可变透射孔制造技术

提供了一种用于以光谱方法分析样品的光谱测定系统。所述系统包括：用于与所述样品相互作用的激发源；用于检测所述样品吸收或发射的至少一部分光的检测器，所述激发源和检测器经由光路光学耦合；以及位于所述光路中的孔，所述孔用于限制光从所述激发源到所述检测器的透射，其中所述孔被配置成具有一个或多个几何特征的空间变化分布，所述几何特征在所述孔的边缘周围提供可变透射区域。还提供了一种与光谱测定系统一起使用的掩模，所述掩模被配置成位于激发源和检测器之间的光路中，其中所述掩模具有一个或多个几何特征的空间变化分布，所述几何特征在所述孔的边缘周围提供可变透射区域。还提供了一种用于限制经由光谱测定系统中的孔从激发源到检测器的光通过量的方法。统中的孔从激发源到检测器的光通过量的方法。统中的孔从激发源到检测器的光通过量的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】可变透射孔
相关申请的交叉引用
[0001]本申请要求于2019年9月24日提交的申请号为2019903559的澳大利亚申请的优先权，该申请的内容通过引用结合于此。


[0002]本专利技术涉及对用于以光谱方法分析样品的设备的改进，该设备包括用于实现这种改进的部件。更具体地，本专利技术涉及一种用于光学光谱仪的改进的孔或掩模。

技术介绍

[0003]光谱测定技术用于识别样品中目标化学物质或分析物的存在。一些光谱测定技术依赖于分析物与激发源(如光)的相互作用，激发源在可见光谱中或在看不见的波长内。取决于所采用的具体的光谱测定技术，收集的光谱可以显示光束与样品相互作用后样品吸收或发射的光的强度。
[0004]在其他光谱测定技术中，激发源是等离子体源，通常由氩气制成，它向雾化样品提供等离子体能量，使构成原子被激发并发射光。发射的光经由限制进入系统的光的量的入射狭缝或孔被导向进入光谱仪。光学装置色散进入系统的光以分离发射光谱的不同波长。检测器同时记录多个波长范围以捕获发射光谱不同部分的多种元素的发射。检测到的光的光谱分布图中的峰或谷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于以光谱方法分析样品的光谱测定系统，所述系统包括：a.用于与所述样品相互作用的激发源；b.用于检测所述样品吸收或发射的至少一部分光的检测器，所述激发源和检测器经由光路光学耦合；和c.位于所述光路中的孔，所述孔用于限制光从所述激发源到所述检测器的透射；其中所述孔被配置成具有一个或多个几何特征的空间变化分布，所述几何特征在所述孔的边缘周围提供可变透射区域。2.根据权利要求1所述的光谱测定系统，其中所述可变透射区域具有零透射或全透射之一。3.根据权利要求1或2所述的光谱测定系统，其中所述一个或多个几何特征包括一个以上的弯曲边缘，所述弯曲边缘连结以形成连续边缘。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光谱测定系统，其中在所述孔的边缘周围提供可变透射区域的所述一个或多个几何特征是通过形成在所述孔的边缘的至少一部分上的锯齿状部来提供的。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光谱测定系统，其中所述几何特征在所述孔的边缘的至少一部分周围在空间上随机分布。6.根据权利要求4所述的光谱测定系统，其中所述几何特征在所述孔的边缘周围随机分布。7.根据权利要求4至6中任一项所述的光谱测定系统，其中所述几何特征被安排成伪随机的。8.根据权利要求1至7中任一项所述的光谱测定系统，其中通过生成基础掩模来形成孔，其中基础掩模的一个或多个边缘中的每一个通过多个基础掩模点限定，并且所述一个或多个点的位置在所述孔的边缘周围随机变化以形成几何特征，从而在所述孔的边缘周围提供可变透射。9.根据权利要求8所述的光谱测定系统，其中随机改变一个或多个基础掩模点的位置以形成几何特征，从而在所述孔的边缘周围提供可变透射包括以下至少一项：相对于沿着所述孔的边缘的相邻基础点掩模的位置，改变至少一个所述基础掩模点的位置；以及改变至少一个所述基础掩模点相对于所述基础掩模边缘的横向位移。10.根据权利要求1至9中任一项所述的光谱测定系统，其中所述激发源是用于解离和激发所述样品的等离子体源。11.根据权利要求1至10中任一项所述的光谱测定系统，其中所述光谱测定系统是电感耦合等离子体光学发射光谱仪。12...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：安捷伦科技有限公司，
类型：发明
国别省市：