【技术实现步骤摘要】
显示面板的制作方法
[0001]本申请属于显示
,尤其涉及一种显示面板的制作方法。
技术介绍
[0002]现有的显示面板,通常包括依次设置的基板层、器件层、钝化层、平坦层、像素电极层和发光层等,器件层包括显示区和位于显示区边缘的封装区,钝化层和平坦层对应显示区的位置依次开设有连接孔和通孔,使得上层的像素电极层能依次通过通孔和连接孔与器件层的源漏极电连接,以使漏极的电信号能传到像素电极层,以使发光层能发出光线;而钝化层对应封装区的位置开设有外接孔,外接孔与器件层的源漏极接通,用于外接信号,为保证封装区后续的封装效果,封装区上方通常不设置平坦层,而是在外接孔上填充能防水汽的无机材料。
[0003]相关技术中,在制作上述显示面板时,为了减少光罩,通常先在钝化层上对应显示区和封装区的位置均覆盖有平坦层,然后开设完通孔、连接孔和外接孔后,再采用干法刻蚀的方法将平坦层对应封装区的部分去除掉,然后再在剩下的平坦层上设置像素电极层。然而由于干法刻蚀工艺具有整面性,在去除封装区上的平坦层时,显示区上的平坦层也会受损而减薄,从而影 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法,所述显示面板包括显示区和位于所述显示区边缘的封装区,其特征在于,所述显示面板的制作方法包括如下步骤:提供一基板;在所述基板上设置器件层;在所述器件层上设置钝化层;其中,所述钝化层在所述显示区具有连接孔,在所述封装区具有外接孔;所述连接孔延伸至所述器件层位于所述显示区内的源漏极,所述外接孔延伸至所述器件层位于所述封装区内的源漏极;在所述钝化层上设置平坦层;其中,所述平坦层在所述显示区具有第一通孔,在所述封装区具有第二通孔,所述第一通孔延伸至与所述连接孔相接,所述第二通孔延伸至与所述外接孔相接;在所述平坦层的显示区上设置像素电极层;其中,所述像素电极层通过所述第一通孔和连接孔与所述器件层的源漏极导通;在所述像素电极层上设置保护层;采用干法刻蚀技术将所述平坦层在所述封装区的部分去除;剥离所述保护层。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,在所述钝化层上设置平坦层的步骤包括:在所述钝化层上涂布有机光阻材料;对所述有机光阻材料进行曝光处理;对所述有机光阻材料进行显影处理,以形成第一通孔和第二通孔。3.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述保护层由光阻剂制成。4.根据权利要求3所述的显示面板的制...
【专利技术属性】
技术研发人员:林高波,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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