电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质技术方案

本申请涉及电容薄膜规技术领域，具体提供了电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质，应用在压力测量系统中，压力测量系统包括膜片、陶瓷基体、固定电极和多个第一测量电极，固定电极用于根据其与膜片的距离生成第一测量电容信息，第一测量电极圆周阵列在固定电极外侧，多个第一测量电极分别用于根据其与膜片的距离生成对应的第二测量电容信息，压力测量方法包括以下步骤：获取第一测量电容信息和第二测量电容信息；根据不同位置的第一测量电极生成的第二测量电容信息检测膜片形变是否均匀，并根据第一测量电容信息和若干个第二测量电容信息计算压力值；该方法能够实现自适应校正测量被测气体的压力值。适应校正测量被测气体的压力值。适应校正测量被测气体的压力值。

【技术实现步骤摘要】
电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质


[0001]本申请涉及电容薄膜规
，具体而言，涉及电容薄膜规、压力测量方法、系统、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]现有技术的电容薄膜规包括壳体、弹性元件（一般为金属膜片）、陶瓷基体和固定电极，膜片将壳体分为测量室和基准室，陶瓷基体设置在基准室内，固定电极设置在陶瓷基体靠近膜片的端面上，固定电极上形成的电容与固定电极到膜片的距离关联。电容薄膜规的工作原理为：向测量室通入被测气体，理想情况下或者等待足够长的时间后，被测气体混合均匀且气压稳定，由于测量室内的气体压力与基准室内的气体压力不同，弹性元件在压差作用下产生均匀的形变，从而导致固定电极上形成的电容的大小发生改变，通过固定电极上形成的电容的变化量即可计算到被测气体的压力值。电容薄膜规为水平安装时，在重力作用的影响下，膜片的形变不均匀，从而导致电容薄膜规测量的被测气体压力值不准确。虽然可以通过对膜片进行调零的方式减少外电极产生的电容误差，但在每次变换电容薄膜规的安装方位时，均需要对膜片进行调零，从而使电容薄膜规的安装使用不便。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种压力测量方法，用于电容薄膜规的气体压力测量，应用在压力测量系统中，所述压力测量系统包括膜片（1）、陶瓷基体（2）和固定电极（3），所述陶瓷基体（2）设置在所述膜片（1）的一侧，所述固定电极（3）设置在所述陶瓷基体（2）靠近所述膜片（1）的端面上，所述固定电极（3）用于根据其与所述膜片（1）的距离生成第一测量电容信息，其特征在于，所述压力测量系统还包括多个第一测量电极（4），所述多个第一测量电极（4）设置在所述陶瓷基体（2）上且圆周阵列在所述固定电极（3）外侧，所述多个第一测量电极（4）分别用于根据其与所述膜片（1）的距离生成对应的第二测量电容信息，所述压力测量方法包括以下步骤：获取所述第一测量电容信息和所述第二测量电容信息；根据不同位置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息检测所述膜片（1）形变是否均匀，并根据所述第一测量电容信息和若干个所述第二测量电容信息计算压力值。2.根据权利要求1所述的压力测量方法，其特征在于，所述第一测量电极（4）的数量为偶数，所述根据不同位置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息检测所述膜片（1）形变是否均匀，并根据所述第一测量电容信息和若干个所述第二测量电容信息计算压力值的步骤包括以下子步骤：将每组对称设置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息进行差分处理以生成多个第一差分结果；若所有所述第一差分结果均小于等于预设的均匀阈值，视所述膜片（1）形变均匀，根据任一所述第二测量电容信息和所述第一测量电容信息计算所述压力值；若任一所述第一差分结果大于所述均匀阈值，视所述膜片（1）形变不均匀，根据最大的所述第一差分结果对应的两个所述第二测量电容信息计算第一平均电容值，并根据所述第一平均电容值和所述第一测量电容信息计算所述压力值。3.根据权利要求1所述的压力测量方法，其特征在于，所述第一测量电极（4）的数量为偶数，所述根据不同位置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息检测所述膜片（1）形变是否均匀，并根据所述第一测量电容信息和若干个所述第二测量电容信息计算压力值的步骤包括以下子步骤：将每组对称设置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息进行差分处理以生成多个第二差分结果；若所有所述第二差分结果均小于等于预设的均匀阈值，视所述膜片（1）形变均匀，根据最小的所述第二差分结果对应的两个所述第二测量电容信息计算第二平均电容值，根据所述第二平均电容值和所述第一测量电容信息计算所述压力值；若任一所述第二差分结果大于所述均匀阈值，视所述膜片（1）形变不均匀，根据最大的所述第二差分结果对应的两个所述第二测量电容信息计算第三平均电容值，并根据所述第三平均电容值和所述第一测量电容信息计算所述压力值。4.根据权利要求1所述的压力测量方法，其特征在于，所述压力测量系统还包括多个第二测量电极（5），所述多个第二测量电极（5）圆周阵列地设置在所述第一测量电极（4）外侧，且所述第二测量电极（5）的数量与所述第一测量电极（4）的数量相同，并与所述第一测量电极（4）错位设置，所述多个第二测量电极（5）用于根据其与所述膜片（1）的距离生成对应的第三测量电容信息，所述第一测量电极（4）和所述第二测量电极（5）的数量均为偶数，所述
根据不同位置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息检测所述膜片（1）形变是否均匀，并根据所述第一测量电容信息和若干个所述第二测量电容信息计算压力值的步骤包括以下子步骤：将每组对称设置的所述第一测量电极（4）生成的所述第二测量电容信息进行差分处理以生成多个第三差分结果，将每组对称设置的所述第二测量电极（5）生成的所述第三测量电容信息进行差分处理以生成多个第四差分结果；若所有所述第三差分结果和所述第四差分结果均小于等于预设的均匀阈值，视所述膜片（1）形变均匀，根据任一所述第二测量电容信息和/或...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘乔，王凤双，侯少毅，黎天韵，肖永能，卫红，胡强，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：