电磁环境分析系统、电磁环境分析方法、及存储介质技术方案

在本发明专利技术的电磁环境分析系统中，区划设定部设定在图像中形成与测定值相关的信息的显示范围的多个区划。区划判定部基于位置信息判定多个区划中的与各测定值的测定位置对应的区划。显示信息确定部基于与区划对应的测定值确定与区划的显示相关的信息。再设定判定部判定是否再设定多个区划。在再设定判定部判定为再设定多个区划的情况下，区划设定部将形成显示范围的多个区划从多个第一区划再设定为各自的大小与第一区划的大小不同的多个第二区划。显示信息确定部确定与第二区划的显示相关的信息。的信息。的信息。

【技术实现步骤摘要】
电磁环境分析系统、电磁环境分析方法、及存储介质


[0001]本专利技术涉及电磁环境分析系统、电磁环境分析方法、及存储介质。

技术介绍

[0002]已知有分析电磁环境的装置。例如，特开2013
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238581号公报公开有一种装置，获取与电磁环境相关的测定值，并显示与测定值相关的信息。该装置使与获取的测定值相关的信息与区分了显示范围的多个区划相对应，并按照每个区划显示与测定值相关的信息。

技术实现思路

[0003]电磁环境的分析在各种用途中进行。例如，在电子设备的EMC(electro magnetic compatibility)试验中，分析从设备的哪里产生了电磁波。在专利文献1记载的装置中，通过使传感器移动测定从被测定对象物产生的信号。测定到的测定值根据测定测定值的位置，与区分显示部的显示范围的多个区划分别相关联。测定结果通过基于每个区划的测定值的颜色来表示。
[0004]区分显示范围的多个区划的大小越大，与测定值相关的信息的显示的分辨率越低。如果显示的分辨率低，则不能得到与局部的电磁环境相关的信息。在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电磁环境分析系统，其中，具备：测定信息获取部，其获取与电磁环境相关的多个测定值；位置信息获取部，其获取与测定了各所述测定值的测定位置相关的位置信息；以及图像制作部，其在与各所述测定值的所述测定位置相对应的位置制作显示与所述测定值相关的信息的图像，所述图像制作部包含：区划设定部，其设定在所述图像中形成与所述测定值相关的信息的显示范围的多个区划；区划判定部，其基于所述位置信息，判定所述多个区划中的与所述各测定值的所述测定位置对应的所述区划；显示信息确定部，其基于与所述区划对应的所述测定值，确定与所述区划的显示相关的信息；以及再设定判定部，其判定是否再设定所述多个区划，在所述再设定判定部判定为再设定所述多个区划的情况下，所述区划设定部将形成所述显示范围的多个区划从多个第一区划再设定为各自的大小与所述第一区划的大小不同的多个第二区划，所述显示信息确定部确定与所述第二区划的显示相关的信息。2.根据权利要求1所述的电磁环境分析系统，其中，各所述第二区划的大小比各所述第一区划的大小小。3.根据权利要求1或2所述的电磁环境分析系统，其中，在所述再设定判定部判定为再设定所述多个区划的情况下，所述区划判定部基于所述位置信息判定所述多个第二区划中的与所述各测定值的所述测定位置对应的所述第二区划，所述显示信息确定部基于与所述第二区划对应的所述测定值，确定与所述第二区划的显示相关的信息。4.根据权利要求1～3中任一项所述的电磁环境分析系统，其中，所述再设定判定部在满足多个条件中的至少一个的情况下，判定为再设定所述多个区划，在满足所述多个条件中的第一条件的情况下，所述区划设定部所再设定的各所述第二区划的大小比在满足所述多个条件中的第二条件的情况下，所述区划设定部所再设定的各所述第二区划的大小小。5.根据权利要求4所述的电磁环境分析系统，其中，所述第二条件是在满足所述第一条件前满足的条件。6.根据权利要求1～5中任一项所述的电磁环境分析系统，其中，还具备：储存部，其储存定义了根据相互不同的数来区分所述显示范围的情况下的各所述区划的结构的多个区划定义表，所述区划设定部基于所述多个区划定义表，设定所述多个区划。7.根据权利要求1～6中任一项所述的电磁环境分析系统，其中，
所述再设定判定部根据用户的输入操作，判定为再设定所述多个区划。8.根据权利要求1～7中任一项所述的电磁环境分析系统，其中，所述再设定判定部在与所述测定值对应的所述区划的数超过规定数的情况下，判定为再...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤俊弥，林达也，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：