者铟镓氮(InGaN)等材料制成；第二发光器件212因阵列基板1110的驱动处于开启状态时，第二发光器件212发出紫外光，该紫外光线可射入光催化清洁层120，第二发光器件212例如可以由氮化铝镓(AlGaN)等材料制作成。
[0028]像素单元200代表一个像素，子像素单元210代表一个子像素。像素单元200中子像素单元210的数目可以是三个或者四个等等，对此不做具体限定，图2中示例性地示意出像素单元200中设置有三个子像素单元210的情况。每个像素单元200中的每个子像素单元210均包本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其特征在于，包括：显示屏幕和光催化清洁层；所述显示屏幕包括阵列基板和在所述阵列基板上阵列排布的像素单元，所述像素单元包括多个子像素单元；所述像素单元中，每个所述子像素单元均包括一个第一发光器件，至少一个所述子像素单元包括一个第二发光器件；所述光催化清洁层位于所述显示屏幕的出光侧并覆盖所述显示屏幕；所述第一发光器件响应所述阵列基板的驱动实现所述显示屏幕的画面显示；所述第二发光器件响应所述阵列基板的驱动使紫外光照射所述光催化清洁层，以使所述光催化清洁层清除附着于所述显示屏幕上的脏污。2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述第一发光器件包括红光发光二极管、绿光发光二极管或者蓝光发光二极管；所述第二发光器件包括紫外光发光二极管。3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，包括所述绿光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述红光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管；或者，包括所述蓝光发光二极管的所述子像素单元包括所述紫外光发光二极管。4.根据权利要求1或者2任一项所述的显示装置，其特征在于，所述像素单元中每个所述子像素单元均包括一个所述第二发光器件。5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述光催化清洁层的厚度为50nm至80nm。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：张原豪，韩龙，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：