处理系统和输送方法技术方案

本发明专利技术提供一种处理系统和输送方法，涉及能够高效地更换处理室内的消耗部件的技术。处理系统包括：内部能够安装消耗部件的腔室；用于收纳消耗部件的收纳模块；检测消耗部件的位置的位置检测传感器；能够与腔室和收纳模块连接的真空输送模块，其具有在腔室与收纳模块之间输送消耗部件的输送机械手；和控制部，其构成为执行：步骤(a)，控制输送机械手，将安装于腔室的消耗部件输送到收纳模块；步骤(b)，利用位置检测传感器检测向收纳模块输送的消耗部件的位置；和步骤(c)，控制输送机械手，基于步骤(b)中检测出的消耗部件的位置，从收纳模块将与消耗部件不同的新的消耗部件在进行位置修正的基础上输送到腔室。修正的基础上输送到腔室。修正的基础上输送到腔室。

【技术实现步骤摘要】
处理系统和输送方法


[0001]本专利技术涉及处理系统和输送方法。

技术介绍

[0002]已知一种用于更换在实施等离子体处理的处理室内以包围基片周围的方式配置的聚焦环的技术(例如，参照专利文献1～3)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2012
‑
216614号公报
[0006]专利文献2：日本特开2018
‑
010992号公报
[0007]专利文献3：日本特开2011
‑
054933号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]本专利技术提供一种能够高效地更换处理室内的消耗部件的技术。
[0010]解决问题的技术手段
[0011]本专利技术的一个实施方式的处理系统包括：内部能够安装消耗部件的腔室；用于收纳所述消耗部件的收纳模块；检测所述消耗部件的位置的位置检测传感器；能够与所述腔室和所述收纳模块连接的真空输送模块，其具有在所述腔室与所述收纳模块之间输送所述消耗部件的输送机械手；和控制部，所述控制部构成为执行以下步骤：步骤(a)，控制所述输送机械手，将安装于所述腔室的所述消耗部件输送到所述收纳模块；步骤(b)，利用所述位置检测传感器检测向所述收纳模块输送的所述消耗部件的位置；和步骤(c)，控制所述输送机械手，基于所述步骤(b)中检测出的所述消耗部件的位置，从所述收纳模块将与所述消耗部件不同的新的消耗部件在进行位置修正的基础上输送到所述腔室。
[0012]专利技术效果
[0013]采用本专利技术，能够高效地更换处理室内的消耗部件。
附图说明
[0014]图1是表示实施方式的处理系统之一例的图。
[0015]图2是表示处理模块之一例的概略截面图。
[0016]图3是表示收纳模块之一例的正视截面图。
[0017]图4是表示收纳模块之一例的侧视截面图。
[0018]图5是用于说明每个处理模块的基准位置的图。
[0019]图6是表示实施方式的边缘环的输送方法之一例的图。
[0020]图7是表示实施方式的边缘环的收纳方法之一例的图。
[0021]图8是表示收纳模块的设置例的概略图。
[0022]图9是表示安装在输送机械手的叉件上的位置检测传感器的图。
具体实施方式
[0023]下面参照附图对本专利技术的非限定性的例示的实施方式进行说明。在所有附图中，对相同或对应的部件或消耗部件标注相同或对应的附图标记，并省略重复的说明。
[0024][处理系统][0025]参照图1对实施方式的处理系统之一例进行说明。如图1所示，处理系统PS是能够对基片实施等离子体处理等各种处理的系统。基片例如可以为半导体晶圆。
[0026]处理系统PS包括真空输送模块TM1、TM2，处理模块PM1～PM12，装载互锁模块LL1、LL2，大气输送模块LM和收纳模块SM等。
[0027]真空输送模块TM1、TM2分别在俯视时具有大致四边形形状。真空输送模块TM1在相对的2个侧面连接有处理模块PM1～PM6。在真空输送模块TM1的另外的相对的2个侧面之中，在一个侧面连接有装载互锁模块LL1、LL2，在另一个侧面连接有用于与真空输送模块TM2连接的路径(未图示)。真空输送模块TM1的与装载互锁模块LL1、LL2连接的侧面按照2个装载互锁模块LL1、LL2相应地带有角度。真空输送模块TM2在相对的2个侧面连接有处理模块PM7～PM12。在真空输送模块TM2的另外的相对的2个侧面之中，在一个侧面连接有用于与真空输送模块TM1连接的路径(未图示)，在另一个侧面连接有收纳模块SM。真空输送模块TM1、TM2具有真空室，内部分别配置有输送机械手TR1、TR2。
[0028]输送机械手TR1、TR2构成为可回旋、伸缩、升降。输送机械手TR1、TR2通过将基片载置在配置于前端的叉件上，在装载互锁模块LL1、LL2与处理模块PM1～PM12之间输送基片。输送机械手TR1、TR2将消耗部件载置在叉件上，在处理模块PM1～PM12与收纳模块SM之间输送消耗部件。消耗部件是可更换地安装在处理模块PM1～PM12内的部件，是由于在处理模块PM1～PM12内进行等离子体处理等各种处理而被消耗的部件。消耗部件例如包括后述的边缘环113、覆盖环114、上部电极12的顶板121。
