显示基板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示基板、其制作方法及显示装置。该显示基板包括衬底、阳极层和遮挡层。衬底包括位于摄像区域的刻蚀区且位于刻蚀区的衬底的厚度小于位于正常显示区域的衬底的厚度；阳极层包括多个阳极单元；遮挡层位于阳极层靠近衬底的一侧，包括轮廓部和位于轮廓部内的多个遮挡单元；刻蚀区的边缘在特定平面的正投影位于轮廓部在特定平面上的正投影内，每个遮挡单元在特定平面的正投影与位于摄像区域的一个阳极单元在特定平面的正投影至少部分重合，特定平面与衬底所在平面平行。本实施例提供的显示基板，遮挡层的轮廓部能够对激光刻蚀的起始位置和结束位置进行保护以防止过刻蚀，能够保证刻蚀区的大部分区域能够得到充分刻蚀。能够得到充分刻蚀。能够得到充分刻蚀。

【技术实现步骤摘要】
显示基板、其制作方法及显示装置


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。

技术介绍

[0002]屏下摄像头技术(Full Display With Camera，FDC)是实现全面屏的关键，对于OLED全面屏来说，显示屏的透过率对于摄像效果来说至关重要。但为了保证密封效果，OLED显示屏通常采用双层聚酰亚胺(Polyimide，PI)膜层作为衬底，这会大幅降低显示屏的透过率，因此需要对摄像区域的PI膜层进行图形化处理。
[0003]现有技术中通常采用激光刻蚀来实现图形化处理，激光刻蚀在具体操作的过程中容易出现刻蚀不均的问题，例如刻蚀的起始位置和结束位置的刻蚀深度大于其余刻蚀位置的刻蚀深度，因此容易出现刻蚀不足而对透过率产生影响，或者出现过刻蚀而引起水氧侵入的风险。并且由于双层PI膜层之间存在的压敏胶(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)容易在激光刻蚀过程中碳化，也会影响透过率。

技术实现思路

[0004]本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括摄像区域和正常显示区域，其特征在于，所述显示基板包括：衬底，包括刻蚀区，所述刻蚀区位于所述摄像区域，位于所述刻蚀区的所述衬底的厚度小于位于所述正常显示区域的所述衬底的厚度；阳极层，位于所述衬底的一侧，包括多个阳极单元；遮挡层，位于所述阳极层靠近所述衬底的一侧，包括轮廓部和位于所述轮廓部内的多个遮挡单元；所述刻蚀区的边缘在特定平面的正投影位于所述轮廓部在所述特定平面上的正投影内，每个所述遮挡单元在特定平面的正投影与位于摄像区域的一个所述阳极单元在特定平面的正投影重合，所述特定平面与所述衬底所在平面平行。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：阴极层，位于所述阳极层远离所述衬底的一侧，且位于所述摄像区域的阴极层包括多个阴极单元，每个所述阴极单元在所述特定平面上的正投影与一个所述阳极单元在所述特定平面上的正投影重合；发光层，位于所述阳极层和所述阴极层之间；透明导电层，位于所述阴极层远离所述衬底的一侧，至少位于摄像区域且与所述阴极层接触。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述衬底包括：第一有机层；第一无机层，位于所述第一有机层靠近所述阳极层的一侧；第二有机层，位于所述第一无机层靠近所述阳极层的一侧；第二无机层，位于所述第二有机层靠近所述阳极层的一侧。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述遮挡层为单层，位于所述摄像区域的每个所述阳极单元所述特定平面上的正投影位于一个所述遮挡单元在所述特定平面上的正投影内。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述遮挡层位于第一有机层与所述第一无机层之间；或者所述遮挡层位于所述第一无机层与所述第二有机层之间；或者所述遮挡层位于所述第二有机层和所述第二无机层之间。6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述遮挡层包括：第一遮挡层，位于第一有机层与所述第二无机层之间，包括所述轮廓部和多个位于所述轮廓部内的第一遮挡单元；第二遮挡层；位于所述衬底与所述阳极层之间，包括多个第二遮挡单元；所述第一遮挡单元和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍堡垒，于池，王杨，高飞飞，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：