碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法技术

技术编号:33781027 阅读:42 留言:0更新日期:2022-06-12 14:35
本发明专利技术公开了碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,具体按照以下步骤实施:步骤1,制备Ni掺杂的SnS2纳米片阵列;步骤2,制备Ni/SnS2@Ni(OH)2;本发明专利技术方法简单,成本较低;制备的超级电容器正极材料具有较高的面积比容量和功率密度,表现出良好的电化学性能;且首次合成Ni/SnS2@Ni(OH)2材料,具有创新性;良好的电化学性能,具有实用性。具有实用性。具有实用性。

【技术实现步骤摘要】
碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法


[0001]本专利技术属于超级电容器正极材料合成
,具体涉及碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法。

技术介绍

[0002]随着化石能源的过渡开采和急剧消耗,能源问题和环境恶化已经备受人们关注。目前开发清洁低廉的环境友好储能元件来缓解当前社会的能源危机,对于发展国民经济、实现可持续发展具有重大意义。目前,超级电容器作为新兴储能元件被认为是有效的途径之一。研究表明:

相比于锂离子电池,超级电容器材料具有更高的功率密度,能实现快速充放电;

水系超级电容器材料具有绿色、无污染环境友好等特点,在动力用能源领域具有应用价值。
[0003]关于碳布上原位负载Sn的硫化物用于超级电容器正极材料的制备方法已有文献报道,但制备Ni参杂的SnS2阵列原位生长Ni(OH)2纳米片双阵列结构材料并用于超级电容器体系的报道甚少。水热法在碳布模板上构筑Ni参杂的SnS2纳米片阵列,并在SnS2纳米片阵列上原位生长超薄Ni(OH)2纳米片,大大提升SnS2纳米片阵列的比表面积,提高比电容。除此之外,在Ni参杂的SnS2阵列原位生长Ni(OH)2纳米片双阵列结构材料作为超级电容器正极材料几乎未见报道。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,该正极材料是绿色的、环境友好的,并且具有高的比表面积和高的电导率,相比于原位生长的其他正极材料具有高的功率密度和面积比容量。表明其在高功率、高安全性和动力用领域中具有较大应用潜力。
[0005]本专利技术所采用的技术方案是,碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,具体按照以下步骤实施:
[0006]步骤1,制备Ni掺杂的SnS2纳米片阵列;
[0007]步骤2,制备Ni/SnS2@Ni(OH)2。
[0008]本专利技术的特点还在于:
[0009]其中步骤1具体如下:
[0010]步骤1.1,所采用化学品包括硝酸HNO3、硫酸H2SO4、四氯化锡SnCl4、六水合氯化镍NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA,合成前,将碳布浸入HNO3和H2SO4混合溶液中,去除表面杂质和活化,然后在空气中干燥,记为样品A;
[0011]步骤1.2,将无水SnCl4、NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA溶解在去离子水中并搅拌,记为溶液B;
[0012]步骤1.3,将样品A和溶液B同时转移到聚四氟乙烯衬里的高压釜中,保持一段时间,然后自然冷却至室温,将得到的碳布表面原位生长的Ni/SnS2前体用去离子水和乙醇超
声洗涤数次,然后在真空干燥过夜,将得到Ni掺杂的SnS2纳米片阵列;记为样品C;
[0013]其中步骤1.1中碳布大小为1
×
3~2
×
3cm,HNO3和H2SO4混合溶液的质量比为3:1;
[0014]其中步骤1.2中无水SnCl4为1~3mmol、NiCl2·
6H2O为0.1~0.3mmol,硫代乙酰胺TAA为0.8~1mmol,去离子水为5~30mL,搅拌为磁力搅拌,搅拌时间为20~30min;
[0015]其中步骤1.2中,所述无水氯化锡、六水合氯化镍和硫代乙酰胺的摩尔比为10:1.5:5~10:0.5:5;
[0016]其中步骤1.3中保持时间为4~8h,保持温度为150~170℃,真空干燥温度为60~90℃;
[0017]其中步骤2具体如下:
[0018]步骤2.1,将0.1~1.5mmolNiCl2·
6H2O和0.1~5mmol尿素溶于5~30ml去离子水中,进行常温磁力搅拌,直到形成浅绿色透明溶液,记为溶液D;
[0019]步骤2.2,将所述步骤1得到的样品C和步骤2.1得到的溶液D同时转移到高压釜中保持一段时间,自然冷却至室温后,所得样品用乙醇和超纯水冲洗数次,然后真空干燥过夜,将得到Ni/SnS2@Ni(OH)2样品,记为样品E;
[0020]其中步骤2.1中,NiCl26H2O为0.1~1.5mmol,尿素为0.1~5mmol,去离子水为5~30ml;
[0021]其中步骤2.1中,氯化镍和尿素的摩尔比为1:2~1:4;
