一种半导体行业废水的深度除氟处理系统技术方案

本实用新型专利技术涉及废水处理技术领域，尤其涉及一种半导体行业废水的深度除氟处理系统。其技术方案包括：箱体、第一电机与搅拌轴，箱体的顶部固定安装有第一电机，第一电机两侧的箱体顶部固定安装有第二电机，转轴外围的丝杆之间通过固定架安装有搅拌轴，箱体一侧的表面固定安装有除氟剂入口，除氟剂入口底部的箱体一侧表面固定安装有絮凝剂入口，搅拌轴底部的箱体一侧表面固定安装有电动推杆。本实用新型专利技术通过各种结构的组合使得本装置在工作过程中可以自动快速高效的进行废水处理工作，增加除氟效率与质量，方便工作人员进行使用，可以在废水沉淀过程中将搅拌轴升出废水内部，可以有效避免其对沉淀效果造成影响。免其对沉淀效果造成影响。免其对沉淀效果造成影响。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体行业废水的深度除氟处理系统


[0001]本技术涉及废水处理
，尤其涉及一种半导体行业废水的深度除氟处理系统。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，使用较为广泛，在半导体材料生产加工过程中会产生很多含氟废水，含氟废水之间排放会对环境与人的身体健康造成严重影响，因此需要在排放前对其进行深度除氟处理。
[0003]经检索，专利公告号为CN 214299356 U公开一种含氟废水的深度除氟处理装置，包括支撑底座、搅拌箱、出水口和搅拌架，所述支撑底座顶端的一侧设置有搅拌箱，所述搅拌箱一侧的底端开设有出水口，所述搅拌箱顶端的中间位置处设置有伺服电机，所述搅拌箱顶端的一侧开设有进水口，所述搅拌箱内部的中间位置处设置有搅拌杆。
[0004]现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统存在的缺陷是：
[0005]1、现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统常常需要工作人员手动配置药液进行添加工作，无法自动定量的进行导入处理药液，工作效率不理想，并且分离处理的污泥容易产生残留，清理排出效果不理想；
[0006]2、现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统在进行废水沉淀工作时搅拌轴始终保持在废水中，容易在处理过程中对处理效果造成影响，为此我们提出一种半导体行业废水的深度除氟处理系统来解决现有的问题。

