镀膜产品及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种镀膜产品及其制备方法，包括工件以及设置在所述工件表面上的镀膜，所述镀膜包括沿远离所述工件表面的方向依次层叠的基层、过渡层以及颜色层，其中，所述过渡层的材质包括氮化铬硅，所述颜色层的材质包括氮化铬硅。本发明专利技术采用氮化铬硅作为颜色层，实现蓝黑色色彩效果的同时，颜色层中不含碳元素，因此在制备过程中也不会出现碳元素分布不均匀使膜层颜色不均匀的问题，基于此得到的镀膜色彩华丽且颜色均匀稳定；同时，通过设置氮化铬硅过渡层，大大提高了膜层间的结合力，增强了膜层硬度，使得镀膜耐磨性更好且性能更稳定。使得镀膜耐磨性更好且性能更稳定。使得镀膜耐磨性更好且性能更稳定。

【技术实现步骤摘要】
镀膜产品及其制备方法


[0001]本专利技术涉及电镀
，特别涉及一种镀膜产品及其制备方法。

技术介绍

[0002]PVD(Physical Vapor Deposition)是指物理气相沉积，具体是指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD操作时可选取不同的金属蒸发，电离成电子态，利用电偏压将离子引领到工件上，沉积成薄膜。在离子沉积到工件前，也可与其他离子作出反应结合，生成复合式薄膜，在硬度、光亮度、摩擦系数、颜色等发生变化。PVD膜层赋予了产品表面金属质感和丰富的颜色，并能改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命，已广泛应用到手机壳、钟表、五金3C行业装饰镀。
[0003]蓝黑色工艺被广泛应用到传统装饰镀的五金、首饰、钟表等方面，特别是近几年，3C电子产品手机外壳等方面蓝黑色PVD镀膜深受欢迎。目前，通常采用以氮气和乙炔为工作气体，TiAL靶溅射形成TiALCN镀层的处理方法，来获得色彩鲜艳、华丽的蓝黑色效果。但这种方法存在镀膜颜色稳定性差的缺陷。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的是提出一种镀膜产品及其制备方法，旨在解决现有蓝黑色镀膜颜色稳定性差的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提出一种镀膜产品，包括工件以及设置在所述工件表面上的镀膜，所述镀膜包括沿远离所述工件表面的方向依次层叠的基层、过渡层以及颜色层，其中，所述过渡层的材质包括氮化铬硅，所述颜色层的材质包括氮化铬硅。
[0006]可选地，所述颜色层具有由L值、a值以及b值所定义的颜色，其中，37＞L＞40，
‑
1.5＞a＞
‑
0.5，
‑
1＞b＞
‑
3。
[0007]可选地，所述镀膜包括多个所述过渡层。
[0008]可选地，所述镀膜的厚度为2～3μm。
[0009]此外，本专利技术还提出一种镀膜产品的制备方法，所述镀膜产品的制备方法包括以下步骤：
[0010]提供工件；
[0011]在真空环境中，采用铬靶，在工件的表面沉积基层；
[0012]在氮气气氛中，采用硅靶和铬靶，在所述基层的表面沉积过渡层；
[0013]持续开启硅靶和铬靶并调低所述铬靶的靶电流，在氮气气氛中，在所述过渡层的表面沉积颜色层。
[0014]可选地，在氮气气氛中，采用硅靶和铬靶，在所述基层的表面沉积过渡层的步骤中，所述铬靶的靶电流为15～20A。
[0015]可选地，在氮气气氛中，采用硅靶和铬靶，在所述基层的表面沉积过渡层的步骤中，沉积时间为10～15min；和/或，
[0016]所述镀膜包括多个所述过渡层，沉积多个所述过渡层的总时长为50～60min。
[0017]可选地，持续开启硅靶和铬靶并调低所述铬靶的靶电流，在氮气气氛中，在所述过渡层的表面沉积颜色层的步骤中，沉积时间为10～15min。
[0018]可选地，在真空环境中，采用铬靶，在工件的表面沉积基层的步骤中，加载的偏压为200～300V，加载时间为3～5min。
[0019]可选地，提供工件的步骤之后，在真空环境中，采用铬靶，在工件的表面沉积基层的步骤之前，还包括：
[0020]对所述工件的表面进行离子清洗，且所述离子清洗时，加载的偏压为400～600V，所述离子清洗的时间为5～10min。
