【技术实现步骤摘要】
图像传感器及深度成像系统
[0001]本专利技术涉及图像
,特别是涉及深度成像
,具体为一种图像传感器及深度成像系统。
技术介绍
[0002]深度成像系统一般可以探测成像物体(空间)的三维成像信息,又被称为3D成像系统。深度成像系统通常由:光源发射模块、三维感光模块、光学镜头和图像处理芯片等组成。根据测量原理不同,主流的深度成像系统一般分为以下几种方法:飞行时间法、结构光法、双目立体视觉法。
[0003]飞行时间(Time of Flight,TOF)的测距原理是通过连续发射经过调制的特定频率的光脉冲(一般为不可见光)到被观测物体上,然后接收从物体反射回去的光脉冲,通过探测光脉冲的飞行(往返)时间来计算被测物体离成像系统的距离。
[0004]结构光法(structured light)的光投射器使用具有特定模式的图案(比如离散光斑、条纹光、编码结构光等),将特定模式的图案投影到三维空间物体表面上,使用三维感光模块观察在三维物体表面成像的畸变情况。如果被测物体表面起伏不平,三维感光模块观察到的结构光 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种图像传感器,其特征在于:所述图像传感器包括:负电极层,形成于驱动层中;N区层,对应形成于所述负电极层表面,包含由半导体材料形成的若干圆柱状结构;光吸收层,对应形成于所述N区层表面,所述光吸收层由多层结构组成,至少包含由量子点半导体材料形成的P区层;正电极层,对应形成于所述光吸收层表面,接收入射光束。2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于:所述P区层包括:第一P区层,对应形成于所述N区层表面;第二P区层,掺杂浓度高于所述第一P区层的掺杂浓度,对应形成于所述第一P区层表面。3.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于:所述第一P区层由量子点半导体材料形成,所述第二P区层由有机半导体材料或无机化合物形成;或者所述第一P区层由有机半导体材料或无机化合物形成,所述第二P区层量子点半导体材料形成;或者所述第一P区层和所述第二P区层均由量子点半导体材料形成。4.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于:所述光吸收层包括还包括:I区层,对应形成于所述N区层表面;所述P区层对应形成于所述I区层表面。5.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于:所述光吸收层包括:第三P区层,对应形成于所述N区层表面;I区层,对应形成于所述第三P区层表面;第四P区层,掺杂浓度高于所述第三P区层的掺杂浓度,对应形成于所述I区层表面。6.根据权利要求5所述的图像传感器,其特征在于:所述第三P区层由量子点半导体材料形成,所述第四P区层由有机半导体材料或无机化合物形成;或者所述第三P区层...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐华兵,倪强,王刚,陈楚毅,郑发耀,徐达,刘明佩,
申请(专利权)人:瑞芯微电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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