[0022]其中步骤2.2中保持时间为1~2h,保持温度为90~110℃;真空干燥温度为60~90℃。
[0023]本专利技术的有益效果是:
[0024]本专利技术的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,方法简单,成本较低。制备的超级电容器正极材料具有较高的面积比容量和功率密度,表现出良好的电化学性能。且首次合成Ni/SnS2@Ni(OH)2材料,具有创新性;良好的电化学性能,具有实用性。
附图说明
[0025]图1为本专利技术的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法将Ni(OH)2成功负载在Ni/SnS2表面;
[0026]图2本专利技术的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法制备的Ni/SnS2@Ni(OH)2材料形貌图;
[0027]图3为本专利技术的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法制备的Ni/SnS2@Ni(OH)2材料在2M KOH电极液中的恒电流充放电曲线。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进行详细说明。
[0029]本专利技术提供了碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,具体按照以下步骤实施:
[0030]步骤1,制备Ni掺杂的SnS2纳米片阵列:
[0031]步骤1.1,所采用化学品包括硝酸HNO3、硫酸H2SO4、四氯化锡SnCl4、六水合氯化镍NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA,合成前,将碳布浸入HNO3和H2SO4混合溶液中,去除表面杂质和活化,然后在空气中干燥,记为样品A,碳布大小为1
×
3~2
×
3cm,HNO3和H2SO4混合溶液的
质量比为3:1;
[0032]步骤1.2,将无水SnCl4、NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA溶解在去离子水中并搅拌,记为溶液B,无水SnCl4为1~3mmol、NiCl2·
6H2O为0.1~0.3mmol,硫代乙酰胺TAA为0.8~1mmol,去离子水为5~30mL,搅拌为磁力搅拌,搅拌时间为20~30min;所述无水SnCl4、NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA的摩尔比为10:1.5:5~10:0.5:5;
[0033]步骤1.3,将样品A和溶液B同时转移到聚四氟乙烯衬里的高压釜中,保持时间为4~8h,保持温度为150~170℃,然后自然冷却至室温,将得到的碳布表面原位生长的Ni/SnS2前体用去离子水和乙醇超声洗涤数次,然后在真空干燥过夜,真空干燥温度为60~90℃,将得到Ni掺杂的SnS2本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:步骤1,制备Ni掺杂的SnS2纳米片阵列;步骤2,制备Ni/SnS2@Ni(OH)2。2.根据权利要求1所述的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,其特征在于,所述步骤1具体如下:步骤1.1,所采用化学品包括硝酸HNO3、硫酸H2SO4、四氯化锡SnCl4、六水合氯化镍NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA,合成前,将碳布浸入HNO3和H2SO4混合溶液中,去除表面杂质和活化,然后在空气中干燥,记为样品A;步骤1.2,将无水SnCl4、NiCl2·
6H2O和硫代乙酰胺TAA溶解在去离子水中并搅拌,记为溶液B;步骤1.3,将样品A和溶液B同时转移到聚四氟乙烯衬里的高压釜中,保持一段时间,然后自然冷却至室温,将得到的碳布表面原位生长的Ni/SnS2前体用去离子水和乙醇超声洗涤数次,然后在真空干燥过夜,将得到Ni掺杂的SnS2纳米片阵列;记为样品C。3.根据权利要求2所述的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,其特征在于,所述步骤1.1中碳布大小为1
×
3~2
×
3cm,HNO3和H2SO4混合溶液的质量比为3:1。4.根据权利要求2所述的碳布模板构筑Ni/SnS2@Ni(OH)2的方法,其特征在于,所述步骤1.2中无水SnCl4为1~3mmol、NiCl2·
6H2O为0.1~0.3mmol,硫代乙酰胺TAA为0.8~1mmol,去离子水为5~30mL,搅拌为磁力搅拌,搅拌时间为20~30min。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:尚家旭杨程魏子尧赵志李文轩梁苗苗付翀
申请(专利权)人:西安工程大学
类型:发明
国别省市:

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