一种光谱峰位校正方法技术

本发明专利技术属于可见光

【技术实现步骤摘要】
一种光谱峰位校正方法


[0001]本专利技术属于可见光
‑
短波红外光谱测量
，具体涉及一种光谱峰位校正方法。

技术介绍

[0002]可见光
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短波红外光谱一般指波长介于350nm
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2500nm的反射光谱，可用来进行地物识别、成分反演等工作，在地质、环境、农业、植被、材料等诸多方面有重要应用。
[0003]为获取可见光
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短波红外光谱，需使用光谱仪对待测样品进行光谱测量。由于环境和光谱仪自生原因，一段时间后光谱仪测量的光谱曲线峰位可能发生偏移，影响光谱测量的准确性。
[0004]为解决这一问题，光谱仪需每隔一段时间进行检校，通常都是利用稀有气体元素发射或者吸收光谱对应的位置对光谱仪的峰位进行检校。但这种检校需要特定的实验条件和专业机构才可以进行，不仅不方便，而且耗时长，价格高。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于：提供一种光谱峰位校正方法，利用特殊试样的吸收峰位置和光谱库中的光谱的吸收峰位置进行双标交叉检校，具有方便、快捷、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光谱峰位校正方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：步骤(1)，试样准备；步骤(2)，标准光谱测量；步骤(3)，标准光谱检校；步骤(4)，待定光谱测量；步骤(5)，待定光谱检校；步骤(6)，待测样品光谱测量；步骤(7)，峰位修正。2.根据利要求1所述的一种光谱峰位校正方法，其特征在于：所述步骤(1)中，所述试样为类型已知的样品，在现有光谱库中已有该样品的光谱数据，且在350
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2500nm反射光谱范围内有吸收特征峰，试样为粉末样品，粒度小于200目。3.根据利要求1所述的一种光谱峰位校正方法，其特征在于：所述步骤(2)中，使用一台不需要进行峰位校正的光谱仪对试样的光谱进行测量，得到标准光谱。4.根据利要求3所述的一种光谱峰位校正方法，其特征在于：所述步骤(3)中，将标准光谱同现有光谱库中与试样同一类型样品的光谱的吸收峰位置进...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱骏挺，木红旭，芮歆旻，杨燕杰，叶发旺，
申请(专利权)人：核工业北京地质研究院，
类型：发明
国别省市：