一种长方片清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种长方片清洗机，属于晶片加工技术领域，包括底板，所述底板的顶部四角处均固定安装有立柱，几个所述立柱的顶部固定安装有清洗舱，所述清洗舱的内侧固定安装有若干个晶片放置组件，所述清洗舱的内侧活动设置有推板，所述推板上且于每个晶片放置组件的对应位置均开设有贯穿孔，所述底板上还设置有水循环组件，通过设置晶片放置组件和水循环组件，水泵将清洗舱的内侧的水抽出，杂质随着水被水泵输送过滤舱的内侧，当冲洗水到达过滤舱的内侧后，会通过过滤网回落至清洗舱的内侧，并落至推板的上方，杂质被过滤网过滤在过滤舱的内侧，从而达到分离水和杂质的效果，避免杂质重新附着到长方体表面的问题。免杂质重新附着到长方体表面的问题。免杂质重新附着到长方体表面的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种长方片清洗机


[0001]本技术涉及晶片加工
，更具体地说，它涉及一种长方片清洗机。

技术介绍

[0002]长方晶片是硅晶片的一种，由硅锭加工而成的，通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管，被广泛应用于集成电路的制造，长方片在制造的过程中，表面会沾染上很多杂质，需要进行清洗。
[0003]现有的长方片清洗机在使用时还是存在一定的问题，例如现有的长方片清洗机在清洗时，无法将清洗后的杂质过滤出来，杂质掺杂在水中，很容易重新附着到长方体的表面。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种长方片清洗机，其具有的特点能够使得水和杂质分离。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：
[0006]一种长方片清洗机，包括底板，所述底板的顶部四角处均固定安装有立柱，几个所述立柱的顶部固定安装有清洗舱，所述清洗舱的内侧固定安装有若干个晶片放置组件，所述清洗舱的内侧活动设置有推板，所述推板上且于每个晶片放置组件的对应位置均开设有贯穿孔，所述底板上还设置有水循环组件，所述晶片放置组件包括支腿和清洗罩，所述支腿固定安装于清洗舱的内侧底面，所述清洗罩固定安装于支腿的顶部，所述支腿内侧为中空结构，所述清洗罩的顶部固定安装有顶部框架，所述清洗罩的顶部四角处且于顶部框架的内侧固定安装有套柱，所述清洗罩的顶部通过套柱可拆卸安装有封盖。
[0007]通过采用上述技术方案，水循环组件和推板工作可以过滤清洗后的水。
[0008]进一步地，所述清洗舱的内侧底面四角处均固定安装有凸块，几个所述凸块的顶部均固定安装有圆柱，所述推板活动套接于几个圆柱之间，所述圆柱的外侧且于推板和凸块之间活动套接有弹簧。
[0009]通过采用上述技术方案，清洗舱内侧推板上方的水越来越多，水的重力向下按压推板，使得推板受到水的压力向下移动，推板向下移动的过程中会挤压弹簧，使得弹簧形变产生弹力。
[0010]进一步地，所述水循环组件包括水泵，所述水泵固定安装于底板的上表面，所述清洗舱的底部设置有出水口，所述水泵的进水端固定连接有出水管，所述出水管远离水泵的一端和出水口固定连接，所述水泵的出水端固定连接有水管，所述清洗舱的上表面固定安装有支架，所述支架的顶端固定安装有过滤舱，所述水管远离水泵的一端和过滤舱固定连接，所述过滤舱的底部开设有回水口，所述回水口的内侧固定安装有过滤网。
[0011]通过采用上述技术方案，水泵将清洗舱的内侧的水抽出，杂质随着水被水泵输送过滤舱的内侧，当冲洗水到达过滤舱的内侧后，会通过过滤网回落至清洗舱的内侧，并落至
推板的上方，杂质被过滤网过滤在过滤舱的内侧，从而达到分离水和杂质的效果。
[0012]进一步地，所述清洗罩的底部均开设有漏孔，所述支腿的底部开设有两个底部贯穿槽，所述底部贯穿槽的高度和凸块的高度一致。
[0013]通过采用上述技术方案，清洗水可以通过漏孔从清洗罩的内侧脱离。
[0014]进一步地，所述圆柱的顶部固定安装有防脱结构，所述推板的上表面开设有贯穿槽，所述推板上且于贯穿槽的内侧可拆卸安装有密封塞。
[0015]通过采用上述技术方案，清洗舱内侧推板下方的水被抽出干净后，可以将密封塞从贯穿槽的内侧取出，使得推板上方的水通过贯穿槽回落至清洗舱内侧推板的下方，随着推板上方的水量减少。
[0016]综上所述，本技术具有以下有益效果：
[0017]1、通过设置晶片放置组件和水循环组件，水泵将清洗舱的内侧的水抽出，杂质随着水被水泵输送过滤舱的内侧，当冲洗水到达过滤舱的内侧后，会通过过滤网回落至清洗舱的内侧，并落至推板的上方，杂质被过滤网过滤在过滤舱的内侧，从而达到分离水和杂质的效果，避免杂质重新附着到长方体表面的问题。
