畸变像差校正处理装置、畸变像差校正方法及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种畸变像差校正处理装置，其即使在摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面倾斜的状态下也能够高精度地进行畸变像差校正。在存储部中存储有摄像装置的像面上的被从基准点放射状延伸的多个边界线划分的多个区段各自的表示用于校正像面上的坐标的坐标校正率与距基准点的距离之间的关系的畸变像差校正信息。处理部根据校正对象部位在像面内的坐标从多个区段中选择至少一个区段，并根据所选择的区段的畸变像差校正信息及从基准点至校正对象部位为止的距离来确定坐标校正率，并且根据所确定的坐标校正率来对校正对象部位的坐标进行校正。位的坐标进行校正。位的坐标进行校正。

【技术实现步骤摘要】
畸变像差校正处理装置、畸变像差校正方法及存储介质
[0001]本申请主张基于2020年10月26日申请的日本专利申请第2020
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178944号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考而援用于本说明书中。


[0002]本专利技术涉及一种畸变像差校正处理装置、畸变像差校正方法及存储介质。

技术介绍

[0003]在使油墨从喷墨头滴落于对象物上从而进行描绘的喷墨装置、使激光束入射到对象物上从而进行钻孔加工的激光加工装置及使激光束入射到作为对象物的半导体基板上从而进行退火的激光退火装置等中，检测设置于对象物上的对准标记来进行对象物的定位。此时，通过对拍摄有对准标记的图像进行图像处理来检测对准标记的位置。
[0004]为了高精度地检测对准标记的位置，优选对透镜的畸变像差进行校正(例如，下述专利文献1)。在专利文献1中公开的畸变像差校正方法中，设定五维的多项校正式作为将从像面的原点至畸变后的像为止的距离(像高)调整为畸变前的距离的函数。使用该多项校正式，将畸变后的距离校正为畸变前的距离。
[0005]专利文献1：日本特开2001
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133223号公报
[0006]若摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面倾斜，则根据以像面的原点为中心的周向上的位置，应校正畸变的量会发生变化。然而，在专利文献1中公开的校正方法中，仅通过距像面的原点的距离来进行畸变的校正，因此无法在摄像装置的光轴倾斜的状态下高精度地进行畸变像差的校正。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种即使在摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面倾斜的状态下也能够高精度地进行畸变像差校正的畸变像差校正处理装置、畸变像差校正方法及存储介质。
[0008]根据本专利技术的一观点，提供一种畸变像差校正处理装置，其具备：
[0009]存储部，存储有摄像装置的像面上的被从基准点放射状延伸的多个边界线划分的多个区段各自的畸变像差校正信息，所述畸变像差校正信息表示用于校正所述像面上的坐标的坐标校正率与距所述基准点的距离之间的关系；及
[0010]处理部，根据校正对象部位在所述像面内的坐标从所述多个区段中选择至少一个区段，并根据所选择的区段的所述畸变像差校正信息及从所述基准点至所述校正对象部位为止的距离来确定坐标校正率，并且根据所确定的坐标校正率来校正所述校正对象部位的坐标。
[0011]根据本专利技术的另一观点，提供一种畸变像差校正方法，其具备如下步骤：
[0012]使用摄像装置来拍摄测定对象物，其中，所述摄像装置的像面内的被从基准点放射状延伸的多个边界线划分的多个区段各自的畸变像差校正信息已知，所述畸变像差校正
信息表示用于校正图像内的坐标的坐标校正率与距所述基准点的距离之间的关系，
[0013]确定所述像面内的要进行坐标校正的校正对象部位，
[0014]根据所述校正对象部位在所述像面内的位置从所述多个区段中选择至少一个区段，
[0015]根据所选择的区段的所述畸变像差校正信息及从所述基准点至所述校正对象部位为止的距离来确定坐标校正率，
[0016]根据所确定的坐标校正率来校正所述校正对象部位的坐标。
[0017]根据本专利技术的又一观点，提供一种存储介质，其存储有程序，所述程序被计算机执行以执行如下步骤：
[0018]获取使用摄像装置来拍摄的测定对象物的图像，其中，所述摄像装置的像面内的被从基准点放射状延伸的多个边界线划分的多个区段各自的畸变像差校正信息已知，所述畸变像差校正信息表示用于校正图像内的坐标的坐标校正率与距所述基准点的距离之间的关系；
[0019]从使用所述摄像装置拍摄的图像中确定要进行校正的校正对象部位；
[0020]根据所述校正对象部位在所述像面内的坐标从所述多个区段中选择至少一个区段；
[0021]根据所选择的区段的所述畸变像差校正信息及从所述基准点至所述校正对象部位为止的距离来确定坐标校正率；及
[0022]根据所确定的坐标校正率来校正所述校正对象部位的坐标。
[0023]通过将像面划分为多个区段并使用针对各个区段设定的畸变像差校正信息来进行畸变的校正，即使在摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面倾斜的状态下也能够高精度地进行畸变像差校正。
附图说明
[0024]图1是基于实施例的畸变像差校正处理装置的框图。
[0025]图2是表示畸变像差校正信息的内容的图。
[0026]图3是用于说明对校正对象部位在像面内的坐标进行校正的方法的图表。
[0027]图4是表示对校正对象部位在像面内的坐标进行校正的步骤的流程图。
[0028]图5中(A)是表示使用远心透镜拍摄矩阵状排列的多个标记而获得的像的分布的图，图5中(B)是表示使用本实施例的方法从标记的像的坐标计算出的标记的校正后的坐标的图。