[0029]处理模块PM1～PM12具有处理室，并具有配置于其内部的载置台(stage)。处理模块PM1～PM12在将基片载置于载置台后，将内部减压并导入处理气体，并且施加RF电力来生成等离子体，利用等离子体对基片实施等离子体处理。真空输送模块TM1、TM2与处理模块PM1～PM12由可开闭的闸阀G1隔开。在载置台上配置有边缘环113、覆盖环114等。在与载置台相对的上部配置有用于施加RF电力的上部电极12。
[0030]装载互锁模块LL1、LL2配置在真空输送模块TM1与大气输送模块LM之间。装载互锁模块LL1、LL2具有内部能够切换为真空、大气压的内压可变室。装载互锁模块LL1、LL2具有配置于内部的载置台。装载互锁模块LL1、LL2在将基片从大气输送模块LM搬入到真空输送模块TM1时，将内部维持为大气压，从大气输送模块LM接收基片，然后将内部减压，再将基片搬入到真空输送模块TM1。装载互锁模块LL1、LL2在将基片从真空输送模块TM1向大气输送模块LM搬出时，将内部维持为真空，从真空输送模块TM1接收基片，然后将内部升压至大气压，再将基片搬入到大气输送模块LM。装载互锁模块LL1、LL2与真空输送模块TM1由可开闭的闸阀G2隔开。装载互锁模块LL1、LL2与大气输送模块LM由可开闭的闸阀G3隔开。
[0031]大气输送模块LM与真空输送模块TM1相对配置。大气输送模块LM例如可以是EFEM(Equipment Front End Module：设备前端模块)。大气输送模块LM为长方体形状，设置有
FFU(Fan Filter Unit：风机过滤单元)，是保持为大气压气氛的大气输送室。在大气输送模块LM的沿着长度方向的一个侧面，与2个装载互锁模块LL1、LL2连接。在大气输送模块LM的沿着长度方向的另一侧面连接有装载口LP1～LP5。在装载口LP1～LP5载置有收纳多个(例如25片)基片的容器(未图示)。容器例如可以是FOUP(Front
‑
Opening Unified Pod：前开式晶圆盒)。大气输送模块LM内配置有输送基片的输送机械手(未图示)。输送机械手在FOUP内与装载互锁模块LL1、LL2的内压可变室内之间输送基片。
[0032]收纳模块SM以可拆装的方式与真空输送模块TM2连接。收纳模块SM具有收纳室，其中收纳消耗部件。收纳模块SM例如在要更换处理模块PM1～PM12内的消耗部件时与真空输送模块TM2连接，在消耗部件更换完成后从真空输送模块TM2拆下。由此，能够本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理系统，其特征在于，包括：内部能够安装消耗部件的腔室；用于收纳所述消耗部件的收纳模块；检测所述消耗部件的位置的位置检测传感器；能够与所述腔室和所述收纳模块连接的真空输送模块，其具有在所述腔室与所述收纳模块之间输送所述消耗部件的输送机械手；和控制部，所述控制部构成为执行以下步骤：步骤(a)，控制所述输送机械手，将安装于所述腔室的所述消耗部件输送到所述收纳模块；步骤(b)，利用所述位置检测传感器检测向所述收纳模块输送的所述消耗部件的位置；和步骤(c)，控制所述输送机械手，基于所述步骤(b)中检测出的所述消耗部件的位置，从所述收纳模块将与所述消耗部件不同的新的消耗部件在进行位置修正的基础上输送到所述腔室。2.如权利要求1所述的处理系统，其特征在于：所述控制部构成为在所述消耗部件被安装到所述腔室之后且在所述腔室的内部进行处理之前执行所述步骤(a)。3.如权利要求1或2所述的处理系统，其特征在于：所述收纳模块相对于所述真空输送模块可拆装。4.如权利要求3所述的处理系统，其特征在于：所述控制部构成为在所述收纳模块被连接到所述真空输送模块之后且在所述腔室的内部进行处理之前执行所述步骤(a)。5.如权利要求1～4中任一项所述的处理系统，其特征在于：所述收纳模块具有用于对内部进行减压的排气口，所述控制部构成为还执行步骤(d)，其中，在经由所述排气口对所述收纳模块的内部进行减压，使所述收纳模块的内部的压力小于所述真空输送模块的内部的压力的状态下，使所述收纳模块内与所述真空输送模块内连通。6.如权利要求1～5中任一项所述的处理系统，其特征在于：所述位置检测传感器检测所述消耗部件的水平位置。7.如权利要求1～6中任一项所述的处理系统，其特征在于：所述收纳模块能够在上下方向上有间隔地收纳多个所述消耗部件，所述控制部构成为还执行步骤(e)，其中，在所述步骤(c)之前，将原本在所述腔室的内部使用的所述消耗部件收纳到比收纳于所述收纳模块的内部的所述新的消耗部件靠下方的位置。8.如权利要求1～7中任一项所述的处理系统，其特征在于：所述消耗部件具有圆环形状，所述位置检测传感器包括：检测所述消耗部件的内周的位置...

【专利技术属性】
技术研发人员：网仓纪彦，北正知，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：