含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

本发明专利技术涉及一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。R1－CH2－R2－CH2－R3(1)(式(1)中，R2为下述式(2)表示的全氟聚醚链。R1为通过CH2与R2键合的端基，由下述式(3)表示。R3为通过CH2与R2键合、具有1个以上羟基的端基，可以与R1相同也可以不同。)－(CF2)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质


[0001]本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含它的磁记录介质用润滑剂及磁记录介质。
[0002]本申请基于2019年11月7日在日本申请的特愿2019
‑
202285号主张优先权，并将其内容援引于此。

技术介绍

[0003]为了提高磁记录再生装置的记录密度，已进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。
[0004]以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层、在记录层上形成碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录层中记录的信息，同时提高磁头的滑动性。但是，仅通过在记录层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此，通常在保护层的表面上涂布润滑剂而形成润滑层。
[0005]作为形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，例如，已提出了含有在氟类聚合物的末端具有羟基等极性基团的化合物的润滑剂，所述氟类聚合物具有包含CF2的重复结构(例如，参见专利文献1、2)。
[0006]具体而言，专利文献1中公开了在两个末端部分具有多个羟基的化合本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，R1－CH2－R2－CH2－R3ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)式(1)中，R2为下述式(2)表示的全氟聚醚链，R1为通过CH2与R2键合的端基，由下述式(3)表示，R3为通过CH2与R2键合、具有1个以上羟基的端基，可以与R1相同也可以不同；－(CF2)
p
‑1－O－((CF2)
p
O)
q
－(CF2)
p
‑1－
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)式(2)中，p表示2～3的整数，q为平均聚合度且表示1～20，式(3)中，n为1～8的整数。2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R3为所述式(3)表示的端基。3.根据权利要求2所述的含氟醚化合物，所述式(1)表示的化合物为下述式(D)～(G)表示的化合物中的任一种，式(D)中，xd为平均聚合度且表示1～14；式(E)中，xe为平均聚合度且表示1～14；式(F)中，xf为平均聚合度且表示1～14；式(G)中，xg为平均聚合度且表示1～14。4.根据权利要求2所述的含氟醚化合物，所述式(1)表示的醚化合物为下述式(N)～(Q)表示的化合物中的任一种，
式(N)中，yn为平均聚合度且表示1～20；式(O)中，yo为平均聚合度且表示1～20；式(P)中，yp为平均聚合度且表示1～20；式(Q)中，yq为平均聚合度且表示1～20。5.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R3为羟基、下述式(4
‑
1)、下述式(4
‑
2)中任一式表示的端基，
‑
O
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤刚，浅野绫乃，芝田夏实，柳生大辅，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：