[0029]图6中(A)及(B)分别是表示摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面垂直的情况下的假设没有畸变像差时及假设有畸变像差时的像面内的标记的像的图，图6中(C)是标绘了针对像面的对角线方向的x方向上的坐标校正率D
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与距像面的中心点的距离r之间的关系的图表。
[0030]图7中(A)及(B)分别是表示摄像装置的光轴相对于测定对象物的表面倾斜的情况下的假设没有畸变像差时及假设有畸变像差时的像面内的标记的像的图，图7中(C)是在不区分像面的四个对角线方向的情况下标绘了针对像面的对角线方向的x方向上的坐标校正率D
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与距像面的中心点的距离r之间的关系的图表，图7中(D)是区分区段Q1～Q4而标绘了
针对像面的对角线方向的x方向上的坐标校正率D
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与距像面的中心点的距离r之间的关系的图表。
[0031]图8中(A)是基于另一实施例的喷墨描绘装置的概略主视图，图8中(B)是表示可动工作台、油墨吐出单元及摄像装置的俯视观察时的位置关系的图。
[0032]图9是表示使用喷墨描绘装置进行描绘的步骤的流程图。
[0033]图中：10
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畸变像差校正处理装置，11
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输入/输出接口部，12
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处理部，13
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存储部，14
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程序，15
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畸变像差校正信息，20
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喷墨描绘装置，22
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基座，23
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支承部件，24
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移动机构，24X
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X方向移动机构，24Y
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Y方向移动机构，25
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可动工作台，30
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油墨吐出单元，32
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喷嘴，40
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摄像装置，41
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摄像装置的像面，50
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控制装置，80
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基板，81
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对准标记。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种畸变像差校正处理装置，其特征在于，具备：存储部，存储有摄像装置的像面上的被从基准点放射状延伸的多个边界线划分的多个区段各自的畸变像差校正信息，所述畸变像差校正信息表示用于校正所述像面上的坐标的坐标校正率与距所述基准点的距离之间的关系；及处理部，根据校正对象部位在所述像面内的坐标从所述多个区段中选择至少一个区段，并根据所选择的区段的所述畸变像差校正信息及从所述基准点至所述校正对象部位为止的距离来确定坐标校正率，并且根据所确定的坐标校正率来校正所述校正对象部位的坐标。2.根据权利要求1所述的畸变像差校正处理装置，其特征在于，所述像面的形状为正方形或长方形，所述基准点位于所述像面的中心，所述多个边界线为连接所述像面的中心与四个边的中点的四个线段。3.根据权利要求1或2所述的畸变像差校正处理装置，其特征在于，所述处理部在校正所述校正对象部位的坐标的处理中，选择所述多个边界线中的与从所述基准点朝向所述校正对象部位的方向所呈角度最小的边界线两侧的两个区段，根据从所述基准点朝向所选择的两个区段各自的几何中心的方向与从所述基准点朝向所述校正对象部位的方向所呈角度，对所选择的两个区段的所述畸变像差校正信息的坐标校正率进行加权平均，并且根据加权平均的坐标校正率来校正所述校正对象部位的坐标。4.一种畸变像差校正方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷内华菜，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：