一种半导体行业废水的深度除氟处理系统技术方案

本实用新型专利技术涉及废水处理技术领域，尤其涉及一种半导体行业废水的深度除氟处理系统。其技术方案包括：箱体、第一电机与搅拌轴，箱体的顶部固定安装有第一电机，第一电机两侧的箱体顶部固定安装有第二电机，转轴外围的丝杆之间通过固定架安装有搅拌轴，箱体一侧的表面固定安装有除氟剂入口，除氟剂入口底部的箱体一侧表面固定安装有絮凝剂入口，搅拌轴底部的箱体一侧表面固定安装有电动推杆。本实用新型专利技术通过各种结构的组合使得本装置在工作过程中可以自动快速高效的进行废水处理工作，增加除氟效率与质量，方便工作人员进行使用，可以在废水沉淀过程中将搅拌轴升出废水内部，可以有效避免其对沉淀效果造成影响。免其对沉淀效果造成影响。免其对沉淀效果造成影响。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体行业废水的深度除氟处理系统


[0001]本技术涉及废水处理
，尤其涉及一种半导体行业废水的深度除氟处理系统。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，使用较为广泛，在半导体材料生产加工过程中会产生很多含氟废水，含氟废水之间排放会对环境与人的身体健康造成严重影响，因此需要在排放前对其进行深度除氟处理。
[0003]经检索，专利公告号为CN 214299356 U公开一种含氟废水的深度除氟处理装置，包括支撑底座、搅拌箱、出水口和搅拌架，所述支撑底座顶端的一侧设置有搅拌箱，所述搅拌箱一侧的底端开设有出水口，所述搅拌箱顶端的中间位置处设置有伺服电机，所述搅拌箱顶端的一侧开设有进水口，所述搅拌箱内部的中间位置处设置有搅拌杆。
[0004]现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统存在的缺陷是：
[0005]1、现有的半导体行业废水的深度除氟处理系统常常需要工作人员手动配置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，包括箱体(1)、第一电机(12)与搅拌轴(16)，其特征在于：所述箱体(1)的顶部固定安装有第一电机(12)，且第一电机(12)的底部贯穿箱体(1)安装有转轴(14)，所述第一电机(12)两侧的箱体(1)顶部固定安装有第二电机(13)，且第二电机(13)的底部贯穿箱体(1)安装有丝杆(15)，所述转轴(14)外围的丝杆(15)之间通过固定架(20)安装有搅拌轴(16)，所述搅拌轴(16)内部两侧表面固定安装有限位块(17)，且限位块(17)外围的转轴(14)两侧表面设置有限位槽(18)，所述箱体(1)一侧的表面固定安装有除氟剂入口(2)，所述除氟剂入口(2)底部的箱体(1)一侧表面固定安装有絮凝剂入口(3)，且除氟剂入口(2)与絮凝剂入口(3)的外围皆固定安装有流量计(4)，所述搅拌轴(16)底部的箱体(1)一侧表面固定安装有电动推杆(5)。2.根据权利要求1所述的一种半导体行业废水的深度除氟处理系统，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：周森，贾燕敏，毛颖，刘伟，赵志强，李政，赵法振，高超，
申请(专利权)人：山东环瑞生态科技有限公司，
类型：新型
国别省市：