[0018]2、通过设置水循环组件和推板，水泵抽取清洗舱内侧的水的过程中，清洗舱内侧推板上方的水越来越多，水的重力向下按压推板，使得推板受到水的压力向下移动，推板向下移动的过程中会挤压弹簧，使得弹簧形变产生弹力，使得被过滤后的水和未被过滤的水被推板隔离。
附图说明
[0019]图1为本技术的整体结构示意图；
[0020]图2为本技术的整体结构剖视图；
[0021]图3为本技术中晶片放置组件结构爆炸图；
[0022]图4为本技术图2中A处放大图。
[0023]图中：
[0024]1、底板；2、立柱；3、清洗舱；4、推板；5、过滤舱；6、水管；7、支架；8、密封塞；9、水泵；10、出水口；11、过滤网；12、支腿；13、出水管；15、封盖；16、套柱；17、顶部框架；18、清洗罩；19、底部贯穿槽；20、防脱结构；21、凸块；22、圆柱；23、弹簧。
具体实施方式
[0025]实施例：
[0026]以下结合附图1
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4对本技术作进一步详细说明。
[0027]请参阅图1
‑
4，本技术提供一种技术方案：一种长方片清洗机，如图1
‑
4所示，一种长方片清洗机，包括底板1，底板1的顶部四角处均固定安装有立柱2，几个立柱2的顶部固定安装有清洗舱3，清洗舱3的内侧固定安装有若干个晶片放置组件，清洗舱3的内侧活动设置有推板4，推板4上且于每个晶片放置组件的对应位置均开设有贯穿孔，底板1上还设置有水循环组件，晶片放置组件包括支腿12和清洗罩18，支腿12固定安装于清洗舱3的内侧底面，清洗罩18固定安装于支腿12的顶部，支腿12内侧为中空结构，清洗罩18的顶部固定安装有顶部框架17，清洗罩18的顶部四角处且于顶部框架17的内侧固定安装有套柱16，清洗罩
18的顶部通过套柱16可拆卸安装有封盖15，清洗舱3的内侧底面四角处均固定安装有凸块21，几个凸块21的顶部均固定安装有圆柱22，推板4活动套接于几个圆柱22之间，圆柱22的外侧且于推板4和凸块21之间活动套接有弹簧23，清洗罩18的底部均开设有漏孔，支腿12的底部开设有两个底部贯穿槽19，底部贯穿槽19的高度和凸块21的高度一致，圆柱22的顶部固定安装有防脱结构20，推板4的上表面开设有贯穿槽，推板4上且于贯穿槽的内侧可拆卸安装有密封塞8。
[0028]本实施例中，清洗舱3的内侧且于推板4的下方装载有清洗水，将需要清洗的多个长方片分别放置在几个清洗罩18的内侧，在清洗舱3的内侧进行清洗，清洗时，长方片表面的杂质脱离，并通过漏孔排出至清洗罩18的外侧，清洗完成后启动水泵9，使得水泵9将清洗舱3的内侧的水抽出，杂质随着水被水泵9输送过滤舱5的内侧，当冲洗水到达过滤舱5的内侧后，会通过过滤网11回落至清洗舱3的内侧，并落至推板4的上方，杂质被过滤网11过滤在过滤舱5的内侧，从而达到分离水和杂质的效果。
[0029]如图1
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4所示，水循环组件包括水泵9，水泵9固定安装于底板1的上表面，清洗舱3的底部设置有出水口10，水泵本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种长方片清洗机，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的顶部四角处均固定安装有立柱(2)，几个所述立柱(2)的顶部固定安装有清洗舱(3)，所述清洗舱(3)的内侧固定安装有若干个晶片放置组件，所述清洗舱(3)的内侧活动设置有推板(4)，所述推板(4)上且于每个晶片放置组件的对应位置均开设有贯穿孔，所述底板(1)上还设置有水循环组件。2.根据权利要求1所述的一种长方片清洗机，其特征在于：所述晶片放置组件包括支腿(12)和清洗罩(18)，所述支腿(12)固定安装于清洗舱(3)的内侧底面，所述清洗罩(18)固定安装于支腿(12)的顶部，所述支腿(12)内侧为中空结构，所述清洗罩(18)的顶部固定安装有顶部框架(17)，所述清洗罩(18)的顶部四角处且于顶部框架(17)的内侧固定安装有套柱(16)，所述清洗罩(18)的顶部通过套柱(16)可拆卸安装有封盖(15)。3.根据权利要求2所述的一种长方片清洗机，其特征在于：所述清洗舱(3)的内侧底面四角处均固定安装有凸块(21)，几个所述凸块(21)的顶部均固定安装有圆柱(22)，所述推板(4)活动套接于几个圆柱(22)之间，所述圆柱(22)的外侧且于推...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗吉如，
申请(专利权)人：深圳市晶迅捷科技有限公司，
类型：新型
国别省市：