调色剂制造技术

本发明专利技术涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒，该调色剂颗粒包含粘结剂树脂，其中调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物，在调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱中，源自有机硅化合物的缩合产物的硅离子的归一化强度为7.00

【技术实现步骤摘要】
调色剂


[0001]本公开涉及在利用电子照相法、静电记录法、或调色剂喷射系统记录法的记录方法中使用的调色剂。

技术介绍

[0002]在复印机、多功能设备和打印机中已经采用了通过静电潜像使图像信息可视化的方法，例如电子照相法；近年来，在实现降低成本和提高图像品质方面对此类方法提出了进一步的要求。
[0003]在该情况下，对调色剂要求潜像的忠实再现。为了提供潜像的忠实再现，调色剂带电的精确控制是有效的。调色剂带电的不充分控制导致缺陷例如，尤其是其中低带电的调色剂在非图像区域显影的起雾，和其中过度带电的调色剂融合至调色剂承载构件的不良控制，这些是妨碍潜像的忠实再现的因素。
[0004]迄今为止，作为调色剂带电方法，已经广泛研究其中通过调色剂和载体或充电构件(以下统称为充电构件)之间的摩擦赋予调色剂电荷的摩擦带电。
[0005]然而，因为充电构件和调色剂之间的摩擦不能以均匀的方式发生，因此摩擦带电会产生过度带电的调色剂和低带电的调色剂。发生该情况是因为仅在调色剂和充电构件相接触的那些区域中才产生通过摩擦带电的电荷。
[0006]此外，摩擦带电非常容易受湿度的影响，带电量在低湿度环境和高湿度环境中会有所不同。此外，由于摩擦带电受调色剂流动性的影响很大，当由于例如长期使用导致调色剂劣化时，当流动性下降时，带电量会变化。
[0007]为了解决摩擦带电过程中的这些问题，已经进行了注入带电过程(injection charging process)的研究。注入带电过程是通过由于调色剂和充电构件之间的电位差而注入电荷而使调色剂带电的过程。
[0008]在该情况下，如果导电路径存在于调色剂中和调色剂与调色剂之间，则可以使调色剂整体均匀地带电，而不是仅使与充电构件接触的那些区域带电。
[0009]此外，由于当存在注入带电时，可以通过改变电位差来任意地控制带电量，于是可以容易地满足系统所要求的带电量。此外，由于注入带电耐受湿度的影响，因此环境引起的带电量的变化可以得到抑制。
[0010]然而，注入带电过程的问题是难以实现电荷注入和电荷保持之间的共存。发生该情况是因为在调色剂中和调色剂与调色剂之间导电路径的存在使注入的电荷容易泄露，结果电荷注入性(charge injection capability)和电荷保持性(charge retention capability)存在折衷关系。
[0011]日本专利申请公开2005
‑
148409公开了在高电压下体积电阻率降低的调色剂，并且公开了使用该调色剂的注入带电过程。该专利文献中描述的过程的目的是，通过在使调色剂的体积电阻率降低的高电压下对调色剂仅进行电荷注入过程来消除电荷注入性和电荷保持性之间的折衷。
[0012]从另一观点来看，日本专利申请公开2019
‑
133145公开了一种调色剂，其中调色剂基础颗粒的表面被覆有金属细颗粒和有机硅化合物，以实现带电特性的控制和耐久性二者。

