一种光学镜片减反射膜及其制备方法技术

技术编号:33786640 阅读:36 留言:0更新日期:2022-06-12 14:42
本发明专利技术公开了一种光学镜片减反射膜,光学镜片减反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层YF3膜层、第二层ZnS膜层、第三层YF3膜层和第四层ZnS膜层,第一层YF3膜层的厚度为1200

【技术实现步骤摘要】
一种光学镜片减反射膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及镜片领域,具体涉及一种光学镜片减反射膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]减反射膜,它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,减少或消除系统的杂散光。在人们的日常生活中,减反射膜应用极为广泛,从最基础的望远镜、电视机、照相机、摄像机、显微镜等仪器的镜头,到商店的橱窗、博物馆或展览馆的展台,太阳能电池板收集器的玻璃罩板,利用太阳能的节能建筑玻璃,仪器仪表的防护玻璃板等许多场合,都用到镀有减反射膜的玻璃。如何降低减反射膜的反射率,以提高光的透射率本领域技术人员亟需解决的问题。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题,本专利技术的目的在于提供一种光学镜片减反射膜及其制备方法。经研究发现通过本专利技术提供的制备方法制得的减反射膜具有良好的透射率。
[0004]为了达到以上目的,本专利技术采用的技术方案是:一种光学镜片减反射膜,光学镜片减反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层YF3膜层、第二层ZnS膜层、第三层YF3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学镜片减反射膜,其特征在于,光学镜片减反射膜从镜片基材的表面到外依次设有第一层YF3膜层、第二层ZnS膜层、第三层YF3膜层和第四层ZnS膜层。2.根据权利要求1所述的一种光学镜片减反射膜,其特征在于,第一层YF3膜层的厚度(h1)为1200

1400nm,第二层ZnS膜层的厚度(h2)为750

850nm,第三层YF3膜层的厚度(h3)为1200

1400nm,第四层ZnS膜层的厚度(h4)为750

850nm。3.根据权利要求2所述的一种光学镜片减反射膜,其特征在于,第一层YF3膜层的厚度(h1)为1300nm,第二层ZnS膜层的厚度(h2)为800nm,第三层YF3膜层的厚度(h3)为1300nm,第四层ZnS膜层的厚度(h4)为800nm。4.根据权利要求3所述的一种光学镜片减反射膜,其特征在于,所述镜片基材为热塑性聚酯、玻璃、石英或蓝宝石。5.一种光学镜片减反射膜的制备方法,包括以下步骤,S1、通过薄膜光学的基本知识和分析方法,结合软件进行优化,模拟计算得到第一层YF3膜层的厚度(h1)、第二层ZnS膜层的厚度(h2)、第三层YF3膜层的厚度(h3)、第四层ZnS膜层的厚度(h4);S2、对镜片基材进行清洗、干燥;S3、采用真空蒸镀的方法对镜片基材镀减反射膜。6.根据权利要求5所述的一种光学镜片减反射膜的制备方法,其特征在于,步骤S3镀减反射膜的具体步骤如下:S31、将真空镀膜舱内的真空度调整至6.0
×
10
‑3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为55

65℃,采用霍尔离子源轰击YF3,YF3蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面形成第一层YF3膜层,第一层YF3膜层的厚度为1200

1400nm,第一层YF3膜层的镀膜速率为0.3nm/s

0.5nm/s;S32、将真空镀膜舱内的真空度调整至6.0

【专利技术属性】
技术研发人员:丁磊
申请(专利权)人:苏州镭云海创光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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