基板处理装置、基板处理方法以及存储介质制造方法及图纸

技术编号:33768344 阅读:33 留言:0更新日期:2022-06-12 14:19
基板处理装置具备:旋转保持部,其用于保持基板并使所述基板旋转;处理液供给部,其用于向基板的表面供给处理液;涂布控制部,其执行供给处理和涂布处理,所述供给处理包括一边使基板以供给用的旋转速度旋转、一边向该基板的表面供给处理液,所述涂布处理包括在处理液的供给完成之后使基板旋转以使处理液沿着基板的表面扩展;供给开始检测部,其在供给处理的执行过程中基于处理液的喷出流量的时间变化来检测处理液的供给开始定时;以及条件变更部,其基于供给开始定时来至少变更处理液的供给完成定时或供给用的旋转速度,以抑制因供给开始定时相对于目标定时偏离而引起处理液的供给期间中的基板的旋转次数从目标旋转次数偏离。偏离。偏离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置、基板处理方法以及存储介质


[0001]本公开涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。

技术介绍

[0002]专利文献1中公开了一种基板处理装置,该基板处理装置具备处理液喷出部和用于支承基板的多个基板支承部,所述处理液喷出部具有用于贮存处理液的贮存部、用于喷出处理液的喷出喷嘴以及用于从贮存部向喷出喷嘴加压输送处理液的加压单元。在该基板处理装置中,喷出喷嘴经由气阀来与加压单元连接。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2008

251890号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开提供一种对降低基板间的膜厚差有用的基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一个方面所涉及的基板处理装置具备:旋转保持部,其用于保持基板并使所述基板旋转;处理液供给部,其用于向保持于旋转保持部的基板的表面供给处理液;涂布控制部,其执行供给处理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板处理装置,具备:旋转保持部,其用于保持基板并使所述基板旋转;处理液供给部,其用于向保持于所述旋转保持部的所述基板的表面供给处理液;涂布控制部,其执行供给处理和涂布处理,所述供给处理包括一边由所述旋转保持部使所述基板以供给用的旋转速度旋转、一边由所述处理液供给部向该基板的表面供给所述处理液,所述涂布处理包括在所述处理液的供给完成之后由所述旋转保持部使所述基板旋转以使所述处理液沿着所述基板的表面扩展;供给开始检测部,其在所述供给处理的执行过程中基于所述处理液的喷出流量的时间变化来检测所述处理液的供给开始定时;以及条件变更部,其基于所述供给开始定时来至少变更所述处理液的供给完成定时或所述供给用的旋转速度,以抑制因所述供给开始定时相对于目标定时偏离而引起所述处理液的供给期间中的所述基板的旋转次数从目标旋转次数偏离。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述条件变更部与所述供给开始定时相对于所述目标定时的偏离相应地变更所述供给完成定时。3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,所述涂布控制部在所述涂布处理之后还执行停止处理,在所述停止处理中,由所述旋转保持部使所述基板的旋转在规定的减速期间内停止,所述条件变更部与所述供给完成定时的变更相应地变更所述减速期间。4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置,其特征在于,所述条件变更部在所述处理液的供给开始之后,还响应于所述处理液的喷出流量相对于目标流量发生偏离来变更所述供给用的旋转速度。5.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述条件变更部与所述供给开始定时相对于所述目标定时的偏离相应地变更所述供给用的旋转速度。6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:加藤宽三
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:

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