一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于椭偏测量装置技术领域，具体涉及一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置，包括起偏臂、检偏臂和样本台，所述起偏臂的光路方向上依次设置有检偏臂、样本台；所述起偏臂包括光源、起偏器和第一快轴可调圆形弹光调制器，所述光源的光路方向上依次设置有起偏器、第一快轴可调圆形弹光调制器，所述第一快轴可调圆形弹光调制器的光路方向上设置有样本台。本发明专利技术采用的椭偏测量方法具有单次测量、测量精度高、标定简单、光谱范围宽等优点。本发明专利技术提出的测量装置，较机械旋转速度可提高3

【技术实现步骤摘要】
一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置


[0001]本专利技术属于椭偏测量装置
，具体涉及一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置。

技术介绍

[0002]随着微电子、光学镀膜、平板显示，及纳米生物和新材料技术等高新
的发展，高精度椭偏薄膜技术成为该领域检测的重要手段。椭偏测量技术是一种多功能光学测量技术，通过测量偏振光入射待测物前后偏振态的变化获取其光学常数(折射率n，消光系数k)、膜结构及厚度等参数。现有椭偏测量技术主要有穆勒矩阵部分元素椭偏测量和全穆勒矩阵广义椭偏测量两种方式：穆勤矩阵部分元素椭偏测量系统仅能测量部分穆勒矩阵，因不能获取完整的样品信息，可适用于非退偏或者各向同性样品的测量；全穆勒矩阵广义椭偏测量系统能测量全部的穆勒矩阵，适用于各种样品测量。
[0003]广义椭偏测量技术每次测量可获得穆勒矩阵的所有16个元素，从而能够提供更多有用的待测信息，如结构参数、各向异性和去极化。与扫描电子显微镜和透射电子显微镜技术相比，广义椭偏测量技术可无损测得物理和结构特性，因此广义椭偏已应用于微电子、光学镀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置，其特征在于：包括起偏臂(1)、检偏臂(2)和样本台(3)，所述起偏臂(1)的光路方向上依次设置有检偏臂(2)、样本台(3)；所述起偏臂(1)包括光源(1
‑
1)、起偏器(1
‑
2)和第一快轴可调圆形弹光调制器(1
‑
3)，所述光源(1
‑
1)的光路方向上依次设置有起偏器(1
‑
2)、第一快轴可调圆形弹光调制器(1
‑
3)，所述第一快轴可调圆形弹光调制器(1
‑
3)的光路方向上设置有样本台(3)。2.根据权利要求1所述的一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置，其特征在于：所述检偏臂(2)包括探测器(2
‑
1)、检偏器(2
‑
2)和第二快轴可调圆形弹光调制器(2
‑
3)，所述第二快轴可调圆形弹光调制器(2
‑
3)的光路方向上依次设置有检偏器(2
‑
2)、探测器(2
‑
1)，所述第二快轴可调圆形弹光调制器(2
‑
3)设置在样本台(3)的光路方向上。3.根据权利要求2所述的一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置，其特征在于：所述第一快轴可调圆形弹光调制器(1
‑
3)和第二快轴可调圆形弹光调制器(2
‑
3)均包括通光晶体(4)、第一压电驱动器(5
‑
1)和第二压电驱动器(5
‑
2)，所述通光晶体(4)分别与第一压电驱动器(5
‑
1)和第二压电驱动器(5
‑
2)连接。4.根据权利要求3所述的一种微秒级快轴可调弹光调制超高速广义椭偏测量装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞，齐姣，薛鹏，易进，王志斌，李孟委，
申请(专利权)人：中北大学，
类型：发明
国别省市：