技术实现思路

[0013]关于日本专利申请公开2005
‑
148409，因为为了通过电荷注入过程实现注入带电而在该过程中需要高电压而导致促进放电，所以带电量的精确控制存在问题。此外，由于其它过程需要在较低的电压下完成，因此该过程的电压设置的设计自由度低。
[0014]日本专利申请公开2019
‑
133145中公开的调色剂在常规摩擦带电过程中表现出优异的带电上升性能，同时该调色剂不太可能引起构件污染，并且具有优异的耐久性。
[0015]另一方面，将电荷注入调色剂基础颗粒内部的手段很少，因此电荷容易保持在调色剂颗粒的表面。因此，电荷容易通过调色剂颗粒表面的金属细颗粒泄漏，电荷保持性变得不充分；因此需要改善以便在注入带电过程中采用。
[0016]根据前述内容，尚未获得在注入带电过程中在电荷注入性和电荷保持性之间实现高度共存的调色剂，并且需要进一步改善。
[0017]本公开提供一种调色剂，其通过在注入带电过程中提供电荷注入性和电荷保持性之间的共存而能够进行精确的带电控制并且具有实现高图像品质的能力。
[0018]本公开涉及一种调色剂，其包括调色剂颗粒，该调色剂颗粒包含粘结剂树脂，
[0019]其中调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物，
[0020]在调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱TOF
‑
SIMS中，
[0021]源自有机硅化合物的缩合产物的由下式(I)给出的硅离子(m/z 28)的归一化强度(normalized intensity)为7.00
×
10
‑4以上且3.00
×
10
‑2以下；
[0022]硅离子(m/z 28)归一化强度＝{硅离子(m/z 28)的离子强度}/{m/z为0.5至1850的总离子强度}...(I)，
[0023]在以下条件(A)下通过Ar气体团簇离子束Ar
‑
GCIB溅射调色剂颗粒后的通过飞行时间二次离子质谱的硅离子(m/z 28)的归一化强度为6.99
×
10
‑4以下；
[0024](A)加速电压：5kV，电流：6.5nA，光栅尺寸：600
×
600μm，照射时间：5sec/周期，溅射时间：250sec，
[0025]调色剂包括在调色剂颗粒的表面的细颗粒，并且
[0026]细颗粒具有选自由作为包含Ti和Al元素中的至少一种的化合物与多元酸的反应产物的多元酸金属盐细颗粒、钛酸锶细颗粒、氧化钛细颗粒和氧化铝细颗粒组成的组中的至少一种。
[0027]本公开提供一种调色剂，其通过在注入带电过程中提供电荷注入性和电荷保持性之间的共存而能够进行精确的带电控制并且具有实现高图像品质的能力。
[0028]从以下示例性实施方案的描述中，本专利技术的进一步特征将变得显而易见。
具体实施方式
[0029]除非另有说明，否则在本专利技术中，数值范围的描述例如“XX以上且YY以下”或“XX～YY”包括该数值范围的上限和下限的数值。
[0030]在分阶段描述数值范围的情况下，各数值范围的上限和下限可以任意地组合。
[0031]为了使调色剂表现出高度的注入带电适用性，重要的是电荷的转移应该仅在注入带电过程中发生，并且电荷的转移不应发生在任何其它过程中。本专利技术人推测，为了使调色剂表现出上述特性，在注入带电过程中不仅可以在调色剂表面附近而且可以在调色剂内部注入电荷，并且电荷从调色剂表面附近的泄漏不太可能出现在除注入带电过程之外的过程中是必要的。
[0032]作为深入研究的结果，本专利技术人发现，具有以下构成的调色剂可以在注入带电过程中实现电荷的注入和电荷的保持二者。
[0033]换言之，本公开涉及一种调色剂，其包括调色剂颗粒，该调色剂颗粒包含粘结剂树脂，
[0034]其中调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种调色剂，其包括调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含粘结剂树脂，其特征在于，所述调色剂颗粒包含有机硅化合物的缩合产物，在所述调色剂颗粒的飞行时间二次离子质谱TOF
‑
SIMS中，源自所述有机硅化合物的缩合产物的由下式(I)给出的m/z为28的硅离子的归一化强度为7.00
×
10
‑4至3.00
×
10
‑2；m/z为28的硅离子的归一化强度＝{m/z为28的硅离子的离子强度}/{m/z为0.5至1850的总离子强度}...(I)，在以下条件(A)下通过Ar气体团簇离子束Ar
‑
GCIB溅射所述调色剂颗粒后的通过飞行时间二次离子质谱的m/z为28的硅离子的归一化强度为6.99
×
10
‑4以下；(A)加速电压：5kV，电流：6.5nA，光栅尺寸：600
×
600μm，照射时间：5sec/周期，溅射时间：250sec，所述调色剂包括在所述调色剂颗粒的表面的细颗粒，并且所述细颗粒具有选自由作为包含Ti和Al元素中的至少一种的化合物与多元酸的反应产物的多元酸金属盐细颗粒、钛酸锶细颗粒、氧化钛细颗粒和氧化铝细颗粒组成的组中的至少一种。2.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述调色剂颗粒的m/z为28的硅离子的归一化强度为7.00
×
10
‑4至8.00
×
10
‑3，和在所述条件(A)下溅射所述调色剂颗粒后的通过飞行时间二次离子质谱的m/z为28的硅离子的归一化强度为6.00
×
10
‑4以下。3.根据权利要求1或2所述的调色剂，其中所述细颗粒是作为包含Ti和Al元...

【专利技术属性】
技术研发人员：琴谷昇平，见目敬，丰泉悟崇，盐足吉彬，井上真由美，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：