充电底座及安装有该充电底座的清洁装置制造方法及图纸

技术编号:33577847 阅读:28 留言:0更新日期:2022-05-26 23:34
本实用新型专利技术涉及一种充电底座及安装有该充电底座的清洁装置。该充电底座通过在本体上安装一挡水板,将喷嘴喷射的清洁液先喷射至挡水板的接水部,然后沿接水部流向清洁区,用于滚刷的清洁。通过这样的设置,使得喷嘴喷出的清洁液无需直接喷向滚刷,而且先经过挡水板的接水部,再流动至清洁区。如此,便可通过观察挡水板上接水部处的清洁液流动情况,直观的判断喷嘴的喷射效果。如果当在清洁液充足且不进行调整的情况下喷射的清洁液量有所减小,则可及时得出喷嘴出现堵塞或者输送清洁液的管道出现堵塞,从而便于对其进行维修。从而便于对其进行维修。从而便于对其进行维修。

【技术实现步骤摘要】
充电底座及安装有该充电底座的清洁装置


[0001]本技术涉及清洁工具
,特别是涉及充电底座及安装有该充电底座的清洁装置。

技术介绍

[0002]吸尘器或清洁拖把中,主要包括干式和干湿两用这两种结构。以干湿两用的吸尘器为例,其主要包括有设置有滚刷的清洁头,滚刷在电机的驱动下能够绕自身轴线转动,以擦拭清洁平面。同时,在清洁头内设置于喷嘴,当该吸尘器放置在充电底座上时,能够利用喷嘴将清洁液喷洒在滚刷上,以便于滚刷转动进行自清洁。然后在这个清洁过程中,无法直观了解到喷嘴的喷水效果,特别是发生堵塞时也不易被察觉,从而影响清洁效果。

技术实现思路

[0003]基于此,有必要针对现有技术中用于清洁滚刷时无法量化喷水效果,从而在堵塞时不便察觉,影响清洁效果的技术问题,提供一种清洁装置的充电底座。
[0004]一种充电底座,所述充电底座与清洁本体适配,所述清洁本体包括:清洁头,所述清洁头包括滚刷和安装于所述滚刷上方的喷嘴;所述充电底座包括:本体,具有充电区和设置于所述充电区至少一侧的清洁区,所述清洁区用于清洁所述滚刷,所述充电区用于充电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种充电底座,其特征在于,所述充电底座与清洁本体适配,所述清洁本体(200)包括:清洁头,所述清洁头包括滚刷(210)和安装于所述滚刷(210)上方的喷嘴(220);所述充电底座(100)包括:本体(10),具有充电区(102)和设置于所述充电区(102)至少一侧的清洁区(101),所述清洁区(101)用于清洁所述滚刷(210),所述充电区(102)用于充电;挡水板(20),安装于所述本体(10)上,所述挡水板(20)构造有接水部(201),所述清洁本体(200)放置至所述充电底座(100)上时,所述接水部(201)用于承接所述喷嘴(220)喷射的清洁液,并输送至所述清洁区(101),以对位于所述清洁区(101)的所述滚刷(210)进行清洗。2.根据权利要求1所述的充电底座,其特征在于,所述挡水板(20)朝向所述清洁区(101)的一侧设置有沿自身厚度方向凹陷、且呈敞口的凹腔(21),所述凹腔(21)形成所述接水部(201);优选地,所述凹腔(21)沿竖直方向的高度占所述凹腔(21)沿所述滚刷(210)轴向的长度的45%

65%。3.根据权利要求2所述的充电底座,其特征在于,所述凹腔(21)构造有导流斜面(211),所述导流斜面(211)沿所述凹腔(21)的凹陷方向倾斜向上设置;优选地,所述导流斜面(211)的倾斜末端构造有止水面(212);所述止水面(212)呈竖直平面设置,或,所述止水面(212)沿所述凹腔(21)的凹陷方向倾斜向下设置。4.根据权利要求3所述的充电底座,其特征在于,所述导流斜面(211)和所述止水面(212)中至少一者贴附有柔性垫;或,所述导流斜面(211)和所述止水面(212)中至少一者构造有网格结构;优选地,所述柔性垫的厚度在2mm

4mm之间;再优选地,所述柔性垫采用吸水海绵,且所述吸水海绵的气孔密度在55ppi

65ppi之间;更优选地,所述网格结构中每个格子的面积在0.9cm2‑
1.5cm2之间。5.根据权利要求3所述的充电底座,其特征在于,所述凹腔(21)具有用于所述喷嘴(220)喷射的第一极限位置和第二极限位置,且所述第一极限位置位于所述第二极限位置上方;所述第一极限位置位于所述止水面(212)的中部,所述第二极限位置位于所述导流斜面(211)的中部;优选地,所述止水面(212)与所述第一极限位置的喷射线之间的夹角在109度

110度之间,所述导...

【专利技术属性】
技术研发人员:王志强钱国祥罗岩
申请(专利权)人:莱克电气股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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