基于包含至少一个芳族取代基的含铋催化剂的涂料体系制造技术

本发明专利技术涉及一种涂料体系，其包含组分(A)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于包含至少一个芳族取代基的含铋催化剂的涂料体系
[0001]本专利技术涉及一种涂料体系，其包含组分(A)
‑
(C)以及任选的其他组分，其中在第一种选择中，所有组分(A)
‑
(C)以及存在的其他任选组分彼此分开存在，换言之，各组分不是彼此原样混合，而是仅在使用前混合。相反，在本专利技术的涂料体系的第二种选择中，上述组分也可以全部或至少部分地彼此混合。当组分至少部分地彼此混合时，这意味着例如组分(C)与组分(A)混合，而组分(B)与(A)和(C)的混合物分开存在。然而，任选地，组分(B)也可与一部分组分(C)混合。此外，(A)和(C)的混合物以及(B)和(C)的混合物可额外包含至少一种任选组分，例如溶剂。
[0002]组分(A)包含至少一种含多羟基的化合物，组分(B)包含至少一种含多异氰酸酯基的化合物。相反，组分(C)是至少一种如下所定义的通式(I)的含铋催化剂。可存在于本专利技术涂料体系中的其他组分包括例如含羟基的化合物(B)、涂料添加剂(F)、颜料(H)和/或溶剂(J)。
[0003]然后，本专利技术的另一主题是一种通过固化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种涂料体系，其包含组分(A)
‑
(C)：(A)至少一种含多羟基的化合物，(B)至少一种含多异氰酸酯基的化合物，和(C)至少一种通式(I)的含铋催化剂：((R1)
‑
)
x
((R2)
‑
)
y
((X)
‑
)
z
(Bi)
3+
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(I)其中变量定义如下：R1相互独立地为通式(II)的基团：且x为1、2或3；R2相互独立地为通式(III)的基团：且y为0、1或2；X相互独立地为羟基、卤素、碳酸根、碳酸氢根或R7，且z为0、1或2；其中x、y和z之和等于3；R3为未取代的或至少单取代的C1‑
C
30
烷基、C6‑
C
14
芳基或C7‑
C
30
芳烷基，其中取代基选自羟基、卤素、羧基、
‑
CF3、
‑
NH2、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C
30
烷基或C6‑
C
14
芳基，并且这些取代基的烷基和芳基片段又可被羟基、卤素、
‑
CF3、
‑
NH2或C1‑
C6烷氧基至少单取代，且其中直接键合到通式(III)的羧基的碳原子上的基团R3的碳原子不包含任何未取代的或至少单取代的C6‑
C
14
芳基作为取代基，R4、R5和R6相互独立地为未取代的或至少单取代的C1‑
C
30
烷基、C6‑
C
14
芳基或C7‑
C
30
芳烷基，其中取代基选自羟基、卤素、羧基、
‑
CF3、
‑
NH2、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C
30
烷基或C6‑
C
14
芳基，并且这些取代基的烷基和芳基片段又可被羟基、卤素、
‑
CF3、
‑
NH2或C1‑
C6烷氧基至少单取代，且其中基团R4、R5或R6中的至少一个为未取代的或至少单取代的C6‑
C
14
芳基，R7为未取代的或至少单取代的C1‑
C
30
烷基、C6‑
C
14
芳基或C7‑
C
30
芳烷基，其中取代基选自羟基、卤素、羧基、
‑
CF3、
‑
NH2、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C
30
烷基或C6‑
C
14
芳基，并且这些取代基的烷基和芳基片段又可被羟基、卤素、
‑
CF3、
‑
NH2或C1‑
C6烷氧基至少单取代，并且其中：i)组分(A)、(B)和(C)彼此分开存在，或ii)完全或至少部分地彼此混合。2.如权利要求1所述的涂料体系，其中在组分(C)的含铋催化剂中：i)R4、R5和R6相互独立地为未取代的或至少单取代的C1‑
C
12
烷基或C6‑
C
14
芳基，其中取代基选自羟基、氯、
‑
CF3和C1‑
C6烷基，
并且其中基团R4、R5或R6中的至少一个为未取代的或至少单取代的C6‑
C
14
芳基，和/或ii)R3为未取代的或至少单取代的C1‑
C
12
烷基，其中取代基选自羟基、氯或
‑
CF3，和/或iii)X为羟基、氯或R7，R7为未取代的或至少单取代的C1‑
C
12
烷基或C6‑
C
14
芳基，其中取代基选自羟基、氯、
‑
CF3和C1‑
C6烷基。3.如权利要求1或2所述的涂料体系，其中在组分(C)的含铋催化剂中：i)R4为未取代的或至少单取代的苯基，其中取代基选自羟基、氯、
‑
CF3和C1‑
C6烷基，ii)R5为未取代的或至少单取代的苯基或C1‑
C
12
烷基，其中取代基选自羟基、氯、
‑
CF3和C1‑
C6烷基，和iii)R6为未...

【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：巴斯夫涂料有限公司，
类型：发明
国别省市：