【技术实现步骤摘要】
一种连续退火炉用下料机构
[0001]本技术涉及连续退火炉
,尤其涉及一种连续退火炉用下料机构。
技术介绍
[0002]退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。
[0003]现有技术中,连续退火炉在下料时,需要人工将盛满的落料桶进行移动更换,由于落料桶盛满时,重量较重,使得更换速度较慢,从而需要将下料口关闭进行移动,从而导致落料口内的物料堆积,容易造成堵塞,且物料蜂拥流出时,容易落在落料桶的外侧,从而使得现有的下料机构的实用性较差。
技术实现思路
[0004] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种连续退火炉用下料机构,包括下料结构(1),其特征在于:所述下料结构(1)包括连续退火炉本体(11),所述连续退火炉本体(11)的一侧固定连接有下料口(12),所述连续退火炉本体(11)的一侧设置有支撑端架(13),所述支撑端架(13)内环面的两侧均开设有滑动内槽(110),所述滑动内槽(110)的内部设置有移动结构(2),所述移动结构(2)包括滑动卡块(21),所述滑动卡块(21)的后侧滑动卡接在滑动内槽(110)的内部,所述滑动内槽(110)内设置滑动卡块(21)的数量为两个,两个所述滑动内槽(110)之间固定连接有连接中杆(23),所述支撑端架(13)的一侧开设有伸缩杆安装槽(111),所述伸缩杆安装槽(111)的内部固定连接有单向液压缸(27),所述单向液压缸(27)的输出端与滑动卡块(21)的一侧固定连接,相对两个所述滑动卡块(21)之间设置有落料桶(16),所述落料桶(16)的两侧均设置有支撑侧耳(17),所述支撑侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:张蕾蕾,许志丹,葛荣,
申请(专利权)人:南京年达智能装备科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。