技术实现思路

[0007]本技术的目的是针对
技术介绍
中存在的问题，提出一种半导体行业废水的深度除氟处理系统。
[0008]本技术的技术方案：一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，包括箱体、第一电机与搅拌轴，所述箱体的顶部固定安装有第一电机，且第一电机的底部贯穿箱体安装有转轴，所述第一电机两侧的箱体顶部固定安装有第二电机，且第二电机的底部贯穿箱体安装有丝杆，所述转轴外围的丝杆之间通过固定架安装有搅拌轴，所述搅拌轴内部两侧表面固定安装有限位块，且限位块外围的转轴两侧表面设置有限位槽，所述箱体一侧的表面固定安装有除氟剂入口，所述除氟剂入口底部的箱体一侧表面固定安装有絮凝剂入口，且除氟剂入口与絮凝剂入口的外围皆固定安装有流量计，所述搅拌轴底部的箱体一侧表面固定安装有电动推杆。工作人员在工作时可以将需要处理的废水导入装置内部，然后将除氟剂入口与絮凝剂入口和外界管道相连接，从而将除氟剂导入装置内部，第一电机会带动转轴转动，转轴转动时会因为限位块与限位槽的卡合关系带动搅拌轴一同转动，从而通过搅拌轴对废水进行搅拌工作，使其与除氟剂搅拌混合均匀，然后通过絮凝剂入口将高分子絮
凝剂导入都装置内部，使其与废水继续搅拌混合均匀，高分子絮凝剂会对产生的配合物进行搭桥捕捉，从而快速进行泥水分离沉淀工作以达到深度除氟处理工作，在废水沉淀过程中工作人员可以启动第二电机，第二电机会带动丝杆进行转动，从而通过固定架带动搅拌轴同步进行上下移动工作，搅拌轴会在转轴的限位导向下进行上下移动工作，轴承会在不影响搅拌轴转动的情况下对其位置进行固定，方便工作人员进行调节工作，沉淀完成后水与污泥杂质会分别导出装置内部，电动推杆会带动推板进行左右移动工作，从而将箱体底部残留的杂质一同推到排污口处排出装置内部。
[0009]优选的，所述箱体的表面固定安装有控制板，且控制板一侧的箱体表面固定安装有观察窗。工作人员可以通过控制板对装置内部的所有电器结构进行电性控制，方便工作人员进行使用，工作人员可以通过观察窗对装置内部的工作情况进行观察。
[0010]优选的，所述箱体另一侧的表面固定安装有入水口，且搅拌轴另一侧的箱体底部固定安装有排污口。工作人员可以通过入水口将需要处理的废水导入装置内部，可以通过排污口将处理完成后分离处理的污泥杂质排出装置内部。
[0011]优选的，所述箱体的底部固定安装有底座，且电动推杆外围的底座顶部固定安装有固定块。底座会对整个装置进行固定工作，固定块会将电动推杆牢牢的固定在底座上，增加稳定性。
[0012]优选的，所述电动推杆的另一侧贯穿箱体固定安装有推板，且固定架之间的搅拌轴外围固定安装有轴承。电动推杆会带动推板进行左右移动工作，从而将箱体底部残留的杂质一同推到排污口处排出装置内部，轴承会在不影响搅拌轴转动的情况下对其位置进行固定，方便工作人员进行调节工作。
[0013]优选的，所述第一电机与第二电机外围的箱体顶部固定安装有防护壳，且防护壳的表面固定安装有维修板。防护壳会对第一电机与第二电机进行防护，避免其直接暴露在外导致损坏的情况发生，工作人员可以通过打开维修板对防护壳内部的结构进行维护工作。
[0014]与现有技术相比，本技术具有如下有益的技术效果：
[0015]工作人员在工作时可以将需要处理的废水导入装置内部，然后将除氟剂入口与絮凝剂入口和外界管道相连接，从而将除氟剂导入装置内部，第一电机会带动转轴转动，转轴转动时会因为限位块与限位槽的卡合关系带动搅拌轴一同转动，从而通过搅拌轴对废水进行搅拌工作，使其与除氟剂搅拌混合均匀，然后通过絮凝剂入口将高分子絮凝剂导入都装置内部，使其与废水继续搅拌混合均匀，高分子絮凝剂会对产生的配合物进行搭桥捕捉，从而快速进行泥水分离沉淀工作以达到深度除氟处理工作，在废水沉淀过程中工作人员可以启动第二电机，第二电机会带动丝杆进行转动，从而通过固定架带动搅拌轴同步进行上下移动工作，搅拌轴会在转轴的限位导向下进行上下移动工作，避免搅拌轴始终在废水中影响沉淀工作的情况发生，轴承会在不影响搅拌轴转动的情况下对其位置进行固定，方便工作人员进行调节工作，沉淀完成后水与污泥杂质会分别导出装置内部，电动推杆会带动推板进行左右移动工作，从而将箱体底部残留的杂质一同推到排污口处排出装置内部，增加清洁质量与效率，方便工作人员进行使用。
附图说明
[0016]图1为本技术的立体图；
[0017]图2为本技术的主视图；
[0018]图3为本技术的内部结构示意图；
[0019]图4为本技术的限位块局部结构示意图。
[0020]附图标记：1、箱体；2、除氟剂入口；3、絮凝剂入口；4、流量计；5、电动推杆；6、防护壳；7、控制板；8、底座；9、入水口；10、排污口；11、推板；12、第一电机；13、第二电机；14、转轴；15、丝杆；16、搅拌轴；17、限位块；18、限位槽；19、轴承；20、固定架。
具体实施方式
[0021]下文结合附图和具体实施例对本技术的技术方案做进一步说明。
[0022]实施例一
[0023]如图3
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4所示，本技术提出的一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，包括箱体1、第一电机12与搅拌轴16，箱体1的顶部固定安装有第一电机12，且第一电机12的底部贯穿箱体1安装有转轴14，第一电机12两侧的箱体1顶部固定安装有第二电机13，且第二电机13的底部贯穿箱体1安装有丝杆1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，包括箱体(1)、第一电机(12)与搅拌轴(16)，其特征在于：所述箱体(1)的顶部固定安装有第一电机(12)，且第一电机(12)的底部贯穿箱体(1)安装有转轴(14)，所述第一电机(12)两侧的箱体(1)顶部固定安装有第二电机(13)，且第二电机(13)的底部贯穿箱体(1)安装有丝杆(15)，所述转轴(14)外围的丝杆(15)之间通过固定架(20)安装有搅拌轴(16)，所述搅拌轴(16)内部两侧表面固定安装有限位块(17)，且限位块(17)外围的转轴(14)两侧表面设置有限位槽(18)，所述箱体(1)一侧的表面固定安装有除氟剂入口(2)，所述除氟剂入口(2)底部的箱体(1)一侧表面固定安装有絮凝剂入口(3)，且除氟剂入口(2)与絮凝剂入口(3)的外围皆固定安装有流量计(4)，所述搅拌轴(16)底部的箱体(1)一侧表面固定安装有电动推杆(5)。2.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：周森，贾燕敏，毛颖，刘伟，赵志强，李政，赵法振，高超，
申请(专利权)人：山东环瑞生态科技有限公司，
类型：新型
国别省市：