低能耗制备复合集流体的方法技术

本发明专利技术涉及新材料技术领域，特别是涉及低能耗制备复合集流体的方法。本发明专利技术通过将一定质量份的羟基磷酸铜和重铬酸铜与高分子聚合物作为复合集流体基材的表层原料，与芯层原料共挤制备的复合集流体基材，在紫外光的照射下，部分羟基磷酸铜和重铬酸铜中的二价铜离子被还原成铜单质，生长出纳米级铜层；另一部分羟基磷酸铜和重铬酸铜则被激活，形成具有化学镀铜催化活性的种晶。纳米铜层与种晶协同作用，能达到化学镀或电镀所需的方阻，替代了传统技术中制备复合集流体的物理气相沉积步骤，有效降低了能耗和生产成本，提高了生产效率。且紫外光处理不会造成高分子材料损伤，不会影响其物理强度和性能，因此，也提高了产品良率。也提高了产品良率。也提高了产品良率。

【技术实现步骤摘要】
低能耗制备复合集流体的方法


[0001]本专利技术涉及新材料
，特别是涉及低能耗制备复合集流体的方法。

技术介绍

[0002]复合集流体是一种新型的集流体材料，由高分子基材层两面镀金属制成，呈“三明治结构”。目前，复合集流体的制备方法主要是在高分子基材的上下表面采用真空状态下物理气相沉积法(PVD)沉积一定厚度的金属层，以使其达到一定的方阻，从而达到可以电镀或化学镀的标准，然后把双面沉积金属后的材料进行电镀或化学镀使金属层加厚，使材料的方阻能达到二次电池需要的标准。
[0003]然而，真空物理气相沉积对设备要求高，并且伴随着高温，而高分子基材在高温下很容易变形、起皱、窜泡、穿孔、变脆等，即使在沉积过程中实时对高分子材料进行冷却处理，上述问题也不能完全避免，因此，采用物理气息制备的复合集流体产品良率较低，通常低于50％。此外，物理气相沉积速度慢，生产效率低下；而且由于物理气相沉积需要把金属气化，所耗费的能量很高，同时，高分子基材的冷却也需要很高的能量，形成能量互冲，造成很大的能量损失，不利于碳达峰、碳中和。/>
技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合集流体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供复合集流体基材，所述复合集流体基材包括芯层和设置于所述芯层两侧的表层，对所述表层进行紫外光照处理，制备活化基材；将所述活化基材进行化学镀铜；其中，所述芯层的原料为第一高分子聚合物，按质量份计，所述表层的原料包括：第二高分子聚合物
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85～95份、Cu2(OH)PO4ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
5～10份、以及CuCr2O7ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
5～10份。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述表层的原料还包括0.5～8质量份的助剂，所述助剂为无机氧化物、二苯基二乙酰腙类化合物、分散剂以及有机螯合剂中的一种或多种；其中，所述二苯基二乙酰腙类化合物具有如下结构：R每次出现，独立地选自
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H、
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D、
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F、
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Cl、
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Br、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基或苯基。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，按质量份计，所述表层的原料包括：3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，按质量份计，所述表层的原料包括：4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述无机氧化物为氧化铜、三氧化二铝以及二氧化硅中的一种或多种；和/或所述二苯基二乙酰腙类化合...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢建栋，李学法，张国平，
申请(专利权)人：江阴纳力新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：