本发明专利技术涉及一种用于运行医学成像装置(1)的清洁系统(24)的方法，其中所述成像装置(1)具有暴露于患者(6)和/或操作人员(15)的外部的、污染影响的使用表面，其特征在于，在使用阶段期间，尤其对于患者(6)的检查过程，记录检测所述使用表面的至少一部分的传感器装置(25)的传感器数据，并且通过评估所述传感器数据确定具有所述使用表面的潜在污染区域(16)的表面图(36)，和在所述使用阶段之后的清洁阶段期间，至少将所述污染区域(16)作为清洁信息(35)的一部分输出给清洁人员和/或用于操控成像装置(1)的至少一个清洁设备(11)，以用于有针对性地清洁所述污染区域(16)。性地清洁所述污染区域(16)。性地清洁所述污染区域(16)。
【技术实现步骤摘要】
运行成像装置的清洁系统的方法、成像装置和计算机程序
[0001]本专利技术涉及一种计算机实现的用于运行医学成像装置的清洁系统的方法，其中成像装置具有暴露于患者和/或操作人员的外部的、污染影响的使用表面。此外，本专利技术涉及一种成像装置、一种计算机程序和一种电子可读的数据载体。
技术介绍
[0002]在当今的临床和非临床实践中，例如在医院和/或放射中心中频繁使用大量不同的成像模态，例如X射线成像，在此尤其是计算机断层扫描成像和磁共振成像。相应的成像装置大多是较大的设施，在计算机断层扫描装置的情况下例如由具有在机架中引导的至少一个容纳装置的机架以及相应的可移动的检查床形成，而在磁共振装置中由包含基本场磁体的主磁体单元形成，所述主磁体单元限定了患者容纳部，患者同样能够借助于检查床被移动到所述患者容纳部中。对于这种类型的成像放射系统存在非常广泛的应用领域，所述应用领域从主要健康的人群的筛查延展至重病患者的检查。所述应用的多样性要求对成像装置进行适宜和有针对性的清洁和消毒，以便避免感染等的传播。尤其在流行病情况下，对成像装置进行消毒，例如在检查疑似病例之后进行消毒特别重要。这也适用于感染可能会有特别严重后果的高危患者。
[0003]在对成像系统进行消毒时的一个特别的困难之处在于适宜的程度的消毒和清洁。在例如在手术室中在干预治疗期间与患者直接接触的成像装置的情况下适用非常高的卫生要求。然而，在感染风险明显较低的成像装置的情况下的消毒过程要困难得多。为此，具体的应用示例例如是在放射科中的X射线装置，其中在白天期间检查例如有骨折或类似的内伤的大量患者。在此，感染风险显著更低，并且在用于对成像装置进行适宜的消毒的时间和材料耗费之间进行权衡明显更难。
[0004]负责卫生的人员或现场的卫生专业人士的任务是定义医学成像装置的准备(清洁和/或消毒)，例如创建卫生计划并且确保其实施。由于卫生标准，例如ISO 17664:2017标准，与患者直接接触的关键、半关键和非关键的医疗产品和医疗设备的制造商负责在使用说明中描述对于产品/设备的准备步骤的验证。然而，制造商仅有限地对卫生计划的内容和实施具有直接影响，以用于减少潜在风险或风险情况。
[0005]在卫生方面，存在感染风险被认为是可能涉及患者、医疗用户和第三方的潜在风险。当触碰表面时于是会产生风险情况。在存在活性病原体(风险)的情况下发生触碰越频繁，则发生感染的概率就会越高。
[0006]不同的规范基础，例如在罗伯特科赫研究所(RKI)的医院卫生和感染预防委员会(KRINKO)关于表面消毒主题的建议，使用所描述的基础相关性来对卫生相关的(或要清洁的和必要时要消毒的)表面进行分类。在此能够假设：在手术室或重症监护室中的人比例如在候诊室中人风险更大。
[0007]在成像装置中至今常用的方法在于，根据规范，例如卫生计划对表面，尤其是会与患者和/或操作人员接触的整个使用表面进行清洁和消毒。
[0008]特殊性也在如下情况下始终适用：即涉及狭窄的患者容纳部，例如在存在较小直径的磁共振装置中，使得在患者容纳部的壁和患者的面部之间仅存在很短的间距。如果患者打喷嚏或咳嗽，尤其是即使患者仅呼吸，这也可能会引起表面被气溶胶污染。这引起，通常必须清洁整个患者容纳部，然而，鉴于长度和小的直径，这可能是极其耗费和复杂的。