[0021]本专利技术提供的技术方案中，采用氮化铬硅作为颜色层，实现蓝黑色色彩效果的同时，颜色层中不含碳元素，因此在制备过程中也不会出现碳元素分布不均匀使膜层颜色不均匀的问题，基于此得到的镀膜色彩华丽且颜色均匀稳定；同时，通过设置氮化铬硅过渡层，大大提高了膜层间的结合力，增强了膜层硬度，使得镀膜耐磨性更好且性能更稳定。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅为本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0023]图1为本专利技术提出的镀膜产品的一实施例的结构示意图；
[0024]图2为本专利技术提出的镀膜产品的制备方法的一实施例的流程示意图。
[0025]附图标号说明：
[0026]标号名称标号名称1工件3过渡层2基层4颜色层
[0027]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0028]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0029]需要说明的是，实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。此外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0030]PVD(Physical Vapor Deposition)是指物理气相沉积，具体是指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。PVD操作时可选取不同的金属蒸发，
电离成电子态，利用电偏压将离子引领到工件上，沉积成薄膜。在离子沉积到工件前，也可与其他离子作出反应结合，生成复合式薄膜，在硬度、光亮度、摩擦系数、颜色等发生变化。PVD膜层赋予了产品表面金属质感和丰富的颜色，并能改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命，已广泛应用到手机壳、钟表、五金3C行业装饰镀。
[0031]蓝黑色工艺被广泛应用到传统装饰镀的五金、首饰、钟表等方面，特别是近几年，3C电子产品手机外壳等方面蓝黑色PVD镀膜深受欢迎。目前，通常采用以氮气和乙炔为工作气体，TiAL靶溅射形成TiALCN镀层的处理方法，来获得色彩鲜艳、华丽的蓝黑色效果。但这种方法存在镀膜颜色稳定性差的缺陷。
[0032]鉴于此，本专利技术提出一种镀膜产品，所述镀膜产品包括工件1以及设置在所述工件1表面上的镀膜，其中，所述工件1可以是手机壳、钟表、五金、首饰等，工件1的材质可以是不锈钢、铜、铁、锌合金等。所述镀膜成型在工件1表面，并呈现出蓝黑色的华丽效果，且颜色均匀稳定，且镀膜耐磨性好、硬度高。图1为本专利技术提出的镀膜的具体实施例。
[0033]参阅图1，所述镀膜包括工件1以及设置在所述工件1表面上的镀膜，所述镀膜包括沿远离所述工件1表面的方向依次层叠的基层2、过渡层3以及颜色层4，其中，所述过渡层3的材质包括氮化铬硅，所述颜色层4的材质包括氮化铬硅。
[0034]本专利技术提供的技术方案中，采用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜产品，其特征在于，包括工件以及设置在所述工件表面上的镀膜，所述镀膜包括沿远离所述工件表面的方向依次层叠的基层、过渡层以及颜色层，其中，所述过渡层的材质包括氮化铬硅，所述颜色层的材质包括氮化铬硅。2.如权利要求1所述的镀膜产品，其特征在于，所述颜色层具有由L值、a值以及b值所定义的颜色，其中，37＞L＞40，
‑
1.5＞a＞
‑
0.5，
‑
1＞b＞
‑
3。3.如权利要求1所述的镀膜产品，其特征在于，所述镀膜包括多个所述过渡层。4.如权利要求1所述的镀膜产品，其特征在于，所述镀膜的厚度为2～3μm。5.一种镀膜产品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供工件；在真空环境中，采用铬靶，在工件的表面沉积基层；在氮气气氛中，采用硅靶和铬靶，在所述基层的表面沉积过渡层；持续开启硅靶和铬靶并调低所述铬靶的靶电流，在氮气气氛中，在所述过渡层的表面沉积颜色层。6.如权利要求1所述的镀膜产品的制备方法，其特征在于，在氮...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺建强，王建强，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：