一种等离子清洗系统技术方案

本实用新型专利技术提出了一种等离子清洗系统，主要包括：壳体、反应腔、RF射频电源、RF调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与RF射频电源、RF调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。通过上述方式，集成化的设计，占地空间较小，适合于与大的流水线对接，实现在线等离子清洗。离子清洗。离子清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子清洗系统


[0001]本技术涉及等离子清洗机领域，尤其是涉及一种等离子清洗系统。

技术介绍

[0002]等离子清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子清洗机已经步入人们的视野，它的应用领域之广是显而易见的，主要包括：汽车制造行业、塑料橡胶行业、光电制造行业、金属及涂装行业、化纤及纺织行业、印刷及喷码行业等。随着国家供给改革及环保督察力度的加大，各行业标准的不断提高，对于这种无污染，高可靠性等离子清洗设备的需求不断增多。尤其是最近几年来5G和电动汽车的迅速发展，造成全球芯片供应短缺，对等离子清洗系统的要求越来越多。
[0003]目前消费电子、5G、新能源汽车等行业发展迅猛，对半导体的需求不断增加，倒逼行业内各工序工艺的提升，对等离子体清洗设备的要求也越来越高，促使等离子清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗系统，其特征在于，主要包括：壳体、反应腔、RF射频电源、RF调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与RF射频电源、RF调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述上腔体包括：反应腔上盖、第一电极板，所述反应腔上盖与第一上极板之间形成第一密闭空间，所述下腔体包括：反应腔下盖、第二电极板，所述反应腔下盖与第二电极板之间形成第二密闭空间，所述第一密闭空间与第二密闭空...

【专利技术属性】
技术研发人员：华徐浩，
申请(专利权)人：达格测试设备苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：