法线贴图生成方法、设备、电子设备及存储介质技术

本申请提供的一种法线贴图生成方法、设备、电子设备及存储介质，包括：获取参考模型的参考模型数据，根据参考模型数据进行光栅化处理，得到渲染数据；将渲染数据输入光线生成着色器确定出光线追踪像素，确定光线追踪像素的采样点信息，根据采样点信息及渲染数据生成光线信息；根据光线信息发射光线，判断光线是否命中工作模型；响应于命中工作模型，确定命中点的法向量，对法向量进行转换后生成法线贴图。本申请通过光栅化后得到渲染数据作为光线生成的信息，利用光线追踪的相关技术及方式生成法线及法线贴图，从而利用光线追踪技术加速了法线烘焙计算，极大的提高了整体计算速度，提高了法线贴图的制作效率。提高了法线贴图的制作效率。提高了法线贴图的制作效率。

【技术实现步骤摘要】
法线贴图生成方法、设备、电子设备及存储介质


[0001]本申请涉及模型制作
，尤其涉及一种法线贴图生成方法、设备、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]在计算机技术迅速发展的背景下，通过建模软件建立虚拟模型成为很多产品制作必不可少的步骤。例如，在进行游戏制作时，需要通过建模软件建立很多三维模型，进而通过对三维模型进行组合形成游戏的虚拟场景。
[0003]在进行模型的实时渲染中，法线是决定表面渲染的重要属性。传统的法线烘焙一般使用中央处理器(CPU，central processing unit)计算。随着模型构造复杂程度的增加，通过CPU进行烘焙的方式通常比较耗时，产生的计算消耗也会增加，因此现有虚拟模型的表现中还缺少一种有效提升烘焙效率的方法。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请提出一种法线贴图生成方法、设备、电子设备及存储介质，进而至少在一定程度上改善现有技术在进行法线烘焙时耗时过大、效率过低的问题。
[0005]基于上述目的，本申请提供了一种法线贴图生成方法，包括：<br/>[0006]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种法线贴图生成方法，其特征在于，包括：获取参考模型的参考模型数据，根据所述参考模型数据进行光栅化处理，得到渲染数据；将所述渲染数据输入光线生成着色器确定出光线追踪像素，确定所述光线追踪像素的采样点信息，根据所述采样点信息及所述渲染数据生成光线信息；根据所述光线信息发射光线，判断所述光线是否命中工作模型；响应于命中所述工作模型，确定命中点的法向量，对所述法向量进行转换后生成法线贴图。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述参考模型数据进行光栅化处理，得到渲染数据，包括：将所述参考模型数据的顶点坐标数据映射至标准化设备坐标空间，生成顶点位置数据；根据所述顶点位置数据、所述参考模型数据的法线数据和切线数据进行光栅化处理，将光栅化处理后的数据作为所述渲染数据。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定所述光线追踪像素的采样点信息，包括：获取采样点数量信息，根据霍尔顿序列在所述光线追踪像素上随机生成与所述采样点数量信息对应数量的采样点，生成所述采样点信息。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述采样点信息及所述渲染数据生成光线信息，包括：根据所述采样点信息选取一个所述采样点，计算该采样点的坐标信息，根据所述坐标信息在所述渲染数据中确定对应的顶点信息及法线信息，将所述顶点信息对应位置作为光线发射点，将所述法线信息记录的法线向量的逆方向作为光线发射方向，生成所述光线信息。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述将所述顶点信息对应位置作为光线发射点之后，还包括：获取发射点偏移值，将所述发射点偏移值计算入所述光线发射点之中。6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述光线信息发射光线，包括：按照所述采样点数量...

【专利技术属性】
技术研发人员：王凯，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：