一种波长可调的宽光谱光电器件制造技术

技术编号:33542663 阅读:26 留言:0更新日期:2022-05-21 09:54
本发明专利技术公开了一种波长可调的宽光谱光电器件,主要包括:由(1)~(5)构成的基本结构。(1)是硅层,位于结构上部,是光线的入射面;(2)是β

【技术实现步骤摘要】
一种波长可调的宽光谱光电器件


[0001]本专利技术涉及一种波长可调的宽光谱光电器件。

技术介绍

[0002]宽光谱光电器件是现代信息社会必不可少的元件之一。它能适应现代社会中对信息探测和处理的要求,能适应环境保护的要求。结构简单、易于制造、体积小,使用方便是宽光谱光电器件应该具备的特性之一。本器件结构简单、制造工艺兼容现代集成电路工艺、不污染环境,易于大规模生产和使用,能完成现代信息社会对信息处理的要求。
[0003]硅(Si)是现代硅基集成电路技术中必需的材料,其光学吸收系数高,仅需1μm厚度就可以吸收几乎全部太阳光;室温时的禁带宽度是1.12eV。二硅化铁(β

FeSi2)是环境友好型半导体材料,其光学吸收系数更高,吸收太阳光的最佳厚度范围是0.2μm

0.3μm,室温时的禁带宽度是通常认为是0.86eV,其制备工艺与现代硅基集成电路工艺兼容。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种宽光谱光电器件,从而能够完成信息处理的要求,结构简单,使用现有的集成电路工艺可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种波长可调的宽光谱光电器件,主要包括:由(1)~(5)构成的基本结构。(1)是硅层,位于结构上部,是光线的入射面;(2)是β

FeSi2层,位于结构中部;(3)是硅层,位于结构下部,是光线的出射面;(4)是上表面金属电极,与硅层形成欧姆接触;(5)是下表面金属电极,与硅层形成欧姆接触;(4)的面积占(1)面积的一小部分,保证足够的光线入射;(5)的面积占(3)面积的一部分,允许部分光线射出,或者占全...

【专利技术属性】
技术研发人员:熊锡成李敏
申请(专利权)人:河南工程学院
类型:发明
国别省市:

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