【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】测试干涉仪的衍射光学元件
[0001]本申请要求2019年8月21日的德国专利申请10 2019 212 520.4的优先权。该专利申请的全部公开内容通过引用并入本申请中。
技术介绍
[0002]本专利技术涉及一种用于测量光学表面的形状的测试干涉仪的衍射光学元件，涉及这种类型的测试干涉仪、涉及用于校准衍射光学元件的校准方法，涉及用于测量光学表面的形状的测量方法，并且涉及用于制造衍射光学元件的方法。
[0003]例如，微光刻用于制造诸如集成电路或LCD的微结构部件。在包括照明装置和投射镜头的被称为投射曝光设备的设备中实行微光刻过程。在为EUV范围设计的投影镜头中，其操作的波长范围低于100nm，例如在近似13.5nm或近似6.8nm处，反射镜用作成像过程的光学部件。反射镜表面的高准确度测试是在测试干涉仪中实行的，特别是其中使用计算机生成的全息图(CGH)形式的衍射光学元件来使测试波适配于待测试的反射镜表面的目标形状。
[0004]实际上，在测试反射镜表面的背景下，需要可靠地将待确定的表面缺陷与典型地存在于CGH中的制造缺陷进行区...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于测量光学表面的形状的测试干涉仪的衍射光学元件，包括：
‑
衍射形状测量结构，布置在所述衍射光学元件的使用表面上，并且被配置为在所述衍射光学元件布置在所述测试干涉仪中时生成用于照射待测量的光学表面的测试波，以及
‑
至少一个测试场，被配置为用于测量包含在所述测试场中的测试结构的多个轮廓性质，其中，所述轮廓性质表征相对于所述使用表面横向延伸的所述测试结构的轮廓线并且包括所述测试结构的轮廓线的侧翼角、所述测试结构的轮廓深度、和在所述测试结构的沟槽形状的轮廓的底部区域中出现的微沟槽的深度，并且其中，所述测试场布置在所述使用表面的一个位置处，而不是所述衍射形状测量结构，使得所述测试场由多个所述衍射形状测量结构围绕。2.根据权利要求1所述的衍射光学元件，其中，至少十个测试场在各个情况下布置在所述使用表面的多个位置处，而不是所述衍射形状测量结构，使得相应测试场由多个所述衍射形状测量结构围绕。3.根据权利要求2所述的衍射光学元件，其中，所述测试场中的至少一些具有规则的布置。4.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构和所述形状测量结构各自具有沿所述使用表面延伸的结构图案和相对于所述使用表面横向延伸的轮廓线并且由至少一种轮廓性质来表征，其中，所述测试结构的结构图案被配置为使得与所述形状测量结构的轮廓性质的测量期间可实现的其他测量准确度相比，提高了在所述测试结构的轮廓性质的测量期间可实现的测量准确度。5.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，相应测试场的不同测试结构的结构图案被配置为用于测量所述测试结构的不同轮廓性质。6.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构的结构图案被配置为用于通过衍射测量站的测量。7.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构的结构图案被配置为用于通过扫描探针显微镜的测量。8.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构的结构图案被配置为用于通过衍射测量站的测量和通过扫描探针显微镜的测量二者。9.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构的结构图案具有周期性重复且相同取向的边缘，其中所述边缘的周期低于用可见光操作的衍射测量站的分辨率。10.根据权利要求9所述的衍射光学元件，其中，所述测试场各自包括其他测试结构，所述其他测试结构具有同样周期性地重复和相同取向的边缘，其中所述其他测试结构的边缘相对于所述第一测试结构的边缘横向地取向。11.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试结构具有周期性布置的二维结构。
12.根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学单元，其中，所述测试场包括非结构化测试场区段，其中，所述衍射光学元件至少在所述非结构化测试场区段的区域中具有抗反射涂层。13.一种用于测量光学表面的形状的测试干涉仪，包括：
‑
根据前述权利要求中任一项所述的衍射光学元件，和
‑
干涉术模块，用于在由所述衍射形状测量结构生成的测...
【专利技术属性】
技术研发人员：A温克勒，M谢德，HM斯蒂潘，J赫茨勒，F埃泽特，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。