晶片烘干设备制造技术

技术编号:33752705 阅读:24 留言:0更新日期:2022-06-08 22:00
本实用新型专利技术公开了一种晶片烘干设备,涉及太阳能晶片生产设备技术领域。该烘干设备包括箱体,箱体内设有容纳腔,容纳腔内壁上设有烘干组件,容纳腔内设有烘干架,烘干架通过设于容纳腔内的推动组件推出或拉回箱体,推动组件包括设于容纳腔底面且由箱体内侧朝向箱体出口一侧延伸的滑轨,滑轨上滑移连接有推动板,推动板底部设有滑动条,滑动条滑移连接在滑轨内,烘干架固定在推动板上,容纳腔底面上还设有用于驱使推动板沿滑轨延伸方向滑移的驱动件,本实用新型专利技术在操作人员在上料和取下晶片时,可以通过推动组件将烘干架推出,在箱体外对晶片实现上料和下料操作,避免操作人员在高温状态下操作而被烫伤,方便上料和下料操作,提升了操作效率。提升了操作效率。提升了操作效率。

【技术实现步骤摘要】
晶片烘干设备


[0001]本技术涉及太阳能晶片生产设备
,特别是涉及一种晶片烘干设备。

技术介绍

[0002]太阳能电池,是一种利用太阳光直接发电的光电半导体薄片,又称为“太阳能芯片”或“光电池”,它只要被满足一定照度条件的光照度,瞬间就可输出电压及在有回路的情况下产生电流。
[0003]目前的太阳能电池以光伏效应工作的晶硅太阳能电池为主流,而以光化学效应工作的薄膜电池实施太阳能电池则还处于萌芽阶段。
[0004]由于太阳能电池芯片在制备之后易受外界温湿度和氧气的影响,如果不进行封装,尤其在空气中长期使用,易受水汽侵蚀和氧气氧化绝缘并腐蚀穿孔,导致电池短路或者内阻增加致使电池效率降低,从而缩短了电池的使用寿命。
[0005]晶片在经过前期切割、研磨等工序后,表面沾附着多种有机或无机的污物,污物的存在阻碍了石英晶片的正常使用,因此晶片需要经过硫酸重铬酸钾溶液、纯水超声波、酒精超声波等过程的清洗,清洗后则需要将晶片烘干。
[0006]目前,公开号为CN205138128U的中国专利公开了一种硅晶片烘干设备,其烘本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶片烘干设备,包括箱体(1),箱体(1)内设有容纳腔(11),容纳腔(11)内壁上设有烘干组件,其特征在于:所述容纳腔(11)内设有烘干架(12),烘干架(12)通过设于容纳腔(11)内的推动组件(2)推出或拉回箱体(1),推动组件(2)包括设于容纳腔(11)底面且由箱体(1)内侧朝向箱体(1)出口一侧延伸的滑轨(21),滑轨(21)上滑移连接有推动板(22),推动板(22)底部设有滑动条(23),滑动条(23)滑移连接在滑轨(21)内,烘干架(12)固定在推动板(22)上,容纳腔(11)底面上还设有用于驱使推动板(22)沿滑轨(21)延伸方向滑移的驱动件(3)。2.根据权利要求1所述的晶片烘干设备,其特征在于:所述烘干架(12)包括若干层相互平行设置的安置板(121),安置板(121)与推动板(22)结构相同,均开设有若干个平行设置的长方形的通风口(122),若干块安置板(121)与推动板(22)之间形成用于容纳晶片的烘干槽(123)。3.根据权利要求1所述的晶片烘干设备,其特征在于:所述驱动件(3)包括固定在容纳腔(11)底面上的驱动电机(31),驱动电机(31)的输出轴上固定有驱动丝杠(...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦静超李凤龙许康
申请(专利权)人:江苏龙恒新能源有限公司
类型:新型
国别省市:

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