[0009]此外适用，在与成像装置的清洁和消毒相关的卫生计划中，通常也包括整个房间，甚至可能被清洁，因为清洁和/或消毒需求不明确。此外也没有关于清洁过程的反馈，时间耗费和其它耗费很大且与实际要求无关。此外，也不存在用于证明已经进行清洁的可能性。
技术实现思路
[0010]因此，本专利技术所基于的目的在于，提出一种与此相比改进的、尤其是与更小的耗费相关的和改进的清洁质量，以及提出一种用于对在医疗领域中的成像装置进行清洁和消毒的可选地也允许验证的可能性。
[0011]为了实现该目的，根据本专利技术提出一种根据本专利技术的实施例所述的方法、一种成像装置、一种计算机程序和一种电子可读的数据载体。在如下说明中得出有利的设计方案。
[0012]根据本专利技术，开始提及类型的方法因此包括以下步骤：
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在使用阶段期间，尤其对于患者的检查过程，记录检测使用表面的至少一部分的传感器装置的传感器数据，并且通过评估传感器数据确定具有使用表面的潜在污染区域的表面图，和
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在接着使用阶段后的清洁阶段期间，至少将污染区域作为清洁信息的一部分输出给清洁人员和/或用于操控成像装置的至少一个清洁设备，以用于有针对性地清洁污染区域。
[0015]因此，本专利技术能够实现在使用阶段之后，尤其是在涉及检查特定患者、即唯一患者的使用阶段之后准备医学成像装置的工作流程改进，使得例如能够在每个患者之后进行清洁或者至少评估：是否需要清洁和消毒，以为下一患者准备。在此，术语“检查过程”或“使用阶段”还能够包括在患者出现之前和/或之后操作人员与成像装置的交互。根据本专利技术，具体提出：借助于传感器装置/光学装置检测成像装置的暴露于潜在污染的使用表面的触碰的或通常的潜在污染的区域，并且随时间，具体而言在使用阶段内进行聚集。传感器装置的传感器在其整体上在此优选检测整个使用表面。优选的是，在此如所描述的那样，使用阶段包括单个患者的检查过程的持续时间以及操作人员与成像装置进行相关的交互的持续时间。对于清洁阶段能够激活清洁运行模式，这优选在使用阶段结束之后自动化进行，但是也可设想手动地进行，使得尤其也可行的是，用户，尤其是至少一个操作人员结束使用阶段并且开始清洁阶段。这将在下文更详细地解释。在清洁阶段中，使用表面的所检测到和聚集的污染区域，可选地连同附加信息，例如清洁指示，用作为要显示的清洁信息，以便使清洁人员清楚：何处需要清洁/消毒，和/或如果提供，甚至能够自动化地操控成像装置的清洁设备，以用于有针对性地清洁污染区域。这种清洁设备例如能够是UV辐照装置和/或用于消毒剂的分配装置和/或清洁机器人。
[0016]通过以传感器方式检测潜在污染区域(以下简称为“污染区域”)清楚的是，何处具体存在清洁和/或消毒需求，使得准备能够以实际需求为导向，由此能够避免不必要的高的时间、经济和/或工作耗费。换言之，在清洁阶段中能够实现适配于实际需求的、优化的清洁
过程。对成像装置包括其附件如局部线圈、支承垫等在内以及可选地对成像装置所处于的房间进行需要长时间的、彻底的清洁，如果它们不需要，同样能够被避免。
[0017]由于在医院和类似的设施中卫生要求的重要性增加，本专利技术提供了一种用于实现更高的清洁标准的更简单的可能性。在此提出的解决方案由于其更有针对性的、尤其是可更快执行的清洁过程，能够实现“更智能的清洁(Smarter Cleaning)”。代替表面的整体清洁，能够仔细地清洁所涉及的污染区域。操作人员和清洁人员由于需要清洁而产生的压力水平降低。此外，本专利技术也允许：降低患者在成像装置处与病原体接触的风险。
[0018]具体地，成像装置能够是X射线装置，尤其是计算机本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种计算机实现的用于运行医学成像装置(1)的清洁系统(24)的方法，其中所述成像装置(1)具有暴露于患者(6)和/或操作人员(15)的外部的、污染影响的使用表面，其特征在于，
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在使用阶段期间，尤其对于患者(6)的检查过程，记录检测所述使用表面的至少一部分的传感器装置(25)的传感器数据，并且通过评估所述传感器数据确定具有所述使用表面的潜在的污染区域(16)的表面图(36)，和
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在接着所述使用阶段后的清洁阶段期间，至少将所述污染区域(16)作为清洁信息(35)的一部分输出给清洁人员和/或用于操控成像装置(1)的至少一个清洁设备(11)，以用于有针对性地清洁所述污染区域(16)。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述成像装置(1)是X射线装置，尤其是计算机断层扫描装置，或磁共振装置，和/或所述成像装置具有带有患者容纳部(3)的壳体单元(2)，能够借助于检查床(5)将所述患者移入所述患者容纳部(3)中和/或能够通过移动所述壳体单元(2)将所述患者(6)带入所述患者容纳部(3)中，其中使用所述壳体单元(2)的和/或所述检查床(5)的表面的至少一部分作为使用表面。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述传感器装置(25)包括至少一个摄像机(9a、9b)，尤其是3D摄像机(9a、9b)，和/或至少一个麦克风(8)。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，为了在所述使用阶段期间通过评估所述摄像机(9a、9b)的传感器数据的图像处理算法确定所述表面图(36)，探测通过当前的患者(6)和/或当前的操作人员(15)对所述使用表面进行的触碰和/或与所述表面的气溶胶污染相关的气溶胶喷出过程，尤其是呼吸过程，其中将所述使用表面的被触碰的和/或与气溶胶喷出过程相关的区域标记为污染区域(16)。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，为了探测与所述使用表面的气溶胶污染相关的呼吸过程，执行头部跟踪，尤其是所述患者(6)的头部跟踪，其中根据头部尤其是面部与所述使用表面的间距和/或在头部位置中的停留时长来探测用于头部位置的相关的气溶胶污染。6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于，在用UV光、尤其是黑光和/或借助于也用作为清洁设备(11)的UV辐照装置(10)照射所述使用表面的至少一部分的情况下，记录所述摄像机(9a、9b)的传感器数据的至少一部分，其中在评估所述传感器数据时，将所述使用表面的在照射情况下发光的区域至少部分探测为受污染的。7.根据权利要求4至6中任一项所述的方法，其特征在于，至少一个摄像机(9a、9b)中的至少一个是红外摄像机，其中基于当前的图像与包含之前、尤其在最后的清洁阶段结束时记录的温度信息的至少一个比较图像之间的温差来探测触碰。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，除了触碰之外，在使用温差的情况下也探测在所述使用表面上体液的存在，其中也将所述使用表面的具有体液的区域标记为受污染的。9.根据权利要求3至8中任一项所述的方法，其特征在于，在至少一个摄像机(9a、9b)的视场中不存在人和附加的物体的情况下，尤其与比较图像一起，记录几何形状参考图像，所述几何形状参考图像描述了三维几何形状，所述三维几何形状尤其包括所述使用表面的三维变化曲线，其中通过形成所述几何参考图像与至少一个当前记录的图像的差分图像，尤
其探测遮盖所述使用表面的人和/或物体，并且在确定污染区域(16)时加以考虑。10.根据权利要求3至9中任一项所述的方法，其特征在于，在通过气溶胶污染算法进行传感器数据评估的过程中，通过探测在所述麦克风(8)的传感器...
【专利技术属性】
技术研发人员：托马斯，
申请(专利权)人：西门子医疗有限公司，
类型：发明
国